一种触摸屏及其制作方法、触控显示装置与流程

文档序号:15019629发布日期:2018-07-25 00:23阅读:164来源:国知局

本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种触摸屏及其制作方法、触控显示装置。



背景技术:

OGS(One Glass Solution,一体化触控)触摸屏是一种在玻璃基板上直接形成触控电极的电容式触摸屏,使得一块玻璃基板同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用,能够节约玻璃基板的数量,降低触控显示装置的生产成本。

但是,触控显示装置在熄屏时,由于一体化触控触摸屏的反射率较低,导致触控显示装置无法实现镜面显示。



技术实现要素:

本发明提供一种触摸屏及其制作方法、触控显示装置,以解决现有一体化触控触摸屏反射率低,使得触控显示装置在熄屏时无法实现镜面显示的问题。

为了解决上述问题,本发明公开了一种触摸屏,包括:衬底基板、形成在所述衬底基板第一表面的第一增反层,形成在所述衬底基板第二表面的第二增反层,以及形成在所述第二增反层上的触控功能层;

其中,所述第一表面和所述第二表面相对。

可选地,所述第一增反层的材料为氧化铌。

可选地,所述第一增反层的厚度为

可选地,所述第二增反层包括氧化铌层,所述氧化铌层的厚度为

可选地,所述第二增反层还包括位于所述氧化铌层背离所述衬底基板一侧的氧化硅层,所述氧化硅层的厚度为

可选地,所述触摸屏还包括消影层,所述消影层位于所述触控功能层背离所述第二增反层的一侧。

可选地,所述触摸屏还包括防指纹层,所述防指纹层位于所述第一增反层上背离所述衬底基板的一侧。

为了解决上述问题,本发明还公开了一种触摸屏的制作方法,包括:

在衬底基板的第一表面形成第一增反层;

在所述衬底基板的第二表面形成第二增反层;所述第一表面和所述第二表面相对;

在所述第二增反层上形成触控功能层。

可选地,所述第一增反层和所述第二增反层均采用溅射工艺形成。

为了解决上述问题,本发明还公开了一种触控显示装置,包括显示屏及上述的触摸屏。

可选地,所述显示屏和所述触摸屏之间通过光学透明胶贴合。

可选地,所述显示屏为LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)显示屏或OLED(Organic Light Emitting Diode,有机发光二极管)显示屏。

与现有技术相比,本发明包括以下优点:

通过在衬底基板的第一表面形成第一增反层,在衬底基板的第二表面形成第二增反层,在第二增反层上形成触控功能层,基于第一增反层和第二增反层的高反射率,可提高触摸屏的反射率,使得后续贴合形成的触控显示装置的反射率可达到30%-50%,触控显示装置在熄屏时具有镜面显示功能,同时使得触控显示装置在亮屏时的显示效果不受较大的影响,丰富触摸屏的功能。

附图说明

图1示出了本发明实施例的一种触摸屏的结构示意图;

图2示出了本发明实施例的另一种触摸屏的结构示意图;

图3示出了本发明实施例的再一种触摸屏的结构示意图;

图4示出了本发明实施例的一种触摸屏的制作方法的流程图;

图5示出了本发明实施例的一种触控显示装置的结构示意图;

图6示出了本发明实施例的触控显示装置和现有的触控显示装置的反射率的对比曲线图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

将一体化触控触摸屏与显示屏贴合后可以形成TLCM(Touch Liquid Crystal Module,触控显示装置),通常一体化触控触摸屏的透过率为80%-90%,因此,贴合后形成的触控显示装置的反射率为5%-10%,触控显示装置在亮屏时有很好的显示效果,但是在熄屏时无法实现镜面显示。

实施例一

参照图1,示出了本发明实施例的一种触摸屏的结构示意图。

本发明实施例提供了一种触摸屏,包括:衬底基板11、形成在衬底基板11第一表面的第一增反层12,形成在衬底基板11第二表面的第二增反层13,以及形成在第二增反层13上的触控功能层14;其中,第一表面和第二表面相对。

