导电膜和设置有该导电膜的显示装置的制作方法

本申请是申请日为2012年1月18日、申请号为201280005744.1(国际申请号为pct/jp2012/050929)、发明名称为“导电膜和设置有该导电膜的显示装置”的发明专利申请的分案申请。

本发明涉及一种导电膜和使用该导电膜的显示设备(装置)。

背景技术：

设置在显示设备的显示面板上的导电膜包括导电电磁屏蔽膜(参见，例如日本特许专利公布no.2008-282924和2009-094467)、导电触控面板膜(参见，例如，日本特许专利公布no.2010-108877)等。

在这样的导电膜中，在透明基板上形成格子图案。在日本特许专利公布号2008-282924中，相邻于格子图案的交点排列莫尔条纹防止部。在日本特许专利公布号2009-094467中，将具有莫尔条纹防止部的莫尔条纹防止膜附着到具有格子图案的电磁屏蔽膜，以防止莫尔条纹产生。

技术实现要素：

本发明的目的是提供一种导电膜，其可以具有不同于上述专利文献中的结构的简单结构，能够附着到常用显示设备的显示面板，同时防止莫尔条纹的产生，并能够以高产量生产，并且提供一种具有该导电膜的显示设备。

[1]根据本发明第一方面的导电膜，包括基板和设置在其一个主表面上的导电部，其中导电部包含由细金属线组成的两个或更多导电图案，导电图案在第一方向上延伸并且排列在垂直于第一方向的第二方向上，每一导电图案包含两个或更多格子的组合，每个格子具有菱形形状，并且每个格子的至少一边相对于第一方向成30°至60°角。

[2]在第一方面中，优选的是每个格子的至少一边相对于第一方向成30°至44°角。

[3]在第一方面中，优选的是每个格子的至少一边相对于第一方向成32°至39°角。

[4]在第一方面中，优选的是每个格子的至少一边相对于第一方向成46°至60°角。

[5]在第一方面中，优选的是每个格子的至少一边相对于第一方向成51°至58°角。

[6]在第一方面中，每个导电图案可以由在第一方向上串联连接的两个或更多感测部来构成，并且每个感测部可以由两个或更多格子的组合而构成。

[7]根据本发明的第二方面的导电膜，包括基板，设置在该基板的一个主表面上的第一导电部和设置在该基板的另一主表面上的第二导电部，其中第一导电部包含两个或更多第一导电图案，第一导电图案在第一方向上延伸并且排列在垂直于第一方向的第二方向上，第二导电部包含两个或更多第二导电图案，第二导电图案在第二方向上延伸并且排列在第一方向上，第一导电图案和第二导电图案中的每一个均由两个或更多格子的组合来构成，每个格子具有菱形的形状，并且每个格子的至少一边相对于第一方向成30°至60°角。

[8]在第二方面中，每一第一导电图案可以由在第一方向上串联连接的两个或更多第一感测部来构成，每一第二导电图案可以由在第二方向上串联连接的两个或更多第二感测部来构成，并且第一感测部和第二感测部中的每一个可以由两个或更多格子的组合而构成。

[9]根据本发明第三方面的导电膜，包括基板和设置在该基板的一个主表面上的导电部，其中导电部由具有开口部的网格图案来构成，并且所述开口部(18)具有菱形形状，所述菱形形状具有60°至120°的角。

[10]根据本发明第四方面的导电膜，包括基板和设置在基板的一个主表面上的导电部，其中导电部包含由细金属线组成的两个或更多导电图案，导电图案在第一方向上延伸并且排列在垂直于第一方向的第二方向上，每一导电图案由在第一方向上连接的两个或更多感测部来构成，并且每个感测部具有第二方向长度lv和第一方向长度lh，并满足条件0.57<lv/lh<1.74。

[11]在第四方面中，优选的是每个感测部满足条件0.57<lv/lh<1.00。

[12]根据本发明第五方面的导电膜，包括基板，设置在该基板的一个主表面上的第一导电部和设置在该基板的另一主表面上的第二导电部，其中第一导电部包含两个或更多第一导电图案，第一导电图案在第一方向上延伸并且排列在垂直于第一方向的第二方向上，第二导电部包含两个或更多第二导电图案，第二导电图案在第二方向上延伸并且排列在第一方向上，每一第一导电图案由在第一方向上连接的两个或更多第一感测部来构成，每一第二导电图案由在第二方向上连接的两个或更多第二感测部来构成，每个第一感测部具有第二方向长度lva和第一方向长度lha，并满足条件0.57<lva/lha<1.74，并且每个第二感测部具有第二方向长度lvb和第一方向长度lhb，并且满足条件0.57<lvb/lhb<1.74。

[13]在第五方面中，优选的是每个第一感测部满足条件0.57<lva/lha<1.00，并且每个第二感测部满足条件0.57<lvb/lhb<1.00。

[14]在第四或第五方面中，优选的是每个感测部由多个格子来构成，并且每个格子具有第二方向长度lvs和第一方向长度lhs并满足条件0.57<lvs/lhs<1.74。

[15]根据本发明第六方面的导电膜，包括基板和设置在该基板的一个主表面上的导电部，其中导电部包含开口部，所述开口部具有菱形形状，并且该菱形形状具有一个对角线长度lvp和另一对角线长度lhp并且满足条件0.57<lvp/lhp<1.74。

[16]根据本发明第七方面的显示设备，包括显示面板和在该显示面板上的导电膜，其中导电膜包含具有由细金属线组成的网格图案的导电部，并且该细金属线相对于显示设备中的像素的排列方向成30°至40°角。

[17]在第七方面中，优选的是细金属线相对于显示设备中的像素的排列方向成32°至39°角。

通常而言，为了获得具有电磁屏蔽功能、触控面板功能等功能的显示设备需要导电膜。具有网格图案等的传统导电膜可能会在显示设备上引起莫尔条纹。相比之下，本发明的导电膜能够用在显示面板上同时防止莫尔条纹的产生。此外，本发明的导电膜可以以高产量来生产。

另外，本发明的显示设备能够用作低电阻、电磁屏蔽或触控面板设备。该显示设备能够用作不会有莫尔条纹产生的触控面板显示器。

附图说明

图1是根据第一实施例的导电膜的平面图；

图2是导电膜的部分省略截面图；

图3是在其上设置有导电膜的显示设备中的像素阵列的部分省略平面图；

图4是用于示出网格形状(菱形)的大小(纵横比)的视图；

图5是设置在显示设备上的导电膜的部分省略平面图；

图6是具有包含根据第一实施例的导电膜的导电膜系(filmstack)(第一导电膜系)的触控面板的分解透视图；

图7是第一导电膜系的部分省略分解透视图；

图8a是第一导电膜系的示例的部分省略截面图，且图8b是第一导电膜系的另一示例的部分省略截面图；

图9是根据第一实施例的形成在第一导电膜上的第一导电部的图案示例的平面图；

图10是小格子(网格图案中的开口部)的平面图；

图11是用于示出第一大格子的大小(纵横比)的视图；

图12是用于示出小格子的大小(纵横比)的视图；

图13是根据第一实施例的形成在第二导电膜上的第二导电部的图案示例的平面图；

图14是用于示出第二大格子的大小(纵横比)的视图；

图15是通过结合第一实施例的第一和第二导电膜所形成的第一导电膜系的部分省略平面图；

图16是由第一和第二辅助导线形成的一条线的说明图；

图17是根据第二实施例的导电膜系(第二导电膜系)的部分省略分解透视图；

图18a是第二导电膜系的示例的部分省略截面图，且图18b是第二导电膜系的另一示例的部分省略横截面图；

图19是根据第二实施例的形成在第一导电膜上的第一导电部的图案示例的平面图；

图20是根据第二实施例的形成在第二导电膜上的第二导电部的图案示例的平面图；以及

图21是通过结合第二实施例的第一和第二导电膜所形成的第二导电膜系的部分省略平面图。

具体实施方式

下文将参照图1至图21来描述导电膜和包含本发明的导电膜的显示设备的几个实施例。应当注意，在该描述中，数值范围“a至b”包括作为下限值和上限值的数值a和b。

下文中将参照图1至图16描述第一实施例。

如图1和图2所示，根据第一实施例的导电膜10具有透明基板12(参见图2)和在透明基板12的一个主表面上形成的导电部14。导电部14具有包含细金属线(在此称为细金属线16)和开口部18的网格图案20。例如，细金属线16包含金(au)、银(ag)或铜(cu)。

具体来说，在导电部14中，多条第一细金属线16a和多条第二细金属线16b交叉形成网格图案20，第一细金属线16a在第一倾斜方向(图1中示出的x方向)上延伸并且在第二倾斜方向(图1中示出的y方向)上以间距ps排列，而第二细金属线16b在第二倾斜方向上延伸并且在第一倾斜方向上以间距ps排列。在这种情况下，第一倾斜方向相对于参考方向(例如，水平方向)成+30°至+60°角，而第二倾斜方向相对于参考方向成-30°至-60°角。所以，在网格图案20中，作为一个开口部18和包围一个开口部18的四个细金属线16的组合的每个网格形状22是顶角为60°至120°的菱形形状。

导电膜10可用作图3中所示的显示设备30的电磁屏蔽膜、触控面板的导电膜等。这种显示设备30的示例包括液晶显示器、等离子体显示器、有机el显示器和无机el显示器。

间距ps可选择在100至400μm的范围内(在下文中也称为细线间距ps)。细金属线16的线宽可以是30μm或更小。在导电膜10用作电磁屏蔽膜的情况下，细金属线16的线宽优选为1至20μm，更优选为1至9μm，还优选为2至7μm。在导电膜10用作导电触控面板膜的情况下，细金属线16的线宽优选为0.1至15μm，更优选为1至9μm，还优选为2至7μm。

菱形网格形状22具有4个顶角中的两个窄角，并且每个窄角的一半是30°至44°。因此，在虚线24在水平方向上在开口部18中延伸并且连接网格图案20中的多个交点的情况下，虚线24与第一细金属线16a之间的角θ(倾斜角θ)是30°至44°。

如在图3中以部分省略示出的那样，在显示设备30中多个像素32排列为矩阵。一个像素32包含在水平方向上排列的三种亚像素(红色亚像素32r、绿色亚像素32g和蓝色亚像素32b)。每个亚像素具有在垂直方向上延伸的矩形形状。像素32在水平方向上的排列间距(水平像素间距ph)与像素32在垂直方向上的排列间距(垂直像素间距pv)彼此近似相等。因此，一个像素32与包围像素32的黑色矩阵(阴影区34)的组合形成正方形。每个像素32的纵横比不为1，而具有大于垂直(纵向)长度的水平(横向)长度。

