核瞬态反应波纹管调压器的制作方法

文档序号:13313725阅读:263来源:国知局
核瞬态反应波纹管调压器的制作方法

本实用新型属于调压器技术领域,涉及一种核瞬态反应波纹管调压器。



背景技术:

核瞬态反应调压器为承压密封腔体,腔体被波纹管和活塞分割成内外两侧,内外两侧分别连接两种不同的气体,活塞推动波纹管在4.5MPa的压力条件下进行拉伸和压缩,通常在高压的使用条件下,波纹管容易发生弯曲变形,弯曲后贴在调压器腔体的内壁上,导致波纹管的焊道遭到损坏,最终使调压器极易出现泄漏及损坏的问题。



技术实现要素:

本实用新型以解决上述问题为目的,旨在提供一种在高压工况的情况下使用的核瞬态反应波纹管调压器,能够减少波纹管调压器冲放气循环使用时出现泄漏和损坏的情况。

为解决上述技术问题,本实用新型是这样实现的:

核瞬态反应波纹管调压器,为承压密封腔体,该调压器包括气缸体,气缸盖,密封护罩,气缸轴,定位导向杆,动法兰,波纹管,支撑环及超高真空法兰;所述气缸体为内部中空的圆筒形状,所述气缸盖为圆筒形状,所述气缸盖中心设有中心孔,上表面为圆环形平面,下表面上设有圆环凸台,圆环凸台两侧形成第一平台及第二平台;所述密封护罩底部密封固定在所述气缸盖中心孔的外周,第二平台与气缸体顶部密封固定,并且气缸体的内周壁与圆环凸台外周壁密封固定,所述超高真空法兰外周固定在所述气缸体最底端的内壁上,所述密封护罩、气缸盖、气缸体及超高真空法兰之间形成密封腔体;

所述气缸体内部设有波纹管,所述波纹管顶端与所述动法兰底部相固定,所述波纹管底端与超高真空法兰固定,所述动法兰包括圆形法兰盘及位于圆形法兰盘中心的通孔,所述圆形法兰盘上表面设有圆环形状的凸台,所述凸台的两侧形成第三平台及第四平台;

所述定位导向杆底端焊接固定在超高真空法兰的中心,顶端穿过动法兰的通孔及气缸盖的中心孔向上延伸至密封护罩内部的下方,所述气缸轴安装在密封护罩内,气缸轴底部与动法兰的第三平台固定成一体构成活塞并套装在定位导向杆外壁上,在气缸体内沿定位导向杆上下运动;

所述波纹管间安装多个相互平行的支撑环,所述支撑环包括圆盘体,所述圆盘体的中心设有中心孔A,自中心孔A向上延伸设有圆筒状的凸起环,所述圆盘体的外周与波纹管焊接固定,中心孔A套装在所述定位导向杆上,所述凸起环的高度为15-20mm,且圆盘体在凸起环外的圆周方向上均匀分布多个通气孔。

进一步地,所述超高真空法兰包括圆形法兰盘A,所述圆形法兰盘A沿外周向中心方向依次设有环状的第六平台及第五平台,所述定位导向杆底端焊接固定在圆形法兰盘A中心,所述波纹管底端固定在所述第五平台上。

进一步地,所述密封护罩、气缸盖与气缸轴之间的缝隙内安装导向轴套,所述密封护罩的底端内壁向内凹设有用于固定导向轴套的环槽,所述导向轴套包括套筒及设在套筒外周径向的凸环,所述凸环嵌入固定在所述环槽内,套筒套装在气缸轴外壁,气缸轴沿套筒内壁上下滑动,所述套筒上沿轴向开设多个通气孔A,使导向轴套两侧的压强保持一致。

进一步地,所述气缸盖在密封护罩的外周开设多个均匀分布在气缸盖圆周方向的波纹管外部气体通道,所述超高真空法兰的圆形法兰盘A上开设一波纹管内部气体通道。

进一步地,所述第五平台的上表面高于第六平台的上表面。

进一步地,所述动法兰外周壁与气缸体内壁之间的空隙等于所述第六平台的宽度,所述气缸体圆环凸台的宽度等于所述动法兰的第四平台与第六平台的宽度之和。

进一步地,所述波纹管为碟片式焊接波纹管。

进一步地,所述动法兰上表面凸台的高度小于气缸盖下表面圆环凸台的高度。

进一步地,所述气缸体底部向外延伸构成外沿,所述外沿上设有与外接件配合的安装孔。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果在于:本实用新型调压器波纹管间设计多个带有凸台的支撑环,可在波纹管压缩过程中进行压缩定位,从而保护波纹管不过分压缩,因此,波纹管在充气和放气的过程中,不会出现失稳、拉压变形、扭转变形,活塞推动波纹管的动力学特性稳定,无频跳、振动、卡阻现象,在极高压力条件的使用工况的情况下,减少波纹管调压器冲放气循环使用时出现泄漏和损坏的情况。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是本实用新型波纹管压缩的结构示意图;

图3是本实用新型支撑环的结构示意图;

图4是本实用新型超高真空法兰的结构示意图;

图5是本实用新型动法兰的结构示意图;

图6是本实用新型导向轴套的结构示意图;

