一种测量处方的加载方法及其装置、测量设备与流程

[0001]
本发明涉及测量技术领域，尤其涉及一种测量处方的加载方法及其装置、测量设备。


背景技术：

[0002]
测量技术应用于半导体器件的整个制程。例如在半导体器件的基底曝光后，对曝光位置及曝光图案进行测量，检测曝光位置的准确度，曝光图案的清晰度等，以评价光刻工艺的精度。
[0003]
当前，对半导体器件制程中的基底进行测量前，需对测量过程和方式进行编辑，以在测量时能够调取所编辑的测量过程和方式。例如，对曝光后的基底进行测量前，需要定义出标记位置、测量点位置以及测量图像数据。现有技术中，对准位置和测量点位置可在测量前进行定义，而测量图像数据，需在上载待测基底，并完成对准坐标系的建立后，移动至待测基底的测量点，由用户手动确认待测基底的测量图像数据。如此，每个待测基底的测量过程中，均需手动确认测量图像数据，而在测量图像数据较多时，测量操作繁琐，增加测量成本。


技术实现要素：

[0004]
本发明实施例提供一种测量处方的加载方法及其装置、测量设备，以解决现有技术中测量数据较多时，测量操作繁琐、测量成本高的技术问题。
[0005]
第一方面，本发明实施例提供了一种测量处方的加载方法，包括：
[0006]
获取测量处方的定义数据；
[0007]
对待测基底执行测量对准操作；
[0008]
判断所述测量处方的定义数据中是否存在未编辑完成的数据；
[0009]
若是，则提供所述测量处方的编辑界面，以供用户对所述未编辑完成的数据进行编辑；
[0010]
获取用户对所述未编辑完成的数据的编辑信息，以将所述编辑信息回写至所述测量处方；
[0011]
根据回写所述编辑信息后的测量处方，对所述待测基底执行测量操作。
[0012]
第二方面，本发明实施例还提供了一种测量处方的加载装置，包括：
[0013]
定义数据获取模块，用于获取测量处方的定义数据；
[0014]
对准操作执行模块，用于对待测基底执行测量对准操作；
[0015]
定义数据判断模块，用于判断所述测量处方的定义数据中是否存在未编辑完成的数据；
[0016]
编辑界面提供模块，用于在所述测量处方的定义数据中存在为编辑完成的数据时，提供所述测量处方的编辑界面，以供用户对所述未编辑完成的数据进行编辑；
[0017]
编辑信息回写模块，用于获取用户对所述未编辑完成的数据的编辑信息，以将所
述编辑信息回写至所述测量处方；
[0018]
测量操作执行模块，用于根据回写所述编辑信息后的测量处方，对所述待测基底执行测量操作。
[0019]
第三方面，本发明实施例还提供了一种测量设备，包括上述测量处方的加载装置。
[0020]
本发明实施例提供了一种测量处方的加载方法及其装置、测量设备，通过对待测基底执行测量对准操作后，判断所获得的测量处方的定义数据中是否有未编辑完成的数据；并当测量处方中存在未编辑完成的数据时，提供测量处方的编辑界面，以使用户对未编辑完成的测量处方进行编辑，并回写至测量处方中，以能够根据回写编辑信息后的测量处方，对所有的待测基底执行测量操作。相对于现有技术中一一编辑待测基底的测量处方数据，本发明实施例能够实现测量处方的离线编辑，从而简化测量操作步骤，降低人工成本，提高的测量效率，进而提高生产效率。
附图说明
[0021]
图1是本发明实施例提供的一种测量处方的加载方法的流程图；
[0022]
图2是本发明实施例提供的又一种测量处方的加载方法的流程图；
[0023]
图3是本发明实施例提供的又一种测量处方的加载方法的流程图；
[0024]
图4是本发明实施例提供的又一种测量处方的加载方法的流程图；
[0025]
图5是本发明实施例提供的一种测量处方的加载装置的结构框图；
[0026]
图6是本发明实施例提供的又一种测量处方的加载装置的结构框图；
[0027]
图7是本发明实施例提供的一种测量设备的结构框图。
具体实施方式
[0028]
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
[0029]
本发明实施例提供了一种测量处方的加载方法，该方法可适用于对待测基底测量时，加载待测基底的测量处方的情况。该方法可以由本发明实施例提供的测量处方的加载装置来执行，该装置可采用软件和/或硬件的方式实现，该装置可集成于测量设备中。图1是本发明实施例提供的一种测量处方的加载方法的流程图。如图1所示，该方法具体包括：
[0030]
s110、获取测量处方的定义数据。
[0031]
具体的，测量处方包括测量过程和测量方式，根据测量处方可对非量化事物作出量化的描述。其中，测量过程主要涉及测量步骤的先后顺序，测量方式是指每一测量步骤所采用的方法，而测量处方的定义数据是测量过程和测量方式的主要依据。在测量时，测量处方的定义数据可以是用户提前离线编辑的，也可以已有文档中的数据。相应的，获取测量处方的定义数据的方式可以是，提供相应的定义数据编辑界面，用户在该定义数据的编辑界面编辑相应的定义数据；或者，直接调用相应的文档，获得该文档中所包含的测量处方的定义数据。示例性的，该测量处方例如可以为光刻工艺中，曝光位置和曝光图案的测量处方。相应的，测量处方的定义数据例如可以包括测量对准数据、测量点位置数据和测量图像数据等。其中，测量对准数据可以包括参考位置和对准标记位置相对于参考位置的坐标点，测
