本发明的实施例涉及一种触控屏及其制备方法。
背景技术：
在触控领域中，采用金属网格作为触控屏的驱动电极和感应电极的方法已被广泛地应用。
但是，当金属网格应用于触控屏中时，金属网格往往分布在不同的层，避免不了地会出现金属线与金属线之间的交叉、金属线与黑矩阵层之间的交叉，从而带来很多问题，例如：摩尔纹问题、光透过率的问题等。
目前，仅通过降低金属网格线的线宽来解决摩尔纹问题和光透过率的问题。但是，由于金属网格的结构限制，仅仅只降低金属网格线的线宽会造成制作工艺难度和制作成本的增加，并且将金属网格线的线宽降得很低极易造成金属线断裂、抗静电击穿能力差等问题。
技术实现要素：
本发明至少一实施例提供一种触控屏及其制备方法。在该触控屏中，感应电极和驱动电极设计成相互平行且交错排布的线栅结构，从而避免了形成感应电极的第一导电线和形成驱动电极的第二导电线交叉带来的摩尔纹问题，同时也可以实现触控功能。
本发明至少一实施例提供一种触控屏，包括：衬底基板、设置在所述衬底基板上的驱动电极和感应电极，其中，所述驱动电极包括多条平行设置的第一导电线和连接多条所述第一导电线的第一导电总线；所述感应电极包括多条平行设置的第二导电线和连接多条所述第二导电线的第二导电总线；多条所述第一导电线和多条所述第二导电线相互交错平行排布。
例如，本发明一实施例提供的触控屏还包括：设置在所述衬底基板上的黑矩阵，其中，所述第一导电总线和所述第二导电总线在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影内。
例如，在本发明一实施例提供的触控屏中，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影包括相交的第一边和第二边，多条所述第一导电线和多条所述第二导电线与所述第一边平行，所述第一导电总线和所述第二导电总线与所述第二边平行。
例如，本发明一实施例提供的触控屏还包括彩色滤光层，多条所述第一导电线和多条所述第二导电线在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵和所述彩色滤光层在所述衬底基板上的正投影内。
例如，在本发明一实施例提供的触控屏中，每条所述第一导电线的线宽为50～140nm，每条所述第二导电线的线宽为50～140nm。
例如，在本发明一实施例提供的触控屏中，所述第一导电线和所述第二导电线中相邻两条导电线之间的距离为50～140nm。
例如，本发明一实施例提供的触控屏，还包括：在所述衬底基板设置的栅线和数据线，其中，所述第一导电线和所述第二导电线与所述数据线平行，所述第一导电总线和所述第二导电总线与所述栅线平行，或者所述第一导电线和所述第二导电线与所述栅线平行，所述第一导电总线和所述第二导电总线与所述数据线平行。
例如，本发明一实施例提供的触控屏，还包括：与所述衬底基板相对设置的阵列基板，其中，所述阵列基板包括栅线和数据线，所述第一导电线和所述第二导电线与所述数据线平行，所述第一导电总线和所述第二导电总线与所述栅线平行，或者所述第一导电线和所述第二导电线与所述栅线平行，所述第一导电总线和所述第二导电总线与所述数据线平行。
例如，在本发明一实施例提供的触控屏中，多条所述第一导电线和多条所述第二导电线在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影内。
例如，在本发明一实施例提供的触控屏中，每条所述第一导电线和每条所述第二导电线的线宽为50nm～10μm。
例如，在本发明一实施例提供的触控屏中，多条所述相邻的第一导电线中至少每两条构成一第一导电线组和多条所述相邻的第二导电线中至少每两条构成一第二导电线组，所述第一导电线组和所述第二导电线组相互交错平行排布。
例如，在本发明一实施例提供的触控屏中，所述第一导电总线和所述第二导电总线沿所述黑矩阵的所述第二边的方向上的距离为2.5～3.5mm。
