1.一种镀膜夹层窗玻璃，其具有第一基体、第二基体和一个或更多个中间层，其特征在于：
表面镀膜层，所述表面镀膜层设置在至少一个基体上，以及
一个或更多个蚀刻区域，所述一个或更多个蚀刻区域选择性地设置在所述表面镀膜层上；以及
数据应答器或天线，所述数据应答器或者所述天线夹在所述第一基体和所述第二基体之间、靠近所述蚀刻区域，或者附接到所述第一基体和所述第二基体的外部、靠近所述蚀刻区域，
其中，所述蚀刻区域的特征在于多个不相交的图案以提供改进的所述数据应答器或所述天线的可读性。
2.如权利要求1所述的镀膜夹层窗玻璃，其中，所述一个或更多个不相交的图案设置成使得镀膜区域失去导电性和无线接收射频能量的无限传导性。
3.如权利要求1所述的镀膜夹层窗玻璃，其中，所述表面镀膜层位于所述第一基体的外层、所述第一基体的内层、所述第二基体的外层和所述第二基体的内层上。
4.如权利要求1所述的镀膜夹层窗玻璃，其中，所述一个或更多个不相交的蚀刻图案使得电磁反射最小化。
5.如权利要求1所述的镀膜夹层窗玻璃，其中，所述表面镀膜层由金属或金属氧化物中的至少一种构成，所述金属或金属氧化物包括铝、银、铜、镍、锌、铬、钛和铬镍铁合金、氧化铝、氧化铟、氧化铬、氧化钛、氧化锆钛、氧化锌。
6.如权利要求1所述的镀膜夹层窗玻璃，可选地包括保护层，所述保护层选择性地设置在所述第一基体和所述第二基体之间，以为所述数据应答器提供机械完整性、防紫外线保护、耐热性和电绝缘。
7.如权利要求5所述的镀膜夹层窗玻璃，其中，所述保护层由聚对二甲苯树脂、硅树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、陶瓷、聚碳酸酯(pc)、聚氯乙烯(pvc)、聚酰亚胺、聚乙烯醇缩丁醛(pvb)、聚氨酯(pu)、聚四氟乙烯(ptfe)、聚酯、聚丙烯、和/或聚砜(psu)、聚醚砜(pes)和聚醚酰亚胺(pei)、聚苯硫醚(pps)、聚醚醚酮(peek)、聚醚酮(pek)、芳香族聚合物、聚对亚苯、乙烯丙烯橡胶、交联聚乙烯、pdms和pdms金属氧化物组合物和特氟龙中的至少一种或其组合构成。
8.如权利要求1所述的镀膜夹层窗玻璃，其中，进行蚀刻以在靠近所述数据应答器的芯片的区域中得到第一图案并且在靠近所述数据应答器的天线的区域中得到第二图案，其中，所述第一图案和所述第二图案是不一致且不相似的。
9.如权利要求1所述的镀膜夹层窗玻璃，其中，选择性地在导电表面层的10％至90％的范围内进行蚀刻，以实现10％至98％的范围内的可读性。
10.如权利要求1和9所述的镀膜夹层窗玻璃，其中，选择性地进行蚀刻以使得在所述数据应答器的天线区域具有射频穿透性，同时使得在所述数据应答器的芯片区域中所述表面镀膜层保留以实现防紫外线保护。
11.如权利要求1所述的镀膜夹层窗玻璃，其中，所述一个或更多个不相交的图案包括条形码、二维码或任何网格图案中的一种或其组合。
12.如权利要求1所述的镀膜夹层窗玻璃，所述镀膜夹层窗玻璃配置成与读取器通信以向所述读取器发送信号和从所述读取器接收信号。
13.如权利要求1或2所述的镀膜夹层窗玻璃(100)，所述镀膜夹层窗玻璃构造成用于附接到车辆上。
14.如权利要求1或2所述的镀膜夹层窗玻璃(100)，所述镀膜夹层窗玻璃用于汽车的挡风玻璃、夹层玻璃和/或天窗。
15.一种制造具有改进的可读性的镀膜夹层窗玻璃的方法，所述方法包括：
将膜均匀地沉积在第一基体或第二基体上，所述膜对于射频(rf)辐射是至少部分地非透射性的；
选择性地蚀刻所述基体的区域以去除所述膜的一部分，从而在所述基体上形成一个或更多个不相交的图案；
弯曲所述第一基体和第二基体以形成凹形；
在所述第一基体或所述第二基体中的至少一者上沉积保护层；
将数据应答器以特定角度定位到蚀刻的或处理的区域；
将所述第二基体定位在所述第一基体下方，使得所述数据应答器夹在所述第一基体和所述第二基体之间；
将一个或更多个中间层定位在所述第一基体和所述第二基体之间以形成夹层组件；
对层叠的所述夹层组件进行真空除气；以及
对层叠的所述夹层组件进行高压釜处理。
16.如权利要求15所述的方法，其中，所述一个或更多个不相交的图案蚀刻成使对来自读取器的无线电信号的反射最小化。
17.如权利要求15所述的方法，其中，所述第二基体沉积有金属膜。
18.如权利要求15所述的方法，其中，对沉积在所述第一基体或所述第二基体上的所述表面镀膜层进行选择性蚀刻。
19.如权利要求15和18所述的方法，其中，形成一个或更多个不相交的图案的所述步骤还包括将二维码信息和/或条形码信息编码到所述一个或更多个图案上。
20.如权利要求15所述的方法，其中，在所述基体上形成所述一个或更多个不相交的图案，使得通过蚀刻去除超过百分之十的所述膜。
21.如权利要求15和18所述的方法，其中，进行蚀刻包括：
在靠近所述数据应答器芯片的区域上蚀刻第一图案；并且
在靠近所述数据应答器的天线区域的区域上蚀刻第二图案。
22.如权利要求15和21所述的方法，其中，所述第一图案被稀疏地蚀刻，并且所述第二图案被密集地蚀刻。