以下将参照图4描述网格形状22的菱形的大小。在菱形中，当在垂直方向上延伸的一条对角线具有长度lvp且在水平方向上延伸的另一条对角线具有长度lhp时，菱形的大小(即，纵横比(lvp/lhp))满足条件0.57<lvp/lhp<1.74。

在将像素32排列在附着至触控面板50的显示设备30的水平方向上的情况下(参见图3)，菱形的纵横比(lvp/lhp)满足条件0.57<lvp/lhp<1.00或1.00<lvp/lhp<1.74，且更优选满足条件0.62<lvp/lhp<0.81或1.23<lvp/lhp<1.61。

如图5所示，在导电膜10设置在具有这种像素阵列的显示设备30的显示面板上的情况下，细金属线16与显示设备30中的像素32的水平排列方向(m方向)形成特定倾斜角θ。如图1所示，虚线24在开口部18中的水平方向上延伸并且连接在网格图案20中的多个交点，并且虚线24与第一细金属线16a之间的角θ是30°至60°，优选为30°至44°。因此，如图4所示，细金属线16相对于显示设备30中的像素32的水平排列方向(m方向)成30°至60°，优选为30°至44°。导电膜10的细线间距ps近似等于或接近于显示设备30中的一个像素32的对角线长度la1(或排列在垂直方向上的两个相邻像素32的对角线长度la2)。此外，导电膜10中的细金属线16的排列方向近似等于或接近于显示设备30中的一个像素32的对角线(或排列在垂直方向上的两个相邻像素32的对角线)的方向。因此，可以减小像素32与细金属线16之间的排列周期差别来防止莫尔条纹的产生。

例如，在导电膜10用作电磁屏蔽膜的情况下，导电膜10设置在显示设备30的显示面板上。在这种情况下，如上所述，能够减小像素32与细金属线16之间的排列周期差别以防止莫尔条纹的产生。另外，由于网格图案20中的细金属线16具有100至400μm的间距ps和30μm或更小的线宽，电磁屏蔽膜能够展示出高电磁屏蔽特性和高透光率。

以下将参照图6至图16来描述具有诸如投射电容式触控面板的触控面板的显示设备。

触控面板50具有传感器体52和诸如集成电路(未示出)的控制电路。如图6、图7和图8a所示，传感器体52包含将在下文描述的通过层压第一导电膜10a和第二导电膜10b所制备的导电膜系54，并还包含在其上的保护层56(图8a中未示出)。导电膜系54和保护层56可设置在诸如液晶显示器的显示设备30的显示面板58上。从上方观察，传感器体52具有与显示面板58的显示屏幕58a相对应的感测区60和与显示面板58的边缘相对应的端子布线区62(所谓的框架)。

如图7和图9所示，在触控面板50中，第一导电膜10a具有形成在第一透明基板12a的一个主表面上的第一导电部14a(参见图8a)。第一导电部14a包含两个或更多第一导电图案64a(网格图案)和第一辅助图案66a。第一导电图案64a在水平方向(m方向)上延伸，并排列在垂直于第三方向的垂直方向(n方向)上，每个第一导电图案64a包含大量的格子，并由细金属线16组成。第一辅助图案66a排列在第一导电图案64a的周围并由细金属线16组成。

第一导电图案64a具有两个或更多小格子70。在图7和图9的示例中，第一导电图案64a包含两个或更多第一大格子68a(第一感测部)。第一大格子68a在水平方向上串联连接，并且每一个第一大格子68a包含两个或更多小格子70的组合。上述第一辅助图案66a形成在第一大格子68a的边的周围并且未连接至第一大格子68a。例如，m方向对应于随后将在下文描述的与之装备的投射电容式触控面板50或显示面板58的水平方向或垂直方向(见图6)。

第一导电图案64a不限制于使用第一大格子68a的示例。例如，第一导电图案64a可以是排列大量的小格子70以形成带状网格图案，并且多个带状网格图案平行排列并由绝缘体彼此绝缘。例如，两个或更多带状第一导电图案64a的每个均可以从端子在m方向上延伸并可以排列在n方向上。

在该示例中，小格子70如图中的最小的菱形所示，并具有等于或类似于上述网格形状22(参见图1和图4)。如图10所示，在小格子70中，(第一边70a至第四边70d的)至少一边与第一方向(m方向)之间的角θ是30°至60°。在m方向等于具有触控面板50的显示设备30的像素排列方向(参见图5)的情况下，角θ是30°至44°或46°至60°，更优选为32°至39°或51°至58°。

以下将参照图11来描述第一大格子68a的大小。在第一大格子68a的四条边(第一条边至第四条边69a至69d)当中，第一条边69a和第二条边69b彼此在水平方向(m方向)上相邻排列，并且第一条边69a和第二条边69b的交点对应于第一角71a。类似地，第三条边69c(面向第一条边69a)和第四条边69d(面向第二条边69b)彼此在水平方向上相邻排列，并且第三条边69c和第四条边69d的交点对应于第二角71b。

此外，在第一大格子68a的四条边(第一条边至第四条边69a至69d)当中，第一条边69a和第四条边69d在垂直方向上(n方向)彼此相邻排列，并且第一条边69a的延长线和第四条边69d的交点对应于第三拐角71c。类似地，第二条边69b与第三条边69c在垂直方向上彼此相邻排列，并且第二条边69b和第三条边69c的延长线的交点对应于第四拐角71d。

第一大格子68a的第二方向长度对应于第一拐角71a与第二拐角71b在垂直方向上的距离lva，并且第一大格子68a的第一方向长度对应于第三拐角71c与第四拐角71d在水平方向上的距离lha。

在这种情况下，第一大格子68a的大小(即纵横比(lva/lha))满足条件0.57<lva/lha<1.74。

在水平方向(m方向)等于具有触控面板50的显示设备30的像素排列方向(参见图6)的情况下，第一大格子68a的纵横比(lva/lha)满足条件0.57<lva/lha<1.00或1.00<lva/lha<1.74，并更优选满足条件0.62<lva/lha<0.81或1.23<lva/lha<1.61。

小格子70也满足类似的条件。如图12所示，当一条在垂直方向上延伸的对角线70v具有长度lvs而另一条在水平方向上延伸的对角线70h具有长度lhs时，第一小格子70的大小(即纵横比(lvs/lhs))满足条件0.57<lvs/lhs<1.74。

在水平方向等于具有触控面板50的显示设备30的像素排列方向(参见图6)的情况下，第一小格子70的纵横比(lvs/lhs)也满足条件0.57<lvs/lhs<1.00或1.00<lvs/lhs<1.74，并且更优选满足条件0.62<lvs/lhs<0.81或1.23<lvs/lhs<1.61。

如上所述，小格子70的线宽(即细金属线16)可以是30μm或更小。可以在100至400μm的范围内选择小格子70的边长。顺便说一下，在第一大格子68a中，第一斜方向(x方向)平行于第一条边69a(和第三条边69c)，并且第二斜方向(y方向)平行于第二条边69b(和第四条边69d)。

在例如如图9所示的使用第一导电图案64a中的第一大格子68a的情况下，由细金属线16组成的第一连接件72a形成在第一大格子68a之间，并且每两个相邻的第一大格子68a由第一连接件72a电连接。第一连接件72a包含中等格子74，并且中等格子74的大小对应于排列在第二斜方向(y方向)上的n个(其中n是大于1的实数)小格子70的总大小。第一缺失部76a(通过去除小格子70的一条边来提供的部分)形成在中等格子74与第一大格子68a的沿着第一斜方向延伸的边之间。在图9的示例中，中等格子74的大小对应于排列在第二斜方向上的3个小格子70的总大小。

电绝缘的第一绝缘体78a设置在相邻的第一导电图案64a之间。

第一辅助图案66a包含具有平行于第二斜方向的轴方向的多条第一辅助线80a(沿着第一大格子68a的平行于第一斜方向的边排列)、具有平行于第一斜方向的轴方向的多条第一辅助线80a(沿着第一大格子68a的平行于第二斜方向的边排列)、和两个彼此面对排列的第一l形图案82a。通过将两条第一辅助线80a组合为第一绝缘体78a中的l形来形成第一l形图案82a中的每一个。

第一大格子68a的边长优选为3至10mm，更优选于4至6mm。当边长小于下限时，例如，在触控面板中使用第一导电膜10a的情况下，第一大格子68a在检测过程中展现出降低的静电电容，并且触控面板有可能造成检测故障。另一方面，当边长大于上限时，位置检测精度会下降。为此，在第一大格子68a中的每个小格子70的边长优选为如上所述的100至400μm，进一步优选为150至300μm，最优选为210至250μm。当小格子70的边长处于该范围中时，第一导电膜10a具有高透明度并由此能够以优秀的可见度适用在显示设备的正面。

如图7所示，在具有上述结构的第一导电膜10a中，在每一导电图案64a的一端，第一连接件72a未形成在第一大格子68a的开放端上。在第一导电图案64a的另一端，第一大格子68a的端部通过第一接线部84a电连接至由细金属线16组成的第一端子布线图案86a。

因此，如图6和图7所示，在用于触控面板50的第一导电膜10a中，大量的上述第一导电图案64a排列在感测区60中，并且多个第一端子布线图案86a从端子布线区62中的第一接线部84a延伸。

在图6的示例中，第一导电膜10a和感测区60的每一个均具有从上面来看的矩形。在端子布线区62中，多个第一端子88a被排列在第一导电膜10a的一条长边上的外围的长度方向上的纵向中心。第一接线部84a被排列在沿着感测区60的一条长边(最接近第一导电膜10a的一条长边的长边)的n方向上的一条直线上。第一端子布线图案86a从每个第一接线部84a延伸至第一导电膜10a的一条长边的中心，并且电连接至相应的第一端子88a。

在另一方面，如图7、图8a和图13所示，第二导电膜10b具有形成在第二透明基板12b的一个主表面上的第二导电部14b(参见图8a)。第二导电部14b包含两个或更多导电图案64b(网格图案)和第二辅助图案66b。第二导电图案64b在垂直方向(n方向)上延伸，在水平方向(m方向)上排列，每个第二导电图案64b包含大量格子并由细金属线16组成。第二辅助图案66b排列在第二导电图案64b的周围并由细金属线16组成。

第二导电图案64b具有两个或更多小格子70。在图7和图13的示例中，第二导电图案64b包含两个或更多大格子68b(第二感测部)。第二大格子68b在垂直方向(n方向)上串联连接，并且每个第二大格子68b包含两个或更多小格子70的组合。上述第二辅助图案66b形成在第二大格子68b的边的周围并且未连接至第二大格子68b。

