一体红触控模组及其制备方法和触控显示装置与流程

本发明属于触控显示的技术领域，尤其涉及一体红触控模组及触控显示装置。

背景技术：

随着人们消费水平的提高，功能型手机逐渐向智能型手机的过渡，消费者对智能手机硬件性能方面的要求也在不断提高。因此作为智能手机重要组成部分的触摸屏(touchpanel,tp)也在快速发展。

触控显示技术主要分为电阻式、电容式、红外式以及表面声波方式，其中电容式触控显示装置又分为表面电容式和感应电容式。感应电容式触控显示装置具有实现真实多点触摸、透明度好、耐用性好、分辨率高等优点，其已成为手机、平板电脑等消费类电子产品的主流技术。

现在随着触控技术的不断发展，触控显示装置的应用场合越来越广。触控显示装置一般设有触控模组，通过触控模组来实现触控功能。现代生活越来越精致，追求极致的美观。随着消费者审美观的提高，用户对于触控显示装置的要求也日益提高。目前，大多的触控显示装置均为一体黑效果，一体黑效果指触控显示装置的可视区和边框区在息屏时能够出现一致的黑色显示效果。一体黑效果的触控显示装置也让消费者审美疲劳，使得消费者的可选择范围变小，因此，其他颜色的一体效果成为触控显示装置的一个重要指标，现在为了能使触控显示装置实现其他颜色的一体效果，有采用在可视区区域增加设置吸光板或者偏光膜等方案，但这样增加了工艺难度，提高了生产成本。

技术实现要素：

有鉴于此，本发明的目的是提供一体红效果的触控模组，以丰富消费者对触控显示装置的选择。

本发明提供了一体红触控模组，包括：

基板；

至少一层金属网格层，每一层金属网格层通过磁控溅射技术设于所述基板上，其中，所述金属网格层包括第一氧化钼层、铜层和第二氧化钼层，第一氧化钼层和第二氧化钼层分别设于所述铜层的两侧。

作为优选，所述铜层的厚度为120-1600nm；所述第一氧化钼层和所述第二氧化钼层的厚度分别为20-35nm，所述第一氧化钼层和所述第二氧化钼层的厚度相等。

作为优选，所述磁控溅射技术的通氧气量为60-70sccm；所述磁控溅射技术的通氩气量：100sccm。

作为优选，所述金属网格层为在所述基板上通过磁控溅射技术依次形成第一氧化钼层、铜层和第二氧化钼层，所述第二氧化钼层远离所述基板之侧通过黄光工艺形成网格线。

作为优选，所述金属网格层的网格线宽度为5-8um；所述金属网格层的网格对角线的长度为0.2-0.5mm。

作为优选，所述金属网格层的数量为两层。

作为优选，每一层金属网格层远离所述基板之侧还设有绝缘层。

作为优选，所述基板上还设有油墨层。

本发明还提供了所述一体红触控模组的制备方法，包括以下步骤：

步骤1、通过磁控溅射技术在基板的表面溅射第一氧化钼层；

步骤2、在所述第一氧化钼层远离所述基板之侧磁控溅射铜层；

步骤3、在所述铜层远离所述基板之侧磁控溅射第二氧化钼层；

步骤4、在所述第二氧化钼层的表面通过黄光工艺使得所述第一氧化钼层、所述铜层和所述第二氧化钼层形成金属网格层。

具体的，在所述第二氧化钼层的表面通过黄光工艺形成网格线，使得所述第一氧化钼层、所述铜层和所述第二氧化钼层三层结构一起蚀刻成网格线。

本发明还提供了一种触控显示装置，包括所述的一体红触控模组。

本申请的目的针对现有技术中触控模组及触控显示装置的颜色选择少的技术缺陷。本申请采用磁控溅射技术在基板表面溅射金属网格层，磁控溅射技术使得金属网格层的结构致密性好，由于第一氧化钼层和第二氧化钼层分别设于铜层的两侧，形成“夹心”结构。本申请具有如下技术效果：铜层具有良好的导电作用，第一氧化钼层和第二氧化钼层的厚度，使得金属网格层呈现红色，且第二氧化钼层的厚度大小可以决定得金属网格层的红色深浅。从而使得触控模组应用于触控显示装置时能够有效保证可视区与边框区的一致性，有效提高一体红的显示效果。使用本申请提供的触控模组能够有效实现触控显示装置的一体红效果同时不必增加其他部件，简化了工艺难度，降低了生产成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。