例如，在本发明一实施例提供的触控屏中，相邻的两条所述第一导电总线沿所述黑矩阵的所述第二边的方向上的距离为7.5～8.5mm。
例如，在本发明一实施例提供的触控屏中，多条所述第一导电线和多条所述第二导电线设置在同一层。
例如，在本发明一实施例提供的触控屏中，多条所述第一导电线和多条所述第二导电线设置在不同层，多条所述第一导电线和多条所述第二导电线之间还设置有绝缘层。
本发明至少一实施例还提供一种触控屏的制备方法，包括：提供衬底基板，在所述衬底基板上形成驱动电极和感应电极，其中，所述驱动电极包括多条平行设置的第一导电线和连接多条所述第一导电线的第一导电总线，所述感应电极包括多条平行设置的第二导电线和连接多条所述第二导电线的第二导电总线，并且多条所述第一导电线和多条所述第二导电线相互平行。
例如，在本发明一实施例提供的触控屏的制备方法中，采用纳米压印或者全息光刻的方法形成所述第一导电线和所述第二导电线。
例如，本发明一实施例提供的触控屏的制备方法还包括：在所述衬底基板上形成黑矩阵，其中，所述第一导电总线和所述第二导电总线在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影内。
例如，在本发明一实施例提供的触控屏的制备方法中，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影包括相交的第一边和第二边，多条所述第一导电线和多条所述第二导电线与所述第一边平行，所述第一导电总线和所述第二导电总线与所述第二边平行。
例如，本发明一实施例提供的触控屏的制备方法还包括：在所述衬底基板上形成彩色滤光层，其中，多条所述第一导电线和多条所述第二导电线在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵和所述彩色滤光层在所述衬底基板上的正投影内。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制。
图1为本发明一实施例提供的一种触控屏的平面结构示意图；
图2为本发明一实施例提供的再一种触控屏的平面结构示意图；
图3为图2中触控屏局部放大的平面结构示意图；
图4为本发明一实施例提供的又一种触控屏的平面结构示意图；
图5为本发明一实施例提供的一种设置在彩膜基板上的触控屏的截面结构示意图；
图6为本发明一实施例提供的又一种触控屏的平面结构示意图；
图7为本发明一实施例提供的一种设置在阵列基板上的触控屏的平面结构示意图；
图8a-8h为本发明一实施例提供的一种导电线的制备方法过程图。
附图标记：
100-触控屏；101-衬底基板；102-驱动电极；1021-第一导电线；1022-第一导电总线；103-感应电极；1031-第二导电线；1032-第二导电总线；104-黑矩阵；105-彩色滤光层；106-栅线；107-数据线；108-第一绝缘层；109-第二绝缘层；201-玻璃基板；202-金属薄膜；203-介质层；204-光刻胶层；205-模板；206-保护层薄膜。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
本发明至少一实施例提供一种触控屏及其制备方法，该触控屏包括：衬底基板，设置在衬底基板上的驱动电极和感应电极，其中，驱动电极包括多条平行设置的第一导电线和连接多条第一导电线的第一导电总线；感应电极包括多条平行设置的第二导电线和连接多条第二导电线的第二导电总线；多条第一导电线和多条第二导电线相互交错平行排布。
在该触控屏中，感应电极和驱动电极设计成相互平行且交错排布的线栅结构，可以避免感应电极线和驱动电极线交叉带来的摩尔纹问题，同时也可以实现触控功能。
下面通过几个实施例进行说明。
实施例一