第二导电图案64b也不限于使用第二大格子68b的示例。例如，第二导电图案64b可以是排列大量的小格子70来形成带状网格图案，并且多个带状网格图案被平行排列并且由绝缘体相互绝缘。例如，两个或更多带状第二导电图案64b的每一个可以从端子在n方向上延伸并且可以在m方向上排列。

以下将参照图14来描述第二大格子68b的大小。在第二大格子68b的四条边(第五条边至第八条边69e至69h)当中，第五条边69e和第六条边69f在水平方向上彼此相邻排列，并且第五条边69e和第六条边69f的延长线的交点对应于第五拐角71e。类似地，第七条边69g(面向第五条边69e)和第八条边69h(面向第六条边69f)在水平方向上彼此相邻排列，并且第七条边69g和第八条边69h的延长线的交点对应于第六拐角71f。

此外，在第二大格子68b的四条边(第五条边至第八条边69e至69h)当中，第五条边69e和第八条边69h在垂直方向上彼此相邻排列，并且第五条边69e和第八条边69h的交点对应于第七拐角71g。类似地，第六条边69f与第七条边69g在垂直方向上彼此相邻排列，并且第六条边69f与第七条边69g的交点对应于第八拐角71h。

第二大格子68b的第二方向长度对应于第五拐角71e与第六拐角71f在垂直方向(n方向)上的距离lvb，并且第二大格子68b的第一方向长度对应于第七拐角71g与第八拐角71h在水平方向(m方向)上的距离lhb。

在这种情况下，第二大格子68b的大小(即纵横比(lvb/lhb))满足条件0.57<lvb/lhb<1.74。

在水平方向(m方向)等于具有触控面板50的显示设备30的像素排列方向(见图6)的情况下，第二大格子68b的纵横比(lvb/lhb)满足条件0.57<lvb/lhb<1.00或1.00<lvb/lhb<1.74，并更优选满足条件0.62<lvb/lhb<0.81或1.23<lvb/lhb<1.61。

顺便说一下，在第二大格子68b中，第一斜方向(x方向)平行于第五条边69e(和第七条边69g)，而第二斜方向(y方向)平行于第六条边69f(和第八条边69h)。

在例如如图13所示的使用第二导电图案64b中的第二大格子68b的情况下，由细金属线16组成的第二连接件72b形成在第二大格子68b之间，并且每两个相邻的第二大格子68b由第二连接件72b电连接。第二连接件72b包含中等格子74，并且中等格子74的大小对应于排列在第一斜方向(x方向)上的n个(其中n是大于1的实数)小格子70的总大小。第二缺失部76b(通过去除小格子70的一条边来提供的部分)形成在中等格子74与第二大格子68b的沿着第二斜方向延伸的边之间。

电绝缘的第二绝缘体78b设置在相邻的第二导电图案64b之间。

第二辅助图案66b包含具有平行于第二斜方向的轴方向的多条第二辅助线80b(沿着第二大格子68b的平行于第一斜方向的边排列)、具有平行于第一斜方向的轴方向的多条第二辅助线80b(沿着第二大格子68b的平行于第二斜方向的边排列)、和两个彼此面对排列的第二l形图案82b。通过将两条第二辅助线80b组合为第二绝缘体78b中的l形来形成第二l形图案82b中的每一个。

如图6和图7所示，在具有上述结构的第二导电膜10b中，例如在每个交替的(奇数编号的)第二导电图案64b的一端和每个偶数编号的第二导电图案64b的另一端的每一个中，第二连接件72b未形成在第二大格子68b的开放端上。在每个奇数编号的第二导电图案64b的另一端和每个偶数编号的第二导电图案64b的一端的每一个中，第二大格子68b的端部通过第二接线部84b电连接至由细金属线16组成的第二端子布线图案86b。

因此，如图7所示，在用于触控面板50的第二导电膜10b中，将大量上述的第二导电图案64b排列在感测区60中，并且多个第二端子布线图案86b从端子布线区62中的第二接线部84b延伸。

如图6所示，在端子布线区62中，多个第二端子88b被排列在第二导电膜10b的一条长边上的外围的长度方向上的纵向中心。例如，奇数编号的第二接线部84b被排列在沿着感测区60的一条短边(最接近于第二导电膜10b的一条短边的短边)在m方向上的直线上，并且偶数编号的第二接线部84b被排列在沿着感测区60的另一条短边(最接近于第二导电膜10b的另一条短边的短边)在m方向上的直线上。

例如，每个奇数编号的第二导电图案64b连接至对应的奇数编号的第二接线部84b，并且每个偶数编号的第二导电图案64b连接至对应的偶数编号的第二接线部84b。将第二端子布线图86b从奇数编号和偶数编号的第二接线部84b中拉至第二导电膜10b的一条长边的中心，并且每个第二端子布线图86b电连接至对应的第二端子88b。

可以以与上述第二端子布线图86b相同的方式排列第一端子布线图86a，并可以以与上述第一端子布线图86a相同的方式排列第二端子布线图86b。

与第一大格子68a一样，第二大格子68b的边长优选为3至10mm，更优选于4至6mm。当边长小于下限时，第二大格子68b在检测过程中可能展现出降低的静电电容，而导致检测故障。另一方面，当边长大于上限时，位置检测精度会下降。为此，第二大格子68b中的每个小格子70的边长优选为100至400μm，还优选为150至300μm，最优选为210至250μm。当小格子70的边长处于该范围中时，第二导电膜10b具有高透明度并由此能够以优秀的可见度适用于显示设备30的显示面板58上。

第一辅助图案66a(第一辅助线80a)和第二辅助图案66b(第二辅助线80b)中的每一个的线宽是30μm或更小，并可等于或不同于第一导电图案64a和第二导电图案64b的线宽。优选的是第一导电图案64a、第二导电图案64b、第一辅助图案66a和第二辅助图案66b具有相同的线宽。

例如，如图15所示，当第一导电膜10a堆叠在第二导电膜10b上以形成导电膜系54时，第一导电图案64a和第二导电图案64b交叉。具体地，将第一导电图案64a的第一连接件72a和第二导电图案64b的第二连接件72b彼此面对排列，且第一透明基板12a(见图8a)插置在其间，并且第一导电部14a的第一绝缘体78a和第二导电部14b的第二绝缘体78b也彼此面对排列，且第一透明基板12a插置在其间。

如图15所示，当从上观察导电膜系54时，第一导电膜10a的第一大格子68a之间的空间被填充有第二导电膜10b的第二大格子68b。在这种情况下，第一辅助图案66a与第二辅助图案66b互相重叠以在第一大格子68a与第二大格子68b之间形成组合图案90。如图16所示，在组合图案90中，第一辅助线80a的第一轴92a对应于第二辅助线80b的第二轴92b，第一辅助线80a不与第二辅助线80b重叠，并且第一辅助线80a的端部对应于第二辅助线80b的端部，由此形成小格子70(网格形状)的一条边。因此，组合图案90包含两个或更多小格子70(网格形状)的组合。所以，如图15所示，当从上方观察导电膜系54时，整个表面覆盖大量的小格子70(网格形状)。

如图5所示，例如当导电膜系54设置在显示设备30的显示面板58上时，在第一斜方向(x方向)延伸并在第二斜方向(y方向)上以细线间距ps排列的多条细金属线16和在第二斜方向延伸并且在第一斜方向上以细线间距ps排列的多条细金属线16相交叉形成网格图案20。每条细金属线16与显示设备30中的像素32的水平排列方向(m方向)形成特定的倾斜角θ。大量小格子70中的每条细金属线16相对于显示设备30中的像素32的水平排列方向(m方向)成30°至60°角，优选为30°至44°。导电膜系54的细线间距ps近似等于或接近于显示设备30中的一个像素32的对角线长度la1(或排列在垂直方向上的两个相邻像素32的对角线长度la2)，并且导电膜系54中的细金属线16的排列方向近似等于或接近于显示设备30中的一个像素32的对角线(或排列在垂直方向上的两个相邻像素32的对角线)方向。因此，能够减小像素32与细金属线16之间的排列周期差距以防止莫尔条纹的产生。此外，即使在导电膜系54中的第一大格子68a的纵横比与第二大格子68b的纵横比大大不同的情况下，也能够有效防止莫尔条纹的产生。因此，能够以提高的产量来获得导电膜系54。

当导电膜系54用于触控面板时，在第一导电膜10a上形成保护层56，并且将从第一导电膜10a中的第一导电图案64a延伸的第一端子布线图案86a和从第二导电膜10b中的第二导电图案64b延伸的第二端子布线图86b连接至扫描控制电路等。

自电容技术或互电容技术优选用于检测触控位置。在自电容技术中，向第一导电图案64a相继供应用于触控位置检测的电压信号，并还向第二导电图案64b相继供应用于触控位置检测的电压信号。当手指接触或靠近保护层56的上表面时，在触控位置中的第一导电图案64a和第二导电图案64b与gnd(地)之间的电容增大，由此来自该第一导电图案64a和该第二导电图案64b的信号所具有的波形不同于来自其它导电图案的信号的波形。因此，由控制电路基于从第一导电图案64a和该第二导电图案64b传送的信号来计算触控位置。另一方面，在互电容技术中，例如向第一导电图案64a相继供应用于触控位置检测的电压信号，并且使第二导电图案64b相继受到感测(传送信号检测)。当手指接触或靠近保护层56的上表面时，手指的并联杂散电容被增加至在触控位置中的第一导电图案64a和第二导电图案64b之间的杂散电容，由此来自该第二导电图案64b的信号所具有的波长不同于来自其它第二导电图案64b的信号的波长。因此，控制电路基于向第一导电图案64a供应电压信号和从第二导电图案64b传送的信号的顺序来计算触控位置。即使在两个手指同时接触或靠近保护层56的上表面时，也能够通过使用自电容技术或互电容技术来检测触控位置。在美国专利no.4,582,955、4,686,332、4,733,222、5,374,787、5,543,588和7,030,860，美国专利申请公开no.2004/0155871等中描述了用于投射电容式技术中的传统相关检测电路。

以下将参照图17至图21来描述第二实施例。如图17所示，通过以与根据第一实施例的导电膜系54相同的方式层压第一导电膜110a和第二导电膜110b来制备根据第二实施例的导电膜系104。导电膜系104能够用于例如图6中所示的显示设备30上的触控面板50的传感器体52中。导电膜110(第一导电膜110a和第二导电膜110b)能够用作图3所示的显示设备30的电磁屏蔽膜、导电触控面板膜等。