第一增反层12的材料为氧化铌Nb2O5,当然,也可采用其他材料,如氧化锆ZrO2等;第一增反层12的厚度为第一增反层12的厚度优选为

本发明实施例中的触摸屏可以为一体化触控触摸屏;衬底基板11可以采用玻璃基板,当然,也可采用其他材料的基板,如石英基板、树脂基板等,本发明实施例对此不做限制。

其中,必须在衬底基板11第一表面形成第一增反层12,在衬底基板11第二表面形成第二增反层13,使得触摸屏的反射率大大提高,使得后续贴合形成的触控显示装置的反射率可达到30%-50%,若只在衬底基板11第一表面形成第一增反层12,或者只在衬底基板11第二表面形成第二增反层13,可在一定程度上提高触摸屏的反射率,但是后续贴合形成的触控显示装置的反射率无法达到30%,因此,只在衬底基板11上形成第一增反层12或第二增反层13,后续贴合形成的触控显示装置在熄屏时无法实现镜面显示功能。

参照图2,示出了本发明实施例的另一种触摸屏的结构示意图。

图2所示的触摸屏与图1所示的触摸屏的区别在于,第二增反层13的结构不同。

如图1所示,第二增反层13包括氧化铌层,氧化铌层的厚度为氧化铌层的厚度优选为

如图2所示,在图1的基础上,第二增反层13还包括位于氧化铌层131背离衬底基板11一侧的氧化硅层132,氧化硅层132的厚度为氧化硅层132的厚度优选为

基于光学匹配设计,如图2所示,通过在氧化铌层131上增加一层氧化硅层132,进一步提高触摸屏的反射率。

当然,第二增反层13中的氧化铌层也可用氧化锆层代替。

参照图3,示出了本发明实施例的再一种触摸屏的结构示意图。

在图2的基础上,触摸屏还包括消影层15,消影层15位于触控功能层14背离第二增反层13的一侧。该消影层15的材料为氮氧化硅SiOxNy,用于改善触控功能层14图案明显的问题,实现触控功能层14的消影。

在本发明实施例中,触摸屏还包括防指纹层16,防指纹层16位于第一增反层12上背离衬底基板11的一侧。通过在第一增反层12上增加防指纹层16,防止手指直接触摸第一增反层12导致指纹残留,该防指纹层16也可称为ASF(Anti Finger Film,防指纹层),该防指纹层16的材料为有机高分子聚合物。

当然,也可以在图1所示的触摸屏上形成消影层15和防指纹层16,消影层15和防指纹层16的具体位置与图3所示的位置相同,在此不再赘述。

在本发明实施例中,通过在衬底基板的第一表面形成第一增反层,在衬底基板的第二表面形成第二增反层,在第二增反层上形成触控功能层,基于第一增反层和第二增反层的高反射率,可提高触摸屏的反射率,,通过仅在第二增反层增加氮氧化硅层,通过层级配合,使得后续贴合形成的触控显示装置的反射率可达到30%-50%,触控显示装置在熄屏时具有镜面显示功能,同时使得触控显示装置在亮屏时的显示效果不受较大的影响,丰富触摸屏的功能。

实施例二

参照图4,示出了本发明实施例的一种触摸屏的制作方法的流程图,具体可以包括如下步骤:

步骤401,在衬底基板的第一表面形成第一增反层。

在本发明实施例中,可采用溅射工艺在衬底基板11的第一表面形成第一增反层12。

其中,衬底基板11可以采用玻璃基板、石英基板、树脂基板等;第一增反层12的材料可以为氧化铌Nb2O5或氧化锆ZrO2等,第一增反层12的厚度为

步骤402,在所述衬底基板的第二表面形成第二增反层;所述第一表面和所述第二表面相对。

在本发明实施例中,可采用溅射工艺在衬底基板11的第二表面形成第二增反层13,第一表面和第二表面相对,分别位于衬底基板11的两侧。

如图1所示,当第二增反层13为氧化铌层时,可采用溅射工艺在衬底基板11的第二表面直接形成一层氧化铌层,其材料为氧化铌Nb2O5,厚度为

如图2所示,当第二增反层13为氧化铌层131和氧化硅层132的复合层时,可采用溅射工艺在衬底基板11的第二表面先形成一层氧化铌层131,该氧化铌层131的材料为氧化铌Nb2O5,厚度为然后在氧化铌层131上背离衬底基板11的一侧也采用溅射工艺形成一层氧化硅层132,该氧化硅层132的材料为氧化硅SiO2,厚度为

