一种测井井眼环境校正方法、系统、装置与介质与流程

文档序号:37645654发布日期:2024-04-18 18:12阅读:25来源:国知局
一种测井井眼环境校正方法、系统、装置与介质与流程

本技术涉及钻井测量,尤其是一种测井井眼环境校正方法、系统、装置与存储介质。


背景技术:

1、密度曲线是地震反演和岩石物理建模不可缺少的弹性参数之一,而且由于井眼扩径等环境因素的影响,大多扩径井段密度测井都会出现异常低值,为了校正井眼对密度测井曲线的影响,现有技术中主要通过测量地层密度和计算地层孔隙度,并通过两个参数对测井曲线进行校正。但是,随着井眼的扩大或井壁的变化,密度测井曲线也产生变化,往往使密度测井曲线陡然下降,导致测出的地层密度值准确度比较低。因此,相关技术中仍存在需要解决的技术问题。


技术实现思路

1、本技术的目的在于至少一定程度上解决现有技术中存在的技术问题之一。

2、为此,本技术实施例的一个目的在于提供一种测井井眼环境校正方法、系统、装置与存储介质,该方法可以提高准确度。

3、为了达到上述技术目的,本技术实施例所采取的技术方案包括:一种测井井眼环境校正方法,包括获取测井的初始地层密度、井眼垮塌深度、泥质含量、泥质密度、短源距探测深度、长源距探测深度、测井泥浆密度、岩石骨架密度、测井内未垮塌部分地层的孔隙流体密度以及测井内未垮塌部分地层的孔隙度;根据所述长源距探测深度、所述井眼垮塌深度、所述测井泥浆密度、所述岩石骨架密度、所述孔隙流体密度以及所述孔隙度,确定长源距探测器的第一密度响应参数;根据所述短源距探测深度、所述井眼垮塌深度、所述测井泥浆密度、所述岩石骨架密度、所述孔隙流体密度以及所述孔隙度,确定短源距探测器的第二密度响应参数;根据所述长源距探测深度、所述短源距探测深度、所述第一密度响应参数以及所述第二密度响应参数,确定解释层段中孔隙度最大的纯地层密度;根据所述初始地层密度、所述泥质含量、所述泥质密度以及所述纯地层密度,确定校正后的目标地层密度。

4、另外,根据本发明中上述实施例的一种测井井眼环境校正的方法,还可以有以下附加的技术特征:

5、进一步地,本技术实施例中,所述根据所述初始地层密度、所述泥质含量、所述泥质密度以及所述纯地层密度,确定校正后的目标地层密度这一步骤,具体包括:根据所述初始地层密度、所述泥质含量、所述泥质密度以及所述纯地层密度,确定第一地层密度;根据所述初始地层密度以及所述第一地层密度,确定所述目标地层密度。

6、进一步地,本技术实施例中,所述根据所述初始地层密度、所述泥质含量、所述泥质密度以及所述纯地层密度,确定第一地层密度这一步骤,具体包括:将所述初始地层密度、所述泥质含量、所述泥质密度以及所述纯地层密度输入至预设的地层密度确定公式,确定所述第一地层密度;其中地层密度确定公式为:

7、denmin=vsh*densh+(1-vsh*ρb)*den

8、其中denmin为第一地层密度,vsh为泥质含量,densh为泥质密度,den为初始地层密度,ρb为纯地层密度。

9、进一步地,本技术实施例中,所述根据所述初始地层密度以及所述第一地层密度,确定所述目标地层密度这一步骤,具体包括:确定初始地层密度以及所述第一地层密度的大小关系;当所述初始地层密度大于或者等于所述第一地层密度,以所述初始地层密度作为所述目标地层密度;当所述初始地层密度小于所述第一地层密度,以所述第一地层密度作为所述目标地层密度。

10、进一步地,本技术实施例中,所述根据所述长源距探测深度、所述井眼垮塌深度、所述测井泥浆密度、所述岩石骨架密度、所述孔隙流体密度以及所述孔隙度,确定长源距探测器的第一密度响应参数这一步骤,具体包括:将所述长源距探测深度、所述井眼垮塌深度、所述测井泥浆密度、所述岩石骨架密度、所述孔隙流体密度以及所述孔隙度输入预设的第一密度响应参数计算公式,确定长源距探测器的第一密度响应参数;

11、所述第一密度响应参数计算公式包括:

12、

13、其中ρl为第一密度响应参数,ρ1为测井泥浆密度,ρma为岩石骨架密度,ρf为孔隙流体密度,l 1为井眼垮塌深度,l’为长源距探测深度,为孔隙度。

14、进一步地,本技术实施例中,所述根据所述短源距探测深度、所述井眼垮塌深度、所述测井泥浆密度、所述岩石骨架密度、所述孔隙流体密度以及所述孔隙度,确定短源距探测器的第二密度响应参数这一步骤,具体包括:将所述短源距探测深度、所述井眼垮塌深度、所述测井泥浆密度、所述岩石骨架密度、所述孔隙流体密度以及所述孔隙度输入预设的第二密度响应参数计算公式,确定短源距探测器的第二密度响应参数;

15、所述第二密度响应参数计算公式包括:

16、

17、其中ρs为第二密度响应参数,ρ1为测井泥浆密度,ρma为岩石骨架密度,ρf为孔隙流体密度,l 1为井眼垮塌深度,l为短源距探测深度,为孔隙度。

18、进一步地,本技术实施例中,所述根据所述长源距探测深度、所述短源距探测深度、所述第一密度响应参数以及所述第二密度响应参数,确定解释层段中孔隙度最大的纯地层密度这一步骤,具体包括:将所述长源距探测深度、所述短源距探测深度、所述第一密度响应参数以及所述第二密度响应参数输入至预设的地层密度公式,确定解释层段中孔隙度最大的纯地层密度;

19、所述地层密度公式为:

20、

21、其中ρb为解释层段中孔隙度最大的纯地层密度,ρs为第二密度响应参数,ρl为第一密度响应参数,l’为长源距探测深度,l为短源距探测深度。

22、另一方面,本技术实施例还提供一种测井井眼环境校正系统,包括:

23、获取单元,用于用于获取测井的初始地层密度、井眼垮塌深度、泥质含量、泥质密度、短源距探测深度、长源距探测深度、测井泥浆密度、岩石骨架密度、测井内未垮塌部分地层的孔隙流体密度以及测井内未垮塌部分地层的孔隙度;

24、第一处理单元,用于根据所述长源距探测深度、所述井眼垮塌深度、所述测井泥浆密度、所述岩石骨架密度、所述孔隙流体密度以及所述孔隙度,确定长源距探测器的第一密度响应参数;

25、第二处理单元,用于根据所述短源距探测深度、所述井眼垮塌深度、所述测井泥浆密度、所述岩石骨架密度、所述孔隙流体密度以及所述孔隙度,确定短源距探测器的第二密度响应参数;

26、第三处理单元,用于根据所述长源距探测深度、所述短源距探测深度、所述第一密度响应参数以及所述第二密度响应参数,确定解释层段中孔隙度最大的纯地层密度;

27、第四处理单元,用于根据所述初始地层密度、所述泥质含量、所述泥质密度以及所述纯地层密度,确定校正后的目标地层密度。

28、另一方面,本技术还提供一种测井井眼环境校正装置,包括:

29、至少一个处理器;

30、至少一个存储器,用于存储至少一个程序;

31、当所述至少一个程序被所述至少一个处理器执行,使得所述至少一个处理器实现如前面所述一种测井井眼环境校正方法。

32、此外,本技术还提供一种存储介质,其中存储有处理器可执行的指令,所述处理器可执行的指令在由处理器执行时用于执行如前面所述一种测井井眼环境校正方法。

33、本技术的优点和有益效果将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本技术的实践了解到:

34、本技术可以通过长源距探测深度、井眼垮塌深度、测井泥浆密度、岩石骨架密度、孔隙流体密度以及孔隙度,确定长源距探测器的第一密度响应参数;通过短源距探测深度、井眼垮塌深度、测井泥浆密度、岩石骨架密度、孔隙流体密度以及孔隙度,确定短源距探测器的第二密度响应参数;然后通过长源距探测深度、短源距探测深度、第一密度响应参数以及第二密度响应参数,确定解释层段中孔隙度最大的纯地层密度;最后通过初始地层密度、泥质含量、泥质密度以及纯地层密度,确定校正后的目标地层密度,本技术在确定最终的目标地层密度时充分考虑测井的扩大或井壁的变化,在计算时加入长源距探测深度、井眼垮塌深度、测井泥浆密度、岩石骨架密度、孔隙流体密度以及孔隙度等测井的参数,可以提高地层密度的计算准确度。

当前第1页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1