如图17、18a和19所示，第一导电膜110a具有第一透明基板112a(参见图18a)和形成在第一透明基板112a的一个主表面上的第一导电部114a。第一导电部114a包含两个或更多第一导电图案116a(网格图案)和第一辅助图案120a。第一导电图案116a在水平方向(m方向)上延伸，在垂直于水平方向的垂直方向(n方向)上排列，每个第一导电图案116a包含大量的格子并由细金属线16组成。第一辅助图案120a排列在第一导电图案116a的周围并由细金属线16组成。例如，水平方向(m方向)对应于随之装备的投射电容式触控面板50或显示面板58的水平方向或垂直方向。同样在该示例中，小格子70作为图中的最小菱形被示出，并具有与第一实施例的上述网格形状22相同或类似的形状(参见图1和图4)。

在第二实施例中，和第一实施例中一样，如图12所示，小格子70的纵横比(lvs/lhs)满足条件0.57<lvs/lhs<1.74。在水平方向等于具有触控面板50的显示设备30的像素排列方向(参见图6)的情况下，小格子70的纵横比(lvs/lhs)满足条件0.57<lvs/lhs<1.00或1.00<lvs/lhs<1.74，并更优选于满足条件0.62<lvs/lhs<0.81或1.23<lvs/lhs<1.61。如上所述，小格子70的线宽(即，细金属线16)可以是30μm或更小。可以在100至400μm的范围内选择小格子70的边长。

第一导电图案116a包含两个或更多第一大格子118a(第一感测部)。第一大格子118a在水平方向(m方向)上串联连接，并且每一个第一大格子118a包含两个或更多小格子70的组合。上述第一辅助图案120a形成在第一大格子118a的边的周围并且未连接至第一大格子118a。

第一大格子118a具有大致菱形的形状，其在斜边上具有包含一个或多个阶梯122的第一楼梯图案124a。阶梯122的高度等于小格子70的高度的整数倍。在图19的示例中，在第一大格子118a的斜边上，两个阶梯122在从垂直延伸的拐角朝向水平延伸拐角的方向上形成于第三和第七小格子70上，并且阶梯122的高度等于一个小格子70的高度。第一楼梯图案124a为小格子70的列在第一大格子118a中在从垂直延伸拐角至水平延伸拐角的方向上在阶梯122处减少。

如上所述，第一大格子118a具有大致菱形的形状。更具体地说，第一大格子118a具有通过去除在水平延伸角中的几个小格子70来提供的算盘珠形状。因此，r个小格子70(其中r是大于1的整数)排列在垂直方向上，以在两个水平延伸拐角的每一个上形成第一上底126a，并且放置一个小格子70以在每个垂直延伸拐角上形成顶角。在图19中，将4个小格子70排列在垂直方向上，以在第一大格子118a的两个水平延伸拐角的每一个上形成第一上底126a。

在这种情况下，为方便起见，当将可包围在第一大格子118a中的最大菱形(即，形成在水平延伸拐角上的两个第一上底126a之间的最大菱形)的纵横比视为第一大格子118a的纵横比(lva/lha)时，纵横比(lva/lha)满足条件0.57<lva/lha<1.74。

在水平方向(m方向)等于具有触控面板50的显示设备30的像素排列方向(见图6)的情况下，第一大格子118a的纵横比(lva/lha)满足条件0.57<lva/lha<1.00或1.00<lva/lha<1.74，并更优选于满足条件0.62<lva/lha<0.81或1.23<lva/lha<1.61。

第一缺失部128a(通过去除小格子70的一条边来提供的部分)形成在水平延伸拐角上的两个第一上底126a与第一大格子118a沿着第一斜方向(x方向)延伸的斜边之间。

如图19所示，由细金属线16组成的第一连接件132a形成在第一大格子118a之间，并且每两个相邻的第一大格子118a通过第一连接件132a电连接。第一连接件132a包含第一中等格子134a和136a。第一中等格子134a的大小对应于在第二斜方向(y方向)上排列的n个(其中n是大于1的整数)小格子70的总大小。第一中等格子136a的大小对应于p×q个小格子70的总大小(其中p和q的每一个均是大于1的整数)。因此，第一中等格子136a是p个小格子70排列在第二斜方向上和q个小格子70排列在第一斜方向上。在图19的示例中，n是7，由此第一中等格子134a的大小对应于在第二斜方向上排列的7个小格子70的总大小。在图19的示例中，p(在第二斜方向上的数量)是3，而q(在第一斜方向上的数量)是5，由此第一中等格子136a的大小对应于15个小格子70的总大小。

第一缺失部128a(通过去除小格子70的一条边来提供的部分)形成在第一中等格子136a与第一大格子118a之间。

第一断开部138a设置在水平方向上排列的相邻的第一导电图案116a之间，并且每相邻的两个第一大格子118a通过第一断开部138a彼此绝缘。

上述第一辅助图案120a形成在第一导电部114a中的第一大格子118a的边的周围，并且不连接至第一大格子118a。第一辅助图案120a包含沿着第一大格子118a的平行于第一斜方向的斜边上的第一楼梯图案124a排列的多条第一辅助线130a(具有平行于第二斜方向的轴方向)、沿着第一大格子118a的平行于第二斜方向的斜边上的第一楼梯图案124a排列的多条第一辅助线130a(具有平行于第一斜方向的轴方向)、和通过将两条第一辅助线130a组合为l形状所形成的l形图案131a。

每条第一辅助线130a的轴方向长度是小格子70的内边长的1/2。第一辅助线130a放置在距第一大格子118a的预定距离处。在该示例中预定距离等于小格子70的内边长的1/2。

通过将具有平行于第一斜方向的轴方向的第一辅助线130a和具有平行于第二斜方向的轴方向的第一辅助线130a相组合，来将第一l形图案131a形成在第一楼梯图案124a的阶梯122附近。第一l形图案131a面对阶梯122的拐角或放置在第一大格子118a之间的第一断开部138a中。如图19所示，在第一断开部138a中，将两条第一辅助线130a设置在一个第一大格子118a的垂直延伸的拐角附近，并且将两条第一辅助线130a设置在相邻的第一大格子118a的垂直延伸的拐角的邻近，由此将两个第一l形图案131a面对彼此排列在水平方向上。

在第一大格子118a中的每个小格子70的边长优选为50μm或更大，更优选于100至400μm，还优选于150至300μm，最优选为210至250μm。当小格子70的边长在该范围内时，第一导电膜110a具有高透明度并由此能够以优秀的可见度适用于显示设备的正面。

如图17所示，在具有上述结构的第一导电膜110a中，在每个第一导电图案116a的一端，第一连接件132a不形成在第一大格子118a的开放端上。在第一导电图案116a的另一端，第一大格子118a的端部通过第一接线部84a连接至由细金属线16组成的第一端子布线图86a。

另一方面，如图17、图18a和图20所示，第二导电膜110b具有形成在第二透明基板112b的一个主表面上的第二导电部114b(参见图18a)。第二导电部114b包含两个或更多第二导电图案116b(网格图案)和第二辅助图案120b。第二导电图案116b在垂直方向(n方向)上延伸，在水平方向(m方向)上排列，每个第二导电图案116b包含大量格子，并且由细金属线16组成。第二辅助图案120b排列在第二导电图案116b的周围并且由细金属线16组成。

第二导电图案116b包含两个或更多第二大格子118b(第二感测部)。第二大格子118b在垂直方向(n方向)上串联连接，并且每个第二大格子118b包含两个或更多小格子70的组合。上述第二辅助图案120b形成在第二大格子118b的边的周围并且不连接至第二大格子118b。

第二大格子118b具有大致菱形的形状，其具有包含在斜边上的一个或多个阶梯122的第二楼梯图案124b。阶梯122的高度等于小格子70的高度的整数倍。在图20的示例中，在第二大格子118b的斜边上，以四个小格子70的距离形成两个阶梯122，并且阶梯122的高度等于一个小格子70的高度。第二楼梯图案124b是小格子70的列在阶梯122处在从水平延伸的拐角至垂直延伸的拐角的方向上在第二大格子118b中增加。

如上所述，第二大格子118b具有大致菱形的形状。更具体地，第二大格子118b具有通过去除在垂直延伸拐角中的数个小格子70来提供的算盘珠形状。因此，r个小格子70(其中r是大于1的整数)排列在水平方向上，以在每两个垂直延伸的拐角上形成第二上底126b，并且放置一个小格子70以在每个水平延伸的拐角上形成顶角。在图20中，四个小格子70排列在水平方向上，以在第二大格子118b的每两个垂直延伸的拐角上形成第二上底126b。

在这种情况下，为了方便起见，当将可包围在第二大格子118b中的最大菱形(即，在两个水平延伸拐角之间形成的最大菱形)的纵横比视为第二大格子118b的纵横比(lva/lha)时，纵横比(lva/lha)满足条件0.57<lva/lha<1.74。

在水平方向(m方向)等于具有触控面板50的显示设备30的像素排列方向(参见图6)的情况下，第二大格子118b的纵横比(lva/lha)满足条件0.57<lva/lha<1.00或1.00<lva/lha<1.74，并更优选于满足条件0.62<lva/lha<0.81或1.23<lva/lha<1.61。

第二缺失部128b(通过去除小格子70的一条边来提供的部分)形成在垂直延伸的拐角上的第二上底126b与第二大格子118b的沿着第二斜方向延伸的斜边之间。

如图20所示，由细金属线16组成的第二连接件132b形成在第二大格子118b之间，并且通过第二连接件132b连接在垂直方向上排列的每个相邻的两个第二大格子118b。第二连接件132b包含第二中等格子134b和136b。第二中等格子134b的大小对应于排列在第一斜方向上的n个小格子70(其中n是大于1的整数)的总大小。第二中等格子136b的大小对应于p×q个小格子70的总大小(其中p和q中的每一个均是大于1的整数)。因此，第二中等格子136b被形成为在第一斜方向上排列p个小格子70和在第二斜方向上排列q个小格子70。在图20的示例中，n是7，由此第二中等格子134b的大小对应于排列在第一斜方向上的7个小格子70的总大小。在图20的示例中，p(在第一斜方向上的数量)是3，而q(在第二斜方向上的数量)是5，由此第二中等格子136b的大小对应于十五个小格子70的总大小。