图1为本申请提供的一体红触控模组的金属网格层的结构示意图；

图2为本申请提供的一体红触控模组的结构示意图；

图3为本申请提供的一体红触控模组的金属网格层的网格布置图；

图4为图3的网格对角线的示意图；

图5为本申请提供的一体红触控模组的第一氧化钼层和第二氧化钼层的厚度与触控模组的颜色关系图，a为红绿轴，b为黄蓝轴；

其中，附图标记，基板1、金属网格层2、第一氧化钼层21、铜层22、第二氧化钼层23、网格线200、油墨层3、绝缘层4、网格对角线的长度l。

具体实施方式

本发明提供了一体红触控模组及触控显示装置，有效解决现有技术中触控模显示装置的颜色选择少的技术缺陷。

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

为了更好的理解本申请的触控模组，如图1所示，其显示了本申请提供的一体红触控模组，包括基板1；至少一层金属网格层2，每一层金属网格层通过磁控溅射技术设于基板1上，其中，金属网格层2包括第一氧化钼层21、铜层22和第二氧化钼层23，第一氧化钼层21和第二氧化钼层23分别设于铜层22的两侧。本实施例采用磁控溅射技术在基板1表面溅射金属网格层2，磁控溅射技术使得金属网格层2的结构致密性好，由于第一氧化钼层21和第二氧化钼层23分别设于铜层22的两侧，形成“夹心”结构，铜层22具有良好的导电作用，第一氧化钼层21和第二氧化钼层23的厚度，使得金属网格层2呈现红色，且第二氧化钼层23的厚度大小可以决定得金属网格层2的红色深浅。从而使得触控模组应用于触控显示装置时能够有效保证可视区与边框区的一致性，有效提高一体红的显示效果。使用本申请提供的触控模组能够有效实现触控显示装置的一体红效果同时不必增加其他部件，简化了工艺难度，降低了生产成本。

具体地，铜层22的厚度为120-160nm；第一氧化钼层21和第二氧化钼层23的厚度分别为20-35nm。磁控溅射技术的通氧气量为60-70sccm；磁控溅射技术的通氩气量：100sccm。第一氧化钼层21和第二氧化钼层23的厚度以及磁控溅射技术的通氧气量能对一体红效果的触控模组的色调和明暗度作进一步微调，可以制备出多种一体红触控模组，如图5所示，图5为本申请提供的一体红触控模组的第一氧化钼层和第二氧化钼层的厚度与触控模组的颜色关系图，当第一氧化钼层21和第二氧化钼层23的厚度为20nm时，触控模组呈现鲜红色，当第一氧化钼层21和第二氧化钼层23的厚度为30nm时，触控模组呈现粉红色。

具体的，本实施例提供了一体红触控模组的制备方法，包括以下步骤：步骤1、通过磁控溅射技术在基板1的表面溅射第一氧化钼层21；步骤2、在第一氧化钼层21远离基板1之侧磁控溅射铜层22；步骤3、在铜层22远离基板1之侧磁控溅射第二氧化钼层23；步骤4、在第二氧化钼层23远离基板1之侧通过黄光工艺形成网格线200。

