技术总结
本公开提供一种掩模优化方法，步骤包括：接收具有一集成电路图案的一集成电路(IC)设计布局；根据一目标放置模型，产生对应于上述集成电路图案的一轮廓的多个目标点，其中上述目标放置模型是根据上述集成电路图案的一分类所选择；以及使用上述目标点对上述集成电路图案执行一光学邻近校正(OPC)，从而产生一修正的集成电路布局。
技术研发人员：王宏钧;刘楫平;张凤如;张景旭;刘文豪;叶佳峰;池明辉;蔡振坤;简玮成;黄文俊;唐于博;
受保护的技术使用者：台湾积体电路制造股份有限公司;
技术研发日：2017.10.31
技术公布日：2018.06.26