第二缺失部128b(通过去除小格子70的一条边来提供的部分)形成在第二中等格子136b与第二大格子118b之间。

第二断开部138b被设置在水平方向上排列的相邻的第二导电图案116b之间，并且每相邻的两个第二大格子118b通过第二断开部138b彼此绝缘。

上述第二辅助图案120b形成在第二导电部114b的第二大格子118b的边的周围，并且不连接至第二大格子118b。第二辅助图案120b包含沿着在第二大格子118b的平行于第二斜方向的斜边上的第一楼梯图案124b排列的多个第二辅助线130b(具有平行于第一斜方向的轴方向)、沿着在第二大格子118b的平行于第一斜方向的斜边上的第一楼梯图案124b排列的第二辅助线130b(具有平行于第二斜方向的轴方向)、和通过将两条第二辅助线130b组合为l形来形成的第二l形图案131b。

以与第一辅助线130a相同的方式，每条第二辅助线130b的轴方向长度是小格子70的内边长的1/2。将第二辅助线130b放置在距第二大格子118b的预定距离处。预定距离以与第一辅助线130a相同的方式也等于小格子70的内边长的1/2。

通过将具有平行于第二斜方向的轴方向的第二辅助线130b和具有平行于第二斜方向的轴方向的第二辅助线130b相组合，来将第二l形图案131b形成在第一楼梯图案124b的阶梯122附近。第二l形图案131b面对阶梯122的拐角或放置在第二大格子118b之间的第二断开部138b中。如图20所示，在第二断开部138b中，两条第二辅助线130b设置在一个第二大格子118b的水平延伸的拐角附近，并且两条第二辅助线130b设置在相邻的第二大格子118b的水平延伸拐角附近，由此两个第二l形图案131b在垂直方向上彼此面对排列。

在第二大格子118b中的每个小格子70的边长优选为50μm或更大，更优选为100至400μm，还优选为150至300μm，最优选为210至250μm。当小格子70的边长在该范围内时，第二导电膜110b具有高透明度并且由此能够以优秀可见度适用于显示设备的正面。

如图17所示，在具有上述结构的第二导电膜110b中，例如，在每个交替的奇数编号的第二导电图案116b的一端和每个偶数编号的第二导电图案116b的另一端中，第二连接件132b不形成在第二大格子118b的开放端上。在每个奇数编号的第二导电图案116b的另一端和每个偶数编号的第二导电图案116b的一端，通过第二接线部84b将第二大格子118b的端部连接至由细金属线16组成的第二端子布线图案86b。所以，第二导电膜110b以与第一实施例相同的方式用于触控面板50中。

第一导电图案116a(第一大格子118a和第一连接件132a)和第二导电图案116b(第二大格子118b和第二连接件132b)中的每一个的线宽的下限优选为1μm或更大、3μm或更大、4μm或更大、或5μm或更大，并且上限优选为15μm或更小、10μm或更小、9μm或更小、或8μm或更小。当线宽小于下限时，导电膜具有不足的导电性，由此使用膜的触控面板具有不足的检测灵敏度。另一方面，当线宽大于上限时，由于细金属线16产生了显著的莫尔条纹，因此使用膜的触控面板具有较差的可见度。当线宽处于以上范围内时，则改善了由细金属线16组成的导电图案的莫尔条纹，并且可见度显著提高。优选的是至少第一透明基板112a具有75至350μm的厚度。厚度还优选为80至250μm，尤其优选为100至200μm。

第一辅助图案120a(第一辅助线130a)和第二辅助图案120b(第二辅助线130b)中的每一个的线宽的下限优选为1μm或更大、3μm或更大、4μm或更大、或5μm或更大，并且上限优选为15μm或更小，10μm或更小，9μm或更小，或8μm或更小。该线宽可以等于不同于第一导电图案116a或第二导电图案116b的线宽。顺便说一下，优选的是第一导电图案116a、第二导电图案116b、第一辅助图案120a和第二辅助图案120b具有相同的线宽。

例如，如图21所示，当第一导电膜110a堆叠在第二导电膜110b上以形成导电膜系104时，第一导电图案116a和第二导电图案116b相交叉。具体地，第一导电图案116a的第一连接件132a和第二导电图案116b的第二连接件132b彼此面对排列，且第一透明基板112a(参见图18a)插置在其间，并且第一导电部114a的第一断开部138a和第二导电部114b的第二断开部138b也彼此面对排列，且第一透明基板112a插置在其间。

如图21所示，当从上观察导电膜系104时，第一导电膜110a的第一大格子118a之间的空间填充了第二导电膜110b的第二大格子118b。

在这种情况下，第一连接件132a与第二连接件132b互相重叠。因此，第一中等格子134a与第二中等格子134b互相重叠，并且第一中等格子136a与第二中等格子136b互相重叠，以形成具有大致矩形的组合图案140。在组合图案140中，第一中等格子134a和第二中等格子134b位于对角线上。在由图19和图20示出的第一连接件132a和第二连接件132b形成的组合图案140中，在对角线上排列七个小格子70，并且在4条边的每一条边上排列四个小格子70。因此，组合图案140包含总共25个小格子70。在组合图案140的拐角上，由第一中等格子134a中的小格子70的一条边来补偿第二大格子118b的第一缺失部128a中被去除的一条边，并且由第二中等格子134b中的小格子70的一条边来补偿第一大格子118a的第一缺失部128a中被去除的一条边。

此外，第一辅助图案120a与第二辅助图案120b彼此重叠，以在第一大格子118a与第二大格子118b之间形成组合图案142。以与图6所示的第一实施例的示例相同的方式，在组合图案142中，第一辅助线130a的第一轴对应于第二辅助线130b的第二轴，第一辅助线130a不与第二辅助线130b重叠，并且第一辅助线130a的端部对应于第二辅助线130b的端部，由此形成小格子70(网格图案)的一条边。

因此，组合图案140和142每个都包含两个或更多小格子70的组合(网格形状)。所以，如图21所示，当从上方观察导电膜系104时，整个表面覆盖大量的小格子70(网格形状)。第二实施例的参考位置是由第一辅助线130a和第二辅助线130b形成小格子70的一条边的位置。

在该实施例中，以上述方式排列具有阶梯122的第一和第二楼梯图案124a和124b，由此使第一大格子118a与第二大格子118b之间的边界更加不明显，从而提高可见度。

当导电膜系104用于触控面板时，保护层56形成在第一导电膜110a上，并且将从第一导电膜110a中的第一导电图案116a延伸的第一端子布线图案86a和从第二导电膜110b中的第二导电图案116b延伸的第二端子布线图案86b连接至扫描控制电路等。

上述第一实施例和第二实施例的导电膜系54和104具有图7、图8a、图17和图18a所示的结构。例如，在第一实施例中，第一导电部14a形成在第一透明基板12a的一个主表面上，并且第二导电部14b形成在第二透明基板12b的一个主表面上。可替换地，如图8b和图18b所示，例如在第一实施例中，第一导电部14a可以形成在第一透明基板12a的一个主表面上，并且第二导电部14b可以形成在第一透明基板12a的另一个主表面上。在这种情况下，不使用第二透明基板12b，第一透明基板12a堆叠在第二导电部14b上，并且第一导电部14a堆叠在第一透明基板12a上。另外，可以在第一导电膜10a与第二导电膜10b之间设置另一层。只要第一导电图案64a和第二导电图案64b被绝缘，它们就可以互相面对排列。

如图6所示，优选于例如在第一导电膜10a和第二导电膜10b的拐角上形成第一对准记号94a和第二对准记号94b。第一对准记号94a和第二对准记号94b用于在将膜结合的过程中对第一导电膜10a和第二导电膜10b进行定位。当将第一导电膜10a和第二导电膜10b结合以获得导电膜系54时，第一对准记号94a和第二对准记号94b形成复合的对准记号。该复合的对准记号可用于在将导电膜系54附着至显示面板58的过程中定位该导电膜系54。

虽然在上述实施例中第一导电膜10a和110a与第二导电膜10b和110b用于投射电容式触控面板50，然而它们也能够用于表面电容触控面板或电阻触控面板。

虽然在上述实施例中导电膜10和110用作电磁屏蔽膜或导电触控面板膜，然而它们也能够用作用于显示设备30的显示面板58的另一光学膜。在这种情况下，显示面板58的整个表面可以覆盖导电膜的网格图案。显示面板58的整个表面可以覆盖有导电膜10或110的网格图案20，并且可以只有显示屏幕58a的一部分(诸如拐角或中心部分)覆盖有导电膜10或110的网格图案20。

以下将描述根据第一实施例的用于生产导电膜10或110的方法。应该理解，该方法也能够用于第二实施例。

可以如下生产导电膜10。例如可以对具有透明基板12和在其上的包含光敏卤化银的乳化层的光敏材料进行曝光和显影，由此金属银部和透光部可以分别形成在曝光区域和未曝光区域中，以获得网格图案20。可以对金属银部进行物理显影处理和/或电镀处理，以在其上沉积导电金属。

可替换地，可以在第一透明基板12a和第二透明基板12b上形成预电镀处理材料的光敏电镀基层。可以对所得产品进行曝光和显影，并可以进行电镀处理，由此金属部和透光部可分别形成在曝光区域和未曝光区域，以形成第一导电图案64a和第二导电图案64b。还可以对金属部进行物理显影处理和/或电镀处理，以在其上沉积导电金属。

以下两种工艺可优选用于使用预电镀处理材料的方法。在日本特许专利公开no.2003-213437、2006-064923、2006-058797和2006-135271等中更具体地公开了这些工艺。

(a)一种工艺，包括将具有与其电镀催化剂或前驱体相互作用的官能团的电镀基层施加至透明基板，对该层进行曝光和显影，并对显影层进行电镀处理以在电镀基础材料上形成金属部。

(b)一种工艺，包括将包含聚合物和金属氧化物的底层和具有与其电镀催化剂或前驱体相互作用的官能团的电镀基层以该顺序施加至透明基板，对这些层进行曝光和显影，并对显影层进行电镀处理以在电镀基础材料上形成金属部。

可替换地，可以对设置在透明基板12上的铜箔上的光致抗蚀膜进行曝光和显影，以形成光致抗蚀图案，并且可以蚀刻从光致抗蚀图案露出的铜箔以形成网格图案20。

可以在透明基板12上印刷包含纯金属粒子的糊剂，并可以使用金属来电镀印刷的糊剂以形成网格图案20。

可以通过使用屏幕或凹版印刷板将网格图案20印刷在透明基板12上。

可以通过使用喷墨法将网格图案20形成在透明基板12上。

以下将主要描述根据该实施例的包含使用用于生产导电膜10的照相的光敏卤化银材料的特别优选方法。

用于生产该实施例的导电膜10的方法包括在光敏材料和显影处理上不同的以下三种工艺。

(1)一种工艺，包括对没有物理显影核的光敏黑白卤化银材料进行化学显影或热显影以在光敏材料上形成金属银部。

(2)一种工艺，包括对具有包含物理显影核的卤化银乳化层的光敏黑白卤化银材料进行溶解物理显影，以在光敏材料上形成金属银部。

(3)一种工艺，包括对没有物理显影核的一堆光敏黑白卤化银材料和具有包含物理显影核的非光敏层的图像接收片材进行扩散转移显影，以在非光敏图像接收片材上形成金属银部。

在工艺(1)中，整体黑白显影工序用于将诸如透光导电膜的可透射导电膜形成在光敏材料上。所得的银是包含具有高比表面积的丝状物的化学显影或热显影的银，并且由此在以下电镀或物理显影处理中显示出高活性。