本实施例提供一种触控屏，图1为本实施例提供的一种触控屏的结构示意图。如图1所示，该触控屏包括：衬底基板101以及设置在衬底基板101上的驱动电极102和感应电极103，其中，驱动电极102包括多条平行设置的第一导电线1021和连接多条第一导电线1021的第一导电总线1022；感应电极103包括多条平行设置的第二导电线1031和连接多条第二导电线1031的第二导电总线1032；多条第一导电线1021和多条第二导电线1031相互交错平行排布。
例如，如图1所示，除边缘处外，多条第一导电线中的每条第一导电线1021均设置在多条第二导电线中相邻两条第二导电线1031之间，多条第二导电线中的每条第二导电线1031均设置在多条第一导电线中相邻两条第一导电线1021之间。即每条第一导电线1021均与第二导电线1031相邻，每条第二导电线1031均与第一导电线1021相邻。
例如，在满足触控功能且精确定位的前提下，相邻的两条第一导电线1021之间可以间隔一条、两条或者多条第二导电线1031，和/或相邻的两条第二导电线1031之间可以间隔一条、两条或者多条第一导电线1021，在此不做限制，即第一导电线和第二导电线不是严格的一一对应地设置。
例如，多条第一导电线和多条第二导电线中每条导电线的宽度、相邻两条导电线之间的距离不是固定不变的，可以是50nm～10μm之间任意的尺寸。
例如，图2为本实施例提供的再一种触控屏的结构示意图。如图2所示，多条相邻的第一导电线1021设置成一组，多条相邻的第二导电线1031设置成另一组，两组导电线交错设置。每组第一导电线1021和每组第二导电线1031一一对应地设置。
例如，在满足触控功能且精确定位的前提下，相邻的两组第一导电线1021之间可以间隔一组、两组或者多组第二导电线1031，或者相邻的两组第二导电线1031之间可以间隔一组、两组或者多组第一导电线1021，在此不做限制，即每组第一导电线和每组第二导电线不是一一对应地设置。
例如，每组第一导电线和每组第二导电线中导电线的条数也不是固定不变的，导电线的宽度、相邻两条导电线之间的距离也不是固定不变的。
例如，图3为图2中所示的触控屏局部放大的平面结构示意图，放大区域为如图2中虚线矩形框所示的区域。如图3所示，该触控屏还包括：设置在衬底基板101上的黑矩阵104，其中，第一导电总线1022和第二导电总线1032在衬底基板101上的正投影位于黑矩阵104在衬底基板101上的正投影内。即第一导电总线1022和第二导电总线1032设置在黑矩阵104所对应的区域内不会遮挡光线，从而不会影响光的透过率和开口率的大小。
例如，如图3所示，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影包括相交的第一边和第二边，多条第一导电线1021、多条第二导电线1031均与黑矩阵104的第一边平行，第一导电总线1022、第二导电总线1032均与黑矩阵104的第二边平行，且第一导电总线1022、第二导电总线1032、多条第一导电线1021和多条第二导电线1031均设置在黑矩阵104所对应的区域内不会遮挡光线，从而不会影响光的透过率和开口率的大小。
例如，该触摸屏还包括彩色滤光层105，彩色滤光层105包括彩色滤光单元(例如红色滤光单元、绿色滤光单元、蓝色滤光单元)的阵列，滤光单元之间可以被黑矩阵间隔开，也即，黑矩阵104被彩色滤光层105间隔成多个黑矩阵区域，在每个黑矩阵区域内可以设置一条较粗的导电线，也可以设置多条较细的导电线。在部分黑矩阵区域内也可以不设置第一导电线1021或第二导电线1031。例如，上述中第一导电线1021和第二导电线1031的线宽和相邻两条导电线之间的距离均在50nm～10μm的范围内。