也就是说,第一增反层12和第二增反层13均采用溅射工艺形成,第一增反层12和第二增反层13的结构易实现,无需增加设备,工艺成本低,易实现量产。

其中,溅射工艺是以一定能量的粒子轰击靶材,如离子、中性原子、分子等,使靶材表面的原子或分子获得足够大的能量而最终逸出靶材,逸出的原子或分子沉积到被镀衬底的表面,形成所需要的薄膜。

当采用溅射工艺形成氧化铌层时,通过一定能量的粒子轰击氧化铌表面,使得氧化铌表面的原子或分子逸出,最终沉积到衬底基板11上;当采用溅射工艺形成氧化硅层132时,通过一定能量的粒子轰击氧化硅表面,使得氧化硅表面的原子或分子逸出,最终沉积到氧化铌层131上。

步骤403,在所述第二增反层上形成触控功能层。

在本发明实施例中,采用构图工艺在第二增反层13上形成触控功能层14。构图工艺通常包括基板清洗、成膜、光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工序;对于金属层通常采用物理气相沉积方式(例如磁控溅射法)成膜,通过湿法刻蚀形成图形,而对于非金属层通常采用化学气相沉积方式成膜,通过干法刻蚀形成图形。

在本发明一种优选的实施例中,还可以在触控功能层14上形成消影层15,在第一增反层12上形成防指纹层16。

在本发明实施例中,通过在衬底基板的第一表面形成第一增反层,在衬底基板的第二表面形成第二增反层,在第二增反层上形成触控功能层,基于第一增反层和第二增反层的高反射率,可提高触摸屏的反射率,使得后续贴合形成的触控显示装置的反射率可达到30%-50%,触控显示装置在熄屏时具有镜面显示功能,同时使得触控显示装置在亮屏时的显示效果不受较大的影响,丰富触摸屏的功能。

实施例三

参照图5,示出了本发明实施例的一种触控显示装置的结构示意图。

本发明实施例提供了一种触控显示装置,包括显示屏51及上述的触摸屏。

关于触摸屏的具体描述可以参照实施例一和实施例二的描述,本发明实施例对此不再赘述。

在本发明实施例中,显示屏51和触摸屏之间通过光学透明胶52贴合。光学透明胶也可称为OCR(Optical Clear Resin,光学透明胶),通过使用光学透明胶52将显示屏51与触摸屏贴合,使得显示屏51与触摸屏的粘结性好,且对触控显示装置的显示影响较小。

需要说明的是,显示屏21为LCD显示屏或OLED显示屏。

参照图6,示出了本发明实施例的触控显示装置和现有的触控显示装置的反射率的对比曲线图。

图6中的横坐标表示光线的波长,纵坐标表示触控显示装置的反射率,实线所示的曲线指的是本发明的触控显示装置的反射率,即镜面TLCM反射率,虚线所示的曲线指的是现有的触控显示装置的反射率,即普通TLCM反射率。

图6所示的反射率的对比曲线图是通过实验测定的,从图6中可以看出,在不同波长(400nm-700nm)的光线范围内,本发明的触控显示装置的透过率均大于现有的触控显示装置的透过率,且本发明的触控显示装置的透过率可达到30%-50%。

在实际应用中,所述触控显示装置可以为:手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

在本发明实施例中,该触控显示装置包括显示屏及上述的触摸屏,通过在衬底基板的第一表面形成第一增反层,在衬底基板的第二表面形成第二增反层,在第二增反层上形成触控功能层,基于第一增反层和第二增反层的高反射率,可提高触摸屏的反射率,使得后续贴合形成的触控显示装置的反射率可达到30%-50%,触控显示装置在熄屏时具有镜面显示功能,同时使得触控显示装置在亮屏时的显示效果不受较大的影响,丰富触摸屏的功能。

对于前述的方法实施例,为了简单描述,故将其都表述为一系列的动作组合,但是本领域技术人员应该知悉,本发明并不受所描述的动作顺序的限制,因为依据本发明,某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次,本领域技术人员也应该知悉,说明书中所描述的实施例均属于优选实施例,所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

最后,还需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上对本发明所提供的一种触摸屏及其制作方法、触控显示装置,进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

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