本实施例的一体红触控模组的制备方法，具体为将基板置于磁控溅射装置(现有设备)上，装配好对应靶材后，启动磁控溅射装置，其功率为5.2kw；通氧量为60-70sccm；通氩气量为100sccm；溅射速率为1m/min。本申请使用现有常用的磁控溅射装置，在基板上溅射不同厚度的第一氧化钼层、铜层和第二氧化钼层，其磁控溅射装置的工作参数根据设备要求设置，在此不做一一限定。

为了更好的理解本申请的一体红触控模组的金属网格层的网格线，如图3-4所示，金属网格层2为在基板1上通过磁控溅射技术依次形成第一氧化钼层21、铜层22和第二氧化钼层23，第二氧化钼层23远离基板1之侧通过黄光工艺(现有技术)形成网格线。其中，黄光工艺的具体步骤为在第二氧化钼层23远离基板1之侧以方格形式涂抹光刻胶，然后依次进行曝光和显影，此时光刻胶会显示网格图案，接着进行蚀刻，使得没有光刻胶的地方会被蚀刻掉，这样就会形成网格，最后进行脱模处理，脱掉的光刻胶制得金属网格层2。进一步地，在本实施例中，如图3-4所示，金属网格层2的网格线200的宽度为5-8um。金属网格层2的网格线200宽度太小时一体红的效果不佳，而太宽会影响显示效果，使得金属网格层2的网格线200的宽度为5-8um能够有效兼顾一体红效果和显示效果，有效提高产品质量。进一步地，在本实施例中，金属网格层2的网格为菱形，具体地，可以优选为正方形，金属网格层2的网格对角线的长度l为0.2-0.5mm。金属网格层2的网格线过于密集时，一体红效果越好，但是透过率会较低，使得金属网格层2的网格对角线为0.2-0.5mm，能够有效保证透过率在75％-80％之间，有效兼顾了一体红效果和透过率要求，保证了产品质量。

具体地，在本实施例中，如图2所示，金属网格层2的数量为两层，每一层金属网格层2背向基板1之侧还设有绝缘层4(现有技术)，绝缘层4可以有效隔开两层金属网格层2，防止两层金属网格层2发生短路，同时起到对金属网格层2的良好保护作用，具体地，基板1的材料为玻璃、菲林或复合板，当然，其他可以用作基板的材料也是可行的。具体地，基板1上还可以设有油墨层3(现有技术)，油墨层3可以为红色或其他颜色，油墨层可以配合金属网格层2的颜色搭配客户喜欢的红色色调和明暗度，设有油墨层3可以将触控模组对应于非显示区的位置遮挡住，起装饰，遮挡走线的作用，保证一体红的显示效果。其中，两层金属网格层2的网格线的交点错开，如一层金属网格层2的网格线的交点落在另一层金属网格层2的网格的空白区域。

具体的，如图1所示，本实施例中，一体红触控模组的制备方法包括以下步骤：步骤1、在基板1的表面设置油墨层3；步骤2、在油墨层3远离基板1之侧通过磁控溅射技术在基板1的表面溅射第一氧化钼层21；步骤3、在第一氧化钼层21远离基板1之侧磁控溅射铜层22；步骤4、在铜层22远离基板1之侧磁控溅射第二氧化钼层23；步骤5、在第二氧化钼层23远离基板1之侧通过黄光工艺形成网格线200；步骤6、在设有网格线200的第二氧化钼层23的表面设置绝缘层4；步骤7、在绝缘层4远离基板1之侧磁控溅射第一氧化钼层21；步骤8、在第一氧化钼层21远离基板1之侧磁控溅射铜层22；步骤9、在铜层22远离基板1之侧磁控溅射第二氧化钼层23；步骤10、在第二氧化钼层23远离基板1之侧通过黄光工艺对第一氧化钼层21、铜层22和第二氧化钼层23形成网格线200；步骤11、在设有网格线200的第二氧化钼层23形成网格线200；步骤11、在设有网格线200的第二氧化钼层23的表面设置绝缘层4。

进一步地，本申请实施例还提供一种触控显示装置，包括以上触控模组。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。