触控基板及其制作方法、触控显示装置与流程

技术特征：

1.一种触控基板，包括：

承载基板；

触控电极层，其设置于所述承载基板上并且包括第一触控电极，其中，所述第一触控电极的侧面相对于所述承载基板倾斜；以及

减反层，其设置于所述承载基板上并且包括减反部，其中，所述减反部覆盖所述第一触控电极的侧面，并且所述减反部与所述第一触控电极组成的膜层的折射率小于所述第一触控电极的折射率。

2.根据权利要求1所述的触控基板，其中，所述减反部包括第一层，对于从所述减反部的远离所述第一触控电极的一侧照射到所述减反部上的入射光，所述第一层的厚度d₁与其折射率n₁之乘积为λ/4的奇数倍，其中，λ为所述入射光的波长。

3.根据权利要求2所述的触控基板，其中，所述减反部为单层膜结构，所述减反部的折射率小于所述第一触控电极的折射率。

4.根据权利要求3所述的触控基板，其中，

所述减反部与所述第一触控电极直接接触；或者

所述触控基板还包括透明中间层，所述透明中间层设置于所述减反部与所述第一触控电极之间，所述透明中间层的折射率等于所述第一触控电极的折射率。

5.根据权利要求3所述的触控基板，其中，

所述减反部的远离所述第一触控电极的一侧为空气，所述减反部的折射率n₁与所述第一触控电极的折射率n的关系为：或者

所述触控基板还包括覆盖所述减反部的透明薄膜，所述透明薄膜的折射率n₀、所述减反部的折射率n₁和所述第一触控电极的折射率n的关系为：

6.根据权利要求2所述的触控基板，其中，所述减反部还包括第二层，所述第二层位于所述第一层与所述第一触控电极之间；并且

所述第二层的厚度d₂与其折射率n₂之乘积为λ/4的奇数倍，所述第二层的折射率大于所述第一层的折射率；或者，所述第二层的厚度d₂与其折射率n₂之乘积为λ/4的偶数倍，所述第一层的折射率小于所述第一触控电极的折射率。

7.根据权利要求6所述的触控基板，其中，在所述第二层的厚度d₂与其折射率n₂之乘积为λ/4的奇数倍的情况下，所述第二层的折射率大于所述第一触控电极的折射率。

8.根据权利要求2所述的触控基板，其中，所述减反部包括多个层叠设置的复合层，每个复合层都包括所述第一层和折射率大于所述第一层的折射率的第二层，每个复合层的第二层都设置于所述复合层的第一层与所述第一触控电极之间。

9.根据权利要求2所述的触控基板，其中，所述第一层的折射率大于1且小于2。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的触控基板，其中，所述第一触控电极的折射率大于1.5。

11.根据权利要求1至9中任一项所述的触控基板，其中，所述减反部的远离所述第一触控电极的表面平行于所述第一触控电极的被所述减反部覆盖的侧面。

12.根据权利要求1至9中任一项所述的触控基板，其中，所述减反层还包括覆盖所述第一触控电极的顶面的部分。

13.根据权利要求1至9中任一项所述的触控基板，还包括：

黑矩阵，其设置于所述承载基板上，并且位于所述第一触控电极的面向所述承载基板的一侧。

14.根据权利要求1至9中任一项所述的触控基板，其中，所述第一触控电极包括多个沿第一方向依次排列且相互连接的子电极，每个子电极包括块状主体部以及与所述块状主体部连接的延伸部，至少在所述延伸部的侧面设置有所述减反层。

15.根据权利要求14所述的触控基板，其中，所述触控电极层还包括第二触控电极，所述第二触控电极沿第二方向延伸，所述第二方向与所述第一方向相交。

16.一种触控显示装置，包括权利要求1至15中任一项所述的触控基板。

17.根据权利要求16所述的触控显示装置，还包括显示面板，其中，所述显示面板包括彼此相对设置的阵列基板和对置基板，所述触控基板包括的第一触控电极和减反层都设置于所述对置基板的远离所述阵列基板的一侧。

18.一种触控基板的制作方法，包括：

在承载基板上形成触控电极层，其中，所述触控电极层包括第一触控电极，所述第一触控电极的侧面相对于所述承载基板倾斜；以及

在所述第一触控电极上形成减反层，其中，所述减反层包括减反部，所述减反部覆盖所述第一触控电极的侧面，并且所述减反部与所述第一触控电极组成的膜层的折射率小于所述第一触控电极的折射率。