在工艺(2)中，将卤化银粒子熔化在曝光区域中的物理显影核周围并沉积在曝光区域中的物理显影核上，以在光敏材料上形成诸如透光导电膜的可透射导电膜。同样在该工艺中，使用该整体黑白显影工序。虽然由于在显影中将卤化银沉积在物理显影核而能够实现高活性，但是显影的银具有比表面积小的球形。

在工艺(3)中，将卤化银粒子熔化在未曝光区域，并且扩散和沉积在图像接收片材的显影核上，以在片材上形成诸如透光导电膜的可透射导电膜。在该工艺中，使用所谓的分离型工序，将图像接收片材从光敏材料剥落。

在这些工艺中能够使用负显影处理或反转显影处理。在扩散转移显影中，可使用自动正光敏材料来进行负显影处理。

化学显影、热显影、溶解物理显影和扩散转移显影具有本领域中众所周知的含义，并且在诸如shin-ichikikuchi,"shashinkagaku(photographicchemistry)",kyoritsushuppan有限公司,1955和c.e.k.mees,"thetheoryofphotographicprocesses,4thed.",mcmillan,1977的普通照相化学文献中进行了解释。在本发明中通常使用液体处理，并且也能够利用热显影处理。例如，可在本发明中使用在日本特许专利公开no.2004-184693、2004-334077和2005-010752以及日本专利申请no.2004-244080和2004-085655中所描述的技术。

以下将描述该实施例的导电膜10中的每一层的结构。

[透明基板12]

透明基板12可以是塑料膜、塑料板、玻璃板等。

用于塑料膜和塑料板的材料的示例包括诸如聚乙烯对苯二酸(pet)和聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)的聚酯和三乙酰纤维素(tac)。

透明基板12优选为具有大约290℃或更低的熔点的塑料膜或塑料板。从光的透射性、可使用性等来看特别优选于pet。

[银盐乳化层]

待转换为导电膜10的细金属线16的银盐乳化层包含银盐和粘合剂，并且还可以包含溶剂和诸如染料的添加剂。

用于该实施例的银盐可以是诸如卤化银的无机银盐或诸如乙酸银的有机银盐。在该实施例中，由于卤化银优秀的光感测特性而优选卤化银。

银盐乳化层的应用银量(银密度中的应用的银盐的量)优选为1至30g/㎡，更优选为1至25g/㎡，还优选为5至20g/㎡。当应用的银量处于该范围内时，生成的导电膜10可展现出期望的表面电阻。

该实施例中使用的粘合剂的示例包括明胶、聚乙烯醇(pva)、聚乙烯吡咯烷酮(pvp)、多糖(诸如淀粉、纤维素及其衍生物)、聚氧化乙烯、聚乙烯胺、壳聚糖、聚赖氨酸、聚丙烯酸、聚海藻(polyalginic)酸、聚透明质(polyhyaluronic)酸和羧基纤维素。粘合剂取决于官能团的电离度而显示出中性的、阴离子或阳离子特性。

在该实施例中，对银盐乳化层中粘合剂的量不做特别限制，并可以适当地选择以获得充分的扩散和粘结特性。银盐乳化层中的银/粘合剂的体积比优选为1/4或更大，更优选为1/2或更大。银/粘合剂的体积比优选为100/1或更小，更优选为50/1或更小。特别地，银/粘合剂的体积比还优选为1/1至4/1，最优选为1/1至3/1。当银盐乳化层中的银/粘合剂的体积比处于该范围内时，即使在应用的各种银量下也能够减小电阻变化，由此能够生产具有均匀表面电阻的导电膜10。可通过将材料的卤化银/粘合剂的重量比转换为银/粘合剂的重量比并且还通过将银/粘合剂的重量比转换为银/粘合剂的体积比获得银/粘合剂的体积比。

<溶剂>

对用于形成银盐乳化层的溶剂不进行特别限制，并且其示例包括水、有机溶剂(例如，诸如甲醇之类的酒精，诸如丙酮之类的酮，诸如甲酰胺之类的酰胺，诸如二甲亚砜之类的亚砜，诸如乙酸乙酯这类的酯，乙醚)、离子液体、及其混合物。

<其它添加剂>

对用于该实施例的添加剂不进行特别限制，并可优选从已知添加剂中选择。

<其它层>

在银盐乳化层上可以形成保护层(未示出)。另外，可以在银盐乳化层下面形成底涂层等。

以下将描述用于生产导电膜10的步骤。

<曝光>

在该实施例中，导电部14可以在印刷工艺中形成，并且可以在另外的工艺中通过曝光和显影处理等形成。因此，对具有透明基板12和在其上的含银盐层的光敏材料或涂覆有用于光刻的光聚合物的光敏材料进行曝光处理。可以在曝光中使用电磁波。例如，电磁波可以是诸如可见光或紫外光之类的光，或诸如x射线之类的照射。可以使用具有波长分布或特定波长的光源进行曝光。

[显影处理]

在该实施例中，在曝光之后对乳化层进行显影处理。在本发明中可以使用用于照相银盐膜、照相纸、印刷雕刻膜、用于光掩模的乳化掩模等普通显影处理技术。

在本发明中，显影过程可以包括用于去除未曝光区域中的银盐以稳定材料的定影处理。在本发明中可以使用用于照相银盐膜、照相纸、印刷雕刻膜、用于光掩模的乳化掩模等定影处理技术。

优选对显影和定影的光敏材料进行水洗处理或稳定处理。

在显影之后在曝光区域中包含的金属银与在曝光之前该区域中包含的银的比优选于以质量计为50％或更大，更优选为80％或更大。当以质量计的比是50％或更大，能够实现高导电率。

通过上述步骤获得导电膜10。所得导电膜10的表面电阻优选于在0.1至300ohm/sq的范围内。导电膜10的优选表面电阻范围取决于导电膜10的使用。在导电膜10用于电磁屏蔽膜中的情况下，表面电阻优选为10ohm/sq或更小，更优选为0.1至3ohm/sq。在导电膜10用于触控面板中的情况下，表面电阻优选为1至70ohm/sq，更优选为5至50ohm/sq，还优选为5至30ohm/sq。在显影处理之后可以对导电膜10进行砑光处理以获得期望的表面电阻。

[物理显影处理和电镀处理]

在该实施例中，为了提高通过上述曝光处理和显影处理所形成的金属银部的导电性，可以通过物理显影处理和/或电镀处理将导电金属粒子沉积在金属银部上。在本发明中，可以只通过物理显影和电镀处理中的一种或通过这些处理的结合将导电金属粒子沉积在金属银部上。以这种方式进行物理显影处理和/或电镀处理的金属银部也称为导电金属部。

在这个实施例中，物理显影是通过还原剂还原诸如银离子的金属银的工艺，由此将金属粒子沉积在金属或金属复合芯上。这种物理显影已经用于即时b&w膜、即时幻灯片、印刷板生产等领域，并且这些技术能够用于本发明。可以在曝光之后的上述显影处理的同时进行物理显影，并可以在显影处理之后单独进行物理显影。

在该实施例中，电镀处理可以包含无电电镀(诸如化学还原电镀或置换电镀)、电解电镀或其组合。已知的用于印刷电路板等的无电电镀技术可以用于该实施例中。无电电镀优选为无电铜电镀。

[氧化处理]

在该实施例中，优选对通过显影处理形成的金属银部或通过物理显影处理和/或电镀处理形成的导电金属部进行氧化处理。例如，通过氧化处理，能够去除沉积在透光部上的少量金属，使得能够将透光部的透光率提高至近似100％。

[导电金属部]

在该实施例中，导电金属部的线宽(细金属线16)可以是30μm或更小。线宽的下限优选为0.1μm或更大、1μm或更大、3μm或更大、4μm或更大、或5μm或更大，而其上限优选为30μm或更小、15μm或更小、10μm或更小、9μm或更小、或8μm或更小。当线宽小于下限时，导电金属部具有不足的导电性，由此使用导电金属部的触控面板50具有不足的检测灵敏度。另一方面，当线宽大于上限时，由于导电金属部明显产生了莫尔条纹，从而使用导电金属部的触控面板50具有较差的可见度。当线宽处于上述范围内时，改善了导电金属部的莫尔条纹，并且可见度显著提高。小格子70的边长优选为100至400μm，还优选为150至300μm，最优选为210至250μm。为了接地等目的，导电金属部可具有线宽大于200μm的部分。

在该实施例中，鉴于可见光透光率，导电金属部的开口部率优选为85％或更高，更优选为90％或更高，最优选为95％或更高。开口部率是除细金属线16之外的透光部与整个导电部的比。例如，具有6μm线宽和240μm边长的菱形具有95％的开口部比。

[透光部]

在该实施例中，透光部是导电膜10中除导电金属部之外的具有透光率的部分。透光部的透光率(在这里其是忽略透明基板12的光吸收和光反射而获得的处于波长范围380至780nm内的最小透光率值)是90％或更多，优选为95％或更多，更优选为97％或更多，还优选为98％或更多，最优选为99％或更多。

优选使用玻璃掩模法或光刻印刷图案曝光法来进行曝光。

[导电膜10]

在该实施例的导电膜10中，透明基板12的厚度优选为5至350μm，更优选为30至150μm。当厚度是5至350μm时，能够获得期望的可见光透光率，并且能够易于运用透明基板12。

可以通过控制用于施加至透明基板12的含银盐层的涂覆液体的厚度来适当地选择形成在透明基板12上的金属银部的厚度。金属银部的厚度可选择在0.001至0.2mm的范围内，并且优先为30μm或更小，更优选为20μm或更小，还优选为0.01至9μm，最优选为0.05至5μm。金属银部优选以图案化的形状来形成。金属银部可具有单层结构或包括两层或更多层的多层结构。当金属银部具有包含两层或更多层的图案化多层结构时，这些层可以具有不同的波长颜色灵敏度。在这种情况下，可通过使用具有不同波长的曝光灯在这些层中形成不同的图案。