例如，如图4所示，多条第一导电线1021和多条第二导电线1031在衬底基板101上的正投影位于黑矩阵104在衬底基板101上的正投影内。第一导电线1021和第二导电线1031不会对光线造成遮挡，不会影响光线的透过率，也不会影响开口率的大小。在黑矩阵、第一导电线1021、第二导电线1031三者之间不会产生摩尔纹。每条第一导电线1021和每条第二导电线1031的线宽均为50nm～10μm。例如，在每一个黑矩阵区域内设置一条较粗的导电线，这种方式与在每一个黑矩阵区域内设置多条较细的导电线的设置方式所能达到的效果完全相同。
例如，图1至图4中，第一导电总线和第二导电总线沿黑矩阵的第二边的方向上的距离为2.5～3.5mm，相当于每条第一导电线1021和每条第二导电线1031的线长为2.5～3.5mm。
例如，图1至图4中，相邻的两条第一导电总线沿黑矩阵的第二边的方向上的距离为7.5～8.5mm，相当于每相邻的两组感应电极或每相邻的两组驱动电极相距7.5～8.5mm。
例如，图1至图4中，多条第一导电线和多条第二导电线相互平行且交错排布，设置在同一层，每条第一导电线或每条第二导电线与黑矩阵之间不会产生摩尔纹，每条第一导电线与每条第二导电线之间不会产生摩尔纹，即可以完全消除摩尔纹现象。
例如，图1至图4中，多条第一导电线和多条第二导电线也可以设置在不同层，在不同层的多条第一导电线和多条第二导电线之间还设置有绝缘层。同样地，每条第一导电线或每条第二导电线与黑矩阵之间不会产生摩尔纹，每条第一导电线与每条第二导电线之间也不会产生摩尔纹，即可以完全消除摩尔纹现象。
每条第一导电总线和与之对应的第二导电总线的距离很短，在2.5～3.5mm之间，每条第一导电线和每条第二导电线之间的距离也很短，在50nm～10μm之间，当触控屏受到如手指、触控笔或能与触控屏具有一定接触区域(在垂直于导电总线的方向上大于相邻的两条导电总线之间的距离)的导电体触碰时，被触控的导电线(包括第一导电线、第二导电线、第一导电总线和第二导电总线)上会有电容的变化。在不同的第一导电总线和第二导电总线上感测的电容的变化不同，沿着每条第一导电总线或者每条第二导电总线的延伸方向，第一导电总线或第二导电总线上能感测到的电容变化不一样，根据电容变化的大小来确定触摸的位置。
通常，当触控屏受到如手指、触控笔或能与触控屏具有一定接触区域(在垂直于导电总线的方向上大于相邻的两条导电总线之间的距离)的导电体触碰时，总会触碰到触控屏包括导电总线的区域，从而可以精确地确定触摸位置。当触控屏受到手指、触控笔等的触碰时，如果不能触碰到第一导电总线或第二导电总线，如果触摸的位置位于第一导电线或第二导电线上或位于它们辐射的区域之内，则可以相应地感测与之连接的导电总线位置处的电容变化，从而确定触摸的位置。在平行于对应导电总线的方向上的坐标可以确定，但是在垂直于导电总线的方向上的坐标只能精确到毫米级。
例如，本实施例中的触控屏可以设置在彩膜基板上也可以设置在具有彩膜层的阵列基板上。触控屏既可以设置在彩膜基板和阵列基板对盒形成的显示面板的内部，也可以形成在显示面板的外侧(即朝向用户的一侧)。
例如，图5是一种设置在彩膜基板上的触控屏的截面结构示意图，例如，以触控屏设置在显示面板的外部为例加以说明，其结构为：在衬底基板101上依次设置有黑矩阵104、彩色滤光层105、第一绝缘层108、驱动电极102和感应电极103、第二绝缘层109。需要说明的是，黑矩阵和彩色滤光层也可以设置在同一层，该种结构在图中未示出。
在本实施例中，多条第一导电线1021和多条第二导电线1031相互交错平行排布，解决了导电线之间易产生摩尔纹的问题；多条第一导电线1021和多条第二导电线1031在衬底基板上的正投影均位于黑矩阵在衬底基板上的正投影内，消除了导电线与黑矩阵之间易产生摩尔纹的问题。
需要说明的是，在本实施例中，第一导电线、第二导电线、第一导电总线和第二导电总线的材料可以包括铜、铝、钼、银、铬、钛等导电金属或它们形成的合金，例如，铜铝合金(cual)、铜钛合金(cuti)、铜钼合金(cumo)、铬钼合金(crmo)、铝钛合金(alti)、铝钼合金(almo)等，采用金属材料可以实现较小的电阻；如果对于电阻要求不高的话，例如还可以为金属氧化物，例如氧化铟锡、氧化铟锌等。