图中,1-气缸体,2-气缸盖,3-密封护罩,4-气缸轴,5-定位导向杆,6-动法兰,7-波纹管,8-支撑环,9-超高真空法兰,10-导向轴套,11-环槽,12-外沿,13-安装孔,21-中心孔,22-圆环凸台,23-第一平台,24-第二平台,25-波纹管外部气体通道,61-凸台,62-第三平台,63-第四平台,64-通孔,65-圆形法兰盘,81-圆盘体,82-中心孔A,83-凸起环,84-通气孔,91-圆形法兰盘A,92-第五平台,93-第六平台,94-波纹管外部气体通道,101-套筒,102-凸环,103-通气孔A。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

如图1-2所示,核瞬态反应波纹管调压器,为承压密封腔体,该调压器包括气缸体1,气缸盖2,密封护罩3,气缸轴4,定位导向杆5,动法兰6,波纹管7,支撑环8及超高真空法兰9;气缸体1为内部中空的圆筒形状,气缸盖2为圆筒形状,所述气缸盖2中心设有中心孔21,气缸盖2的上表面为圆环形平面,下表面上设有圆环凸台22,圆环凸台22两侧形成第一平台23及第二平台24;所述密封护罩3底部密封固定在所述气缸盖2中心孔21的外周,第二平台24与气缸体1顶部密封固定,并且气缸体1的内周壁与圆环凸台22外周壁密封固定,所述超高真空法兰9外周固定在所述气缸体1最底端的内壁上,密封护罩3、气缸盖2、气缸体1及超高真空法兰9之间形成密封腔体;

气缸体1内部设有波纹管7,波纹管7顶端与动法兰6底部相固定,所述波纹管7底端与超高真空法兰9固定;

如图5所示,所述动法兰6包括圆形法兰盘65及位于圆形法兰盘65中心的通孔64,所述圆形法兰盘65上表面设有圆环形状的凸台61,所述凸台61的两侧形成第三平台62及第四平台63;

圆柱形的定位导向杆5底端焊接固定在超高真空法兰9的中心,顶端穿过动法兰6的通孔64及气缸盖2的中心孔21向上延伸至密封护罩3内部的下方,气缸轴4安装在密封护罩3内,气缸轴4底部与动法兰6的第三平台62固定成一体构成活塞并套装在定位导向杆5外壁上,在气缸体1内沿定位导向杆5上下运动;

波纹管7间安装多个相互平行的支撑环8,本实施例中所用支撑环8为不锈钢材质,支撑环8包括圆盘体81,圆盘体81的中心设有中心孔A82,自中心孔A82向上延伸设有圆筒状的凸起环83,所述圆盘体81的外周与波纹管7焊接固定,中心孔A82套装在所述定位导向杆5上,凸起环83的高度为15-20mm,一方面凸起环83对波纹管在高压条件下拉伸和压缩时起到保护作用,另一方面,在波纹管压缩时起到压缩定位的作用,使波纹管不会过分压缩,另外,圆盘体81在凸起环外的圆周方向上均匀分布多个通气孔84,保持支撑环的内外压强一致。

如图4所示,在本实施例中,超高真空法兰9包括圆形法兰盘A91,所述圆形法兰盘A91沿外周向中心方向依次设有环状的第六平台93及第五平台92,所述定位导向杆底端焊接固定在圆形法兰盘A中心,所述波纹管7底端固定在所述第五平台92上。

本实施例中,密封护罩3、气缸盖2与气缸轴4之间的缝隙内安装导向轴套10,密封护罩3底端内壁向内凹设有用于固定导向轴套10的环槽11,如图6所示,导向轴套10包括套筒101及设在套筒外周径向的凸环102,所述凸环102嵌入固定在所述环槽11内,套筒101套装在气缸轴4外壁,气缸轴4沿导向轴套10的套筒101内壁上下滑动,所述套筒101上沿轴向开设多个通气孔A103,目的是使导向轴套10两侧的压强保持一致。

本实施例中,气缸盖在密封护罩的外周开设多个均匀分布在气缸盖圆周方向的孔型的波纹管外部气体通道25,超高真空法兰9的圆形法兰盘A91上开设一孔型的波纹管内部气体通道94。

本实施例中,第五平台92的上表面高于第六平台93的上表面,第五平台92的宽度与波纹管7的波片直径。

本实施例中,动法兰6外周壁与气缸体1内壁之间的空隙等于所述第六平台93的宽度,所述气缸体圆环凸台的宽度等于所述动法兰的第四平台63与第六平台93的宽度之和。

为了增强波纹管的弹性,本实施例中波纹管7采用碟片式焊接波纹管。

参照图1-图2,本实施例中动法兰6上表面凸台61的高度小于气缸盖2下表面圆环凸台22的高度,使动法兰6的第四平台63上表面与圆环凸台22下表面接触时气缸盖2第一平台23与动法兰凸台62之间有间隙,使外部气体可以从波纹管外部气体通道25进入气缸体内。

本实施例中,气缸体1底部向外周延伸构成外沿12,所述外沿12上设有与外接件配合的安装孔13。

使用时,调压器的密封腔体被波纹管7和气缸轴4与动法兰6构成的活塞分割成内外两侧,内外两侧分别连接两种不同的气体,一种气体从波纹管外部气体通道25进入,另一种气体从波纹管内部气体通道94进入,活塞推动波纹管在4.5MPa的压力条件下进行拉伸和压缩,由于本实用新型在波纹管7间水平安装多个支撑环8,有效地避免了波纹管在充气和放弃的过程中出现失稳、拉压变形、扭转变形的问题,经过寿命试验,波纹管调压器冲放气循环使用可以高达1500次不出现泄漏和损坏。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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