在使用触控面板50中的导电金属部的情况下，导电金属部优选具有较小的厚度。由于厚度减小，显示面板58的视角和可见度得到改进。因此，导电金属部上的导电金属的层的厚度优选小于9μm，更优选为0.1μm或更大但小于5μm，还优选为0.1μm或更大但小于3μm。

在该实施例中，能够通过改变含银盐层的涂覆厚度来控制金属银部的厚度，并且能够在物理显影处理和/或电镀处理中控制导电金属粒子层的厚度。所以，甚至能够易于生产出具有小于5μm(优选小于3μm)的厚度的导电膜。

在用于生产该实施例的导电膜10的方法中不必进行电镀等。这是由于在方法中可以通过控制应用的银量和银盐乳化层的银/粘合剂体积比来获得期望的表面电阻。如果必要的话，可以进行砑光处理等。

[显影处理之后的膜硬化处理]

优选的是，在对银盐乳化层进行显影之后，将所得物浸入硬化剂中从而进行膜硬化处理。硬化剂的示例包括硼酸和诸如日本特许专利申公开no.02-141279中描述的诸如戊二醛、己二醛以及2，3-二羟基-1，4-二恶烷的二醛。

可以在该实施例的导电膜10上形成诸如防反射层或硬涂层的附加功能层。

[砑光处理]

可以通过砑光处理来对显影的金属银部进行平滑。通过砑光处理能够显著地提高金属银部的导电性。可以使用砑光辊单元进行砑光处理。砑光辊单元通常具有一对辊。

砑光处理中的辊可以由金属或塑料(诸如环氧树脂、聚酰亚胺、聚酰胺或聚酰亚胺-酰胺)组成。特别是在光敏材料在两侧都具有乳化层的情况下，优选使用一对金属辊进行处理。在光敏材料仅在一侧具有乳化层的情况下，鉴于预防起皱可以使用金属辊和塑料辊的组合进行处理。管路压力的上限优选为1960n/cm(200kgf/cm，对应于699.4kgf/cm²的表面压力)或更大，更优选为2940n/cm(300kgf/cm，对应于935.8kgf/cm²的表面压力)或更大。管路压力的上限是6880n/cm(700kgf/cm)或更小。

优选在温度10℃(在没有温度控制的情况下)至100℃进行诸如砑光处理的平滑处理。虽然优选的处理温度范围取决于金属网格或金属布线图的密度和形状、粘合剂的类型等，然而温度通常更优选为10℃(在没有温度控制的情况下)至50℃。

本发明可以适当地结合在表1和表2中示出的以下专利公开和国际专利册中描述的技术。其中省略了“日本特许专利”、“公开号”、“册号”等。

表1

表2

示例

以下将参照示例来更具体地描述本发明。在不背离本发明范围的情况下，可以适当改变示例中使用的材料、数量、比率、处理内容、处理工序等。因此以下具体示例在所有方面应视为说明性而非限制性的。

[第一示例]

在第一示例中，分别生产比较示例1至6和示例1至36的导电膜。计算每一导电片的开口部率，并且评价每一导电片的莫尔条纹。在表3和表4中示出比较示例1至6和示例1至36的构成、计算结果和评价结果。

<示例1至36和比较示例1至6>

(光敏卤化银材料)

制备了包含水性介质、明胶和碘溴氯化银颗粒的乳剂。明胶的量是每150g中10gag，并且碘溴氯化银颗粒具有0.2mol％含量的i、40mol％含量的br以及0.1μm的平均球形等效直径。

将k3rh2br9和k2ircl6添加至在10^-7mol/mol的银浓度下的乳剂，以将溴化银粒子与rh和ir离子掺杂。还将na2pdcl4添加至乳剂，并且使用氯金酸和硫代硫酸钠对所得乳剂进行金硫敏化。对由聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)组成的透明基板施加乳剂和明胶硬化制剂。应用的银的数量是10g/m²，而ag/明胶的体积比是2/1。

pet支撑物具有30cm的宽度，并且施加至那里的乳剂的宽度为25cm且长度为20m。将具有3cm宽度的两个端部都切断，以获得具有24cm宽度的卷形光敏卤化银材料。

[曝光]

透明基板的a4(210mm×297mm)大小区域被曝光在图1中示出的网格图案20中。使用图案化的光掩模和来自高压水银灯的光源的平行光进行曝光。

(显影处理)

1l显影剂的配方

1l定影剂的配方

在下列条件下使用由fujifilm公司制造的自动处理器fg710pts以上述处理制剂对曝光的光敏材料进行处理。在35℃进行显影处理30秒，在34℃进行定影处理23秒，并然后以5l/min的水流量进行水洗处理20秒。(示例1)

在示例1中生产的导电膜中，细金属线16具有30°的倾斜度(在网格图案20中的第一细金属线16a与开口部18中的在水平方向上延伸以连接多个交点的虚线24之间的角θ)、200μm的细线间距ps和6μm的线宽。(示例2至6)

除了细金属线16分别具有220、240、260、300和400μm的细线间距ps之外，以与示例1相同的方式来生产示例2、3、4、5和6的导电膜。

(示例7)

在示例7中生产的导电膜中，细金属线16具有36°的倾斜度、200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例8至12)

除了细金属线16分别具有220、240、260、300和400μm的细线间距ps之外，以与示例7相同的方式来生产示例8、9、10、11和12的导电膜。

(示例13)

在示例13中生产的导电膜中，细金属线16具有37°的倾斜度、200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例14至18)

除了细金属线16分别具有220、240、260、300和400μm的细线间距ps之外，以与示例13相同的方式来生产示例14、15、16、17和18的导电膜。

(示例19)

在示例19中生产的导电膜中，细金属线16具有39°的倾斜度，200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例20至24)

除了细金属线16分别具有220、240、260、300和400μm的细线间距ps之外，以与示例19相同的方式来生产示例20、21、22、23和24的导电膜。

(示例25)

在示例25中生产的导电膜中，细金属线16具有40°的倾斜度、200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例26至30)

除了细金属线16分别具有220、240、260、300和400μm的细线间距ps之外，以与示例25相同的方式来生产示例26、27、28、29和30的导电膜。

(示例31)

在示例31中生产的导电膜中，细金属线16具有44°的倾斜度、200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例32至示例36)

除了细金属线16分别具有220、240、260、300和400μm的细线间距ps之外，以与示例31相同的方式来生产示例32、33、34、35和36的导电膜。

(比较示例1)

在比较示例1中生产的导电膜中，细金属线16具有29°的倾斜度、200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(比较示例2和3)

除了细金属线16分别具有300和400μm的细线间距ps之外，以与比较示例1相同的方式来生产比较示例2和3的导电膜。

(比较示例4)

在比较示例4中生产的导电膜中，细金属线16具有45°的倾斜度，200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(比较示例5和6)

除了细金属线16分别具有300和400μm的细线间距ps之外，以与比较示例4相同的方式来生产比较示例5和6的导电膜。

[评价]

(开口部率的评价)

由分光光度计来测量比较示例1至6和示例1至36的导电膜的透光率，并且按比例计算开口部率以评价透光率。

(莫尔条纹评价)

将比较示例1至6和示例1至36的每一个导电膜附着至显示设备30的显示面板58，将显示设备30固定至转盘，并操作显示设备30显示白色。当在-20°至+20°的偏角范围内旋转转盘时，视觉上观察和评价导电膜的莫尔条纹。显示设备30具有大约192μm的垂直像素间距pv和水平像素间距ph。在该评价中使用由hewlett-packard公司制造的pavilion笔记本pcdmla(11.6英寸平滑液晶显示器，wxga/1366×768)。

在距显示设备30的显示屏0.5m的距离处观察莫尔条纹。当莫尔条纹不可见时将导电膜评价为“优秀”，当莫尔条纹在可接受的程度上轻微可见时评价为“一般”，或者当莫尔条纹明显可见时评价为“差的”。在综合评价中，将每个导电膜评价为“a”、“b”、“c”或“d”。a意味着膜在10°或更大的角度范围内被评价为优秀，b意味着膜在小于10°的角度范围内并评价为优秀，c意味着膜在任意角度都不能被评价为优秀并且在小于30°的角度范围内被评价为差的，并且d意味着膜在任意角度都不能评价为优秀并且在30°或更大的角度范围内被评价为差的。

表3

表4

如表3和表4所示，比较示例1至6的导电膜被评价为d，并具有明显可见的莫尔条纹。在示例1至36当中，示例1、4至7、25、28至31和34至36中，莫尔条纹在可接受的程度上仅轻微可见。在其它示例中，示例2、3、10至13、16至19、22至24、26、27、32和33因为几乎不产生莫尔条纹而是期望的。特别地，在示例8、9、14、15、20和21中，因为细金属线16具有36°至39°的倾斜度和220至240μm的细线间距ps所以观察不到莫尔条纹的产生。

分别使用示例1至36的导电膜来生产投射电容式触控面板50。当由手指触控来操作触控面板50时，它们展现出高响应速度和优秀的检测灵敏度。此外，当触控两点或更多点时，触控面板50展现出相同的优秀特性。因此，可以确认触摸面板50能够多点触摸检测。

[第二示例]

在第二示例中，分别生产比较示例11至16和示例41至100的导电膜系54。计算每个导电膜系54的开口部率，并且评价每个导电膜系54的莫尔条纹。在表5和表6中示出了比较示例11至16和示例41至100的构成、计算结果和评价结果。

<示例41至100和比较示例11至16>

(光敏卤化银材料)

以与第一示例相同的方式来制备卷形光敏卤化银材料。

(曝光)

第一透明基板12a的a4(210mm×297mm)大小区域被曝光在图7和图9中示出的第一导电膜10a的图案中，并且第二透明基板12b的a4大小区域被曝光在图7和图13中示出的第二导电膜10b的图案中。使用图案化的光掩模和来自高压水银灯的光源的平行光来进行曝光。

(显影处理)

在下列条件下使用由fujifilm公司制造的自动处理器fg-710pts以上述第一示例的处理制剂对曝光的光敏材料进行处理。在35℃进行显影处理30秒，在34℃进行定影处理23秒，并且然后以5l/min的水流量进行水洗处理20秒。

(示例41)

在示例1中生产的导电膜系中，第一导电膜10a的第一导电部14a中和第二导电膜10b的第二导电部14b中的小格子70具有在第一条边70a(参见图10)与第一方向(x方向)之间的30°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例42至44)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例41相同的方式生产示例42、43和44的导电膜系。

(示例45)

在示例45中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的32°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例46至48)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例45相同的方式来生产示例46、47和48的导电膜系。

(示例49)

在示例49中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的36°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例50至52)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例49相同的方式来生产示例50、51和52的导电膜系。

(示例53)