实施例二
本实施例提供一种触控屏，图6为本实施例提供的一种触控屏的平面结构示意图。该触控屏可以设置在彩膜基板上也可以设置在具有彩膜层的阵列基板上。触控屏既可以设置在彩膜基板和阵列基板对盒形成的显示面板的内部，也可以形成在显示面板的外部。例如，如图6所示，以触控屏设置在彩膜基板上为例加以说明，该触控屏包括黑矩阵104和彩色滤光层105，多条第一导电线1021和多条第二导电线1031在衬底基板101上的正投影位于黑矩阵104和彩色滤光层105在衬底基板101上的正投影内。
例如，如图6所示，每条第一导电线1021的线宽为50～140nm，每条第二导电线1031的线宽为50～140nm。每条第一导电线1021的厚度和每条第二导电线1031的厚度均为50～140nm。
例如，如图6所示，多条第一导电线1021和多条第二导电线1031中相邻两条导电线之间的距离均为50～140nm。
例如，多条第一导电线1021和多条第二导电线1031中每条导电线的长度为2.5～3.5mm。
由此，多条平行设置的具有特定线宽和线间距的导电细线可以形成线栅偏振器，以将透过的光线转换为适应于液晶显示模式的偏振光(即导电线的宽度、厚度、排列间距等均按照液晶显示模式所要求的偏振光进行设置)。该线栅偏振器(wgp)中导电线条的厚度为纳米尺寸，长度为宏观量级，可以代替传统的偏光片设置在膜层结构中，使得感应电极和驱动电极等效为一小块偏光片。这样当本实施例的触控屏被应用于液晶显示器时，则在触控屏一侧，可无需再贴附偏光片，从而降低了产品的厚度和简化了制作工艺。同时，由于偏光片特性是导电线按照指定方式排列而具有的光学特性，与导电线上加载电压的情况无关，所有的感应电极和驱动电极可以基于偏光原理形成偏光片，即同时起到触控电极和偏光片的作用。
基于电容式触控原理，驱动电极和感应电极之间形成的触控电容可以感测衬底基板表面上的触摸动作，由感测到的触摸动作的位置来判断触摸位置，从而实现触控功能。
可以理解的是，图6中感应电极和驱动电极包含的多条第一导电线1021和多条第二导电线1031可以根据触摸感测的需要进行其他不同的设计。例如，导电线的数量、延伸方向和导电线的长度可以根据偏光需要进行其他不同的设计，本公开在此不做限制。
本实施例中基于相互复用的线栅偏振器和感应电极、驱动电极，可以在原本就需要偏光片的lcd产品中使线栅偏振器同时实现偏光片和触控电极的功能，相当于仅对偏光片内的线栅的图案进行了改造，而不需要增加新的层结构。因此，本实施例可以通过触控电极与偏光片的复用简化制作工艺、减小产品厚度、增大光线的透过率同时减少摩尔纹现象。
例如，如图7所示，为本发明一实施例提供的一种设置在阵列基板上的触控屏的平面结构示意图，该阵列基板包括设置在衬底基板101上的栅线106和数据线107，其中，触控屏中的第一导电线1021和第二导电线1031与数据线106平行，第一导电总线1022和第二导电总线1032与栅线106平行，或者第一导电线1021和第二导电线1031与栅线106平行，第一导电总线1022和第二导电总线1032与数据线106平行。需要说明的是，图7中只示出了设置在外围区域的栅线和数据线，在每个子像素的周边均设置有栅线和数据线(未示出)。
例如，触控屏也可以设置在彩膜基板上，与彩膜基板相对设置的有阵列基板(未示出)。阵列基板包括栅线、数据线和多个像素单元。栅线和数据线彼此交叉由此界定了像素单元，每个像素单元包括开关元件、像素电极等显示驱动结构。第一导电线和第二导电线与数据线平行，第一导电总线和第二导电总线与栅线平行，或者第一导电线和第二导电线与栅线平行，第一导电总线和第二导电总线与数据线平行。