在示例53中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的37°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例54至56)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例53相同的方式来生产示例54、55和56的导电膜系。

(示例57)

在示例57中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的39°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例58至60)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例57相同的方式来生产示例58、59和60的导电膜系。

(示例61)

在示例61中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的40°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例62至64)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例61相同的方式来生产示例62、63和64的导电膜系。

(示例65)

在示例65中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的44°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例66至68)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例65相同的方式来生产示例66、67和68的导电膜系。

(示例69)

在示例69中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的45°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例70至72)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例69相同的方式来生产示例70、71和72的导电膜系。

(示例73)

在示例73中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的46°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例74至76)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例73相同的方式来生产示例74、75和76的导电膜系。

(示例77)

在示例77中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的50°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例78至80)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例77相同的方式来生产示例78、79和80的导电膜系。

(示例81)

在示例81中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的51°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例82至84)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例81相同的方式来生产示例82、83和84的导电膜系。

(示例85)

在示例85中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的53°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例86至88)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例85相同的方式来生产示例86、87和88的导电膜系。

(示例89)

在示例89中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的54°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例90至92)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例89相同的方式来生产示例90、91和示例92的导电膜系。

(示例93)

在示例93中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的58°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例94至96)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例93相同的方式生产示例94、95和96的导电膜系。

(示例97)

在示例97中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的60°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(示例98至100)

除了小格子70分别具有220、240和400μm的边长之外，以与示例97相同的方式来生产示例98、99和100的导电膜系。

(比较示例11)

在比较示例11中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的29°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(比较示例12和13)

除了小格子70分别具有300和400μm的边长之外，以与比较示例11相同的方式来生产比较示例12和13的导电膜系。

(比较示例14)

在比较示例14中生产的导电膜系中，小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的61°的角θ、200μm的边长和6μm的线宽。

(比较示例15和16)

除了小格子70分别具有300和400μm的边长之外，以与比较示例14相同的方式来生产比较示例15和16的导电膜系。

[评价]

以与第一示例相同的方式来进行对导电膜系的开口部率计算和莫尔条纹的评价。在表5和表6中示出结果。

表5

表6

如表5和表6所示，比较示例11至16中的导电膜系被评价为d，并具有明显可见的莫尔条纹。在示例41至100当中，在示例41、44、61、64、65、68至73、76、77、80、97和100中，莫尔条纹在可接受的程度上仅轻微可见。在其它示例中，示例42、43、45、48、49、52、53、56、57、60、62、63、66、67、74、75、78、79、81、84、85、88、89、92、93、96、98和99因为几乎不产生莫尔条纹而是期望的。特别地，在示例46、47、50、51、54、55、58、59、82、83、86、87、90、91、94和95中，因为小格子70具有在第一条边70a与第一方向之间的32°至39°的角θ和220μm或240μm的边长，因此观察不到莫尔条纹的产生。

分别使用示例41至100的导电膜系10来生产投射电容式触控面板50。当通过手指触控来操作触控面板50时，它们展现出高响应速度和优秀的检测灵敏度。此外，当触控两点或更多点时，触控面板50展现出相同的优秀特性。因此，可以确认触摸面板50能够多点触控检测。

[第三示例]

在第三示例中，分别生产比较示例21至26和示例101至160的导电膜系。计算每个导电膜系的开口部率，并且评价每个导电膜系的莫尔条纹。在表7和表8中示出了比较示例21至26和示例101至160的构成、计算结果和评价结果。

<示例101至160和比较示例21至26>

(光敏卤化银材料)

以与第一示例相同的方式来制备卷形光敏卤化银材料。

(曝光)

第一透明基板12a的a4(210mm×297mm)大小区域在图7和图9中所示的第一导电膜10a的图案中，并且第二透明基板12b的a4大小区域被曝光在图7和图13中所示的第二导电膜10b的图案中。使用图案化的光掩模和来自高压水银灯的光源的平行光来进行曝光。

(显影处理)

在下列条件下使用由fujifilm公司制造的自动处理器fg-710pts以上述第一示例的处理制剂对曝光的光敏材料进行处理。在35℃进行显影处理30秒，在34℃进行定影处理23秒，并且然后以5l/min的水流量进行水洗处理20秒。

(示例101)

在示例101中生产的导电膜系中，第一导电膜10a的第一导电部14a中的第一大格子68a具有0.5773的纵横比(lva/lha)，第二导电膜10b的第二导电部14b中的第二大格子68b具有0.5773的纵横比(lvb/lhb)，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例102至104)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例101相同的方式生产示例102、103和104的导电膜系。

(示例105)

在示例105中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有0.6248的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例106至108)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例105相同的方式生产示例106、107和108的导电膜系。

(示例109)

在示例109中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有0.7266的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例110至112)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例109相同的方式生产示例110、111和112的导电膜系。

(示例113)

在示例113中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有0.7535的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例114至116)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例113相同的方式生产示例114、115和116的导电膜系。

(示例117)

在示例117中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有0.8098的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例118至120)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例117相同的方式生产示例118、119和120的导电膜系。

(示例121)

在示例121中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有0.8391的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例122至124)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例121相同的方式生产示例122、123和124的导电膜系。

(示例125)

在示例125中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有0.9657的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例126至128)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例125相同的方式生产示例126、127和128的导电膜系。

(示例129)

在示例129中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有1.0000的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例130至132)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例129相同的方式生产示例130、131和132的导电膜系。

(示例133)

在示例133中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有1.0356的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例134至136)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例133相同的方式生产示例134、135和136的导电膜系。

(示例137)

在示例137中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有1.1917的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例138至140)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，使用与示例137相同的方式生产示例138、139和140的导电膜系。

(示例141)

在示例141中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有1.2349的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例142至144)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例141相同的方式生产示例142、143和144的导电膜系。

(示例145)

在示例145中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有1.3271的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例146至148)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例145相同的方式生产示例146、147和148的导电膜系。

(示例149)

在示例149中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有1.3763的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例150至152)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例149相同的方式生产示例150、151和152的导电膜系。

(示例153)

在示例153中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有1.6004的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例154至156)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例149相同的方式生产示例154、155和156的导电膜系。

(示例157)

在示例157中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有1.7321的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例158至160)

除了细金属线16分别具有220、240和400μm的细线间距ps之外，以与示例157相同的方式生产示例158、159和160的导电膜系。

(比较示例21)

在比较示例21中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有0.5543的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(比较示例22和23)

除了细金属线16分别具有300和400μm的细线间距ps之外，以与比较示例21相同的方式生产比较示例22和23的导电膜系。

(比较示例24)

在比较示例24中生产的导电膜系中，第一大格子68a和第二大格子68b具有1.8040的纵横比，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(比较示例25和26)

除了细金属线16分别具有300和400μm的细线间距ps之外，以与比较示例24相同的方式生产比较示例25和26的导电膜系。

[评价]

以与第一示例相同的方式来进行对导电膜系的开口部率计算和莫尔条纹的评价。在表7和表8中示出结果。

表7

表8

如表7和表8所示，比较示例21至26中的导电膜系被评价为d，并具有明显可见的莫尔条纹。在示例101至160当中，在示例101、104、121、124、125、128至133、136、137、140、157和160中，莫尔条纹在可接受的程度上仅轻微可见。在其它示例中，示例102、103、105、108、109、112、113、116、117、120、122、123、126、127、134、135、138、139、141、144、145、148、149、152、153、156、158和159因为几乎不产生莫尔条纹而是期望的。特别地，在示例106、107、110、111、114、115、118、119、142、143、146、147、150、151、154和155中，因为第一大格子68a和第二大格子68b的纵横比大于0.62且小于0.81或大于1.23且小于1.61，并且细金属线16具有220μm或240μm的细线间距ps，因此观察不到莫尔条纹的产生。

分别使用示例101至160的导电膜系54来生产投射电容式触控面板50。当通过手指触控来操作触控面板50时，它们展现出高响应速度和优秀的检测灵敏度。此外，当触控两点或更多点时，触控面板50展现出相同的优秀特性。因此，可以确认触摸面板50能够多点触控检测。

[第四示例]

在第四示例中，分别生产比较示例31至36和示例161至220的导电膜系。计算每个导电膜系的开口部率，并且评价每个导电膜系的莫尔条纹。在表9和表10中示出了比较示例31至36和示例161至220的构成、计算结果和评价结果。

<示例161至220和比较示例31至36>

除了第一导电膜110a被曝光在图19中所示的图案中并且第二导电膜110b被曝光在图21中所示的图案中之外，以与第三示例相同的方式来生产和评价导电膜系。排列在水平方向上的两个第一上底126a之间形成的菱形的纵横比被视为第一导电膜110a的第一导电部114a中的第一大格子118a的纵横比，并且在两个水平延伸的拐角之间形成的菱形的纵横比被视为第二导电膜110b的第二导电部114b中的第二大格子118b的纵横比。

(示例161)

在示例161中生产的导电膜系中，第一导电膜110a的第一导电部114a中的第一大格子118a具有0.5773的纵横比(lva/lha)，第二导电膜110b的第二导电部114b中的第二大格子118b具有0.5773的纵横比(lvb/lhb)，并且细金属线16具有200μm的细线间距ps和6μm的线宽。

(示例162至220和比较示例31至36)

以与第三示例中的示例102至160相同的方式分别生产示例162至220的导电膜系。以与第三示例中的比较示例21至26相同的方式分别生产比较示例31至36的导电膜系。表9

表10

如表9和表10所示，比较示例31至36中的导电膜系被评价为d，并具有明显可见的莫尔条纹。在示例161至220当中，在示例161、181、184、185、188、189、192、193、200、217和220中，莫尔条纹在可接受的程度上仅轻微可见。在其它示例中，示例162至165、168、169、172、173、176、177、180、182、183、186、187、190、191、194至199、201、204、205、208、209、212、213、216、218和219因为几乎不产生莫尔条纹而是期望的。特别地，在示例166、167、170、171、174、175、178、179、202、203、206、207、210、211、214和215中，因为第一大格子118a和第二大格子118b的纵横比大于0.62且小于0.81或大于1.23且小于1.61，并且细金属线16具有220μm或240μm的细线间距ps，因此观察不到莫尔条纹的产生。

分别使用示例161至220的导电膜系104来生产投射电容式触控面板50。当通过手指触控来操作触控面板50时，它们展现出高响应速度和优秀的检测灵敏度。此外，当触控两点或更多点时，触控面板50展现出相同的优秀特性。因此，可以确认触摸面板50能够多点触控检测。

应当理解，本发明的导电膜和显示设备不限于上述实施例，并且在不背离本发明的范围的情况下可以做出各种改变和变形。