需要说明的是，在本实施例中，第一导电线、第二导电线、第一导电总线和第二导电总线的材料可以包括铜、铝、钼、银、铬、钛等导电金属或它们形成的合金，例如，铜铝合金(cual)、铜钛合金(cuti)、铜钼合金(cumo)、铬钼合金(crmo)、铝钛合金(alti)、铝钼合金(almo)等，采用金属材料可以实现较小的电阻；如果对于电阻要求不高的话，例如还可以为金属氧化物，例如氧化铟锡、氧化铟锌等。
实施例三
本发明至少一实施例还提供一种触控屏的制备方法，该方法包括：提供衬底基板，在衬底基板上形成驱动电极和感应电极，其中，驱动电极包括多条平行设置的第一导电线和连接多条第一导电线的第一导电总线，感应电极包括多条平行设置的第二导电线和连接多条第二导电线的第二导电总线，并且多条第一导电线和多条第二导电线相互平行。
例如，可采用纳米压印的方法形成第一导电线和第二导电线，也可以采用全息光刻的方法来形成第一导电线和第二导电线。
例如，在本实施例中，第一导电线、第二导电线、第一导电总线和第二导电总线的材料可以包括铜、铝、钼、银、铬、钛等导电金属或它们形成的合金，例如，铜铝合金(cual)、铜钛合金(cuti)、铜钼合金(cumo)、铬钼合金(crmo)、铝钛合金(alti)、铝钼合金(almo)等，采用金属材料可以实现较小的电阻；如果对于电阻要求不高的话，例如还可以为金属氧化物，例如氧化铟锡、氧化铟锌等。
例如，图8a～8h为本发明一实施例提供的一种导电线的制备方法过程图，即形成第一导电线和第二导电线的工艺流程图，以第一导电线和第二导电线采用金属材料制备为例加以说明，第一导电线和第二导电线的制备过程包括：
如图8a所示，清洗玻璃基板201；
如图8b所示，在清洗后的玻璃基板201上形成金属薄膜202，形成薄膜的方法可以是溅射、沉积等；
如图8c所示，在形成有金属薄膜202的玻璃基板上形成介质层203，形成介质层的方法可以是涂覆、沉积等；
如图8d所示，在介质层上形成光刻胶层204，形成光刻胶层的方法可以是旋涂、喷涂等；
如图8e所示，将模板205压至光刻胶中，然后在加热或紫外光照射固化成形的条件下进行纳米压印的过程；
如图8f所示，分离模板205，形成所需的光刻胶图案；
如图8g所示，对金属薄膜和介质层进行刻蚀工艺，形成导电线的图案；
如图8h所示，在形成的导电线图案上形成一层保护层薄膜206。
在此形成过程中，导电线的线宽和长度由所选择的模板的尺寸决定。在金属薄膜上形成介质层，主要是为了改进导电线的反射、偏光性能等。可以根据不同的要求去除介质层的设计。该刻蚀工艺可以选择干法刻蚀，例如使用腐蚀性等离子体对对金属薄膜和介质层进行刻蚀。
本发明的实施例提供的触控屏至少具有以下有益效果之一：
(1)在该触控屏中，感应电极和驱动电极设计成相互平行且交错排布的线栅结构，可以避免第一导电线和第二导电线交叉带来的摩尔纹问题，同时也可以实现触控功能。
(2)当导电线较粗，不形成线栅偏振器时，第一导电线和第二导电线在衬底基板上的正投影位于黑矩阵在衬底基板上的正投影内，第一导电线和第二导电线与黑矩阵均无交叉，可以避免导电线与黑矩阵的交叉带来的摩尔纹问题。
(3)当导电线很细，形成线栅偏振器时，可同时实现偏光片和触控电极的功能，可以节省一层偏光片。同时导电线可以设置于彩色滤光层和黑矩阵上，由于线栅偏振器具有偏光特性，不会影响光线的透过率。
还有以下几点需要说明：
(1)本发明实施例附图只涉及到与本发明实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(2)为了清晰起见，在用于描述本发明的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
(3)在不冲突的情况下，本发明的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。