量点数据曝光位置相对于参考位置的坐标点，以及测量图像数据可以包括曝光位置处的曝光图案的线宽、形状等。
[0032]
s120、对待测基底执行测量对准操作。
[0033]
具体的，测量的对象主要为一些几何量，例如长度、面积、形状、高程、角度、表面粗糙度以及形位误差等。在对事物的某一测量对象进行测量时，需要对准测量位置以及该测量位置的起始点等。其中，可根据用户定义的对准标记位置，以及用户选择的对准坐标系的定义方式，对待测基底执行测量对准操作；或者，通过人工手动输入的方式，对待测基底执行测量对准操作；或者，根据相应的生产工程图档中的数据，自动对待测基底执行测量对准操作；或者，根据所获取的测量处方的定义数据，对待测基底执行测量对准操作。该测量处方的定义数据可以包括测量对象的测量位置数据以及测量对准数据等，其中，测量点位置数据可以为测量点位置或者测量点位置的起始点等，测量对准数据可以为测量时所采用的对准方式等。通过测量对准数据，确定出测量点位置相对于参考点的坐标点，以根据该坐标点对准待测基底的测量点。
[0034]
如上例中，待测基底可以为器件的曝光基底。由测量处方的定义数据中的测量对准数据，可获知曝光基底的对准标记位置和参考点位置，以获得曝光基底的对准标记相对于参考位置的坐标点，并通过测量设备中的对准传感器对准曝光基底上的对准标记，建立曝光基底与测量设备之间的坐标系关系；由测量处方的定义数据中的测量点位置数据，以获得曝光基底的曝光位置相对于参考位置的坐标点，再根据曝光基底与测量设备之间的坐标系关系，控制曝光基底的测量点移动至测量设备的测量区域，对准曝光基底的曝光位置。
[0035]
s130、判断所述测量处方的定义数据中是否存在未编辑完成的数据；若是，则执行s140；若否，则跳转至s160。
[0036]
s140、提供所述测量处方的编辑界面，以供用户对所述未编辑完成的数据进行编辑。
[0037]
s150、获取用户对所述未编辑完成的数据的编辑信息，以将所述编辑信息回写至所述测量处方。
[0038]
s160、根据回写所述编辑信息后的测量处方，对所述待测基底执行测量操作。
[0039]
具体的，对准待测基底后，将会对待测基底执行测量操作，以对该待测基底的某一对象进行测量。但是，由于待测基底的实际形状轮廓等参数与理论参数具有一定的偏差，若根据理论的形状轮廓对待测基底的实际形状进行测量时，将会存在较大的测量误差，导致精度较低。因此，在测量过程中，还需根据待测基底的实际形状轮廓编辑测量处方的定义数据。
[0040]
如此，通过在首次测量时，将涉及待测基底实际情况的测量处方的定义数据设置为未编辑完成的状态。在执行对准操作后，判断当前测量处方的定义数据中是否存在未编辑完成的数据，若存在未编辑完成的数据，则提供测量处方的定义数据编辑界面，用户可根据首次测量的待测基底的具体情况，对该未编辑完成的数据进行编辑，并在编辑完成后将该未编辑完成的数据的未编辑状态修改为编辑状态，同时，将对未编辑完成的数据的编辑信息回写至测量处方中，以使待测基底能够根据该测量处方执行测量操作。此时，测量处方的定义数据中不再具有未编辑完成的数据，对下一待测基底进行测量时，再次判断测量处方的定义数据中是否存在未编辑完成的数据时，结果为该测量处方中不存在未编辑完成的
数据，可直接调用该测量处方，以根据该测量处方的定义数据执行测量操作。其中，测量处方的定义数据可以包括测量对准数据、测量点位置数据和测量图像数据，而未编辑完成的数据可以为测量处方的定义数据中的测量图像数据。在执行测量操作时，可根据测量处方的定义数据中的测量点位置和测量图像数据对待测基底的图像进行测量。
[0041]
如上例中，在曝光基底根据测量处方的定义数据完成对准后，将对曝光基底的曝光图案进行测量。其中，曝光基底的曝光图案中线宽和形状等是检测曝光精度的重要数据。但是在测量前，无法获知曝光基底的曝光图案的线宽的具体起始点。如此，通过在首次测量时，将涉及曝光基底中曝光图案的线宽的测量图像数据设置为未编辑完成的状态。在曝光基底进行对准操作后，对测量处方的定义数据中是否存在未编辑完成的数据进行判断，若存在未编辑完成的数据，则提供相应的编辑界面，以供用户对该未编辑完成的数据进行编辑。用户对未编辑完成的数据进行编辑的依据可以为，在执行对准操作后，通过相应的图像采集装置采集该曝光位置处的图像，并显示于编辑界面；用户根据编辑界面显示的图像选择出需测量的曝光图像的线宽的起始点，并将用户所选择的曝光图像的特征数据回写至测量处方的定义数据中，在下一曝光基底测量时，则可根据该测量处方中曝光图像的特征数据，执行相应的测量操作，而无需再次编辑。
[0042]
本实施例通过将用户对未编辑完成的数据的编辑信息回写至测量处方中，以使测量处方中的定义数据处于编辑完成状态，从而能够使得所有待测基底根据回写编辑信息后的测量处方，执行测量操作，简化测量操作步骤，降低人工成本，提高测量效率，进而提高生产效率。
[0043]
可选的，在对待测基底执行测量对准操作之前，需要控制待测基底固定至基底载台的对应位置，并通过垂向测量传感器测量待测基底的中心位置，计算待测基底的最佳焦面位置。
[0044]
具体的，在对待测基底测量时，需将待测基底固定于测量用的基底载台上，以防止待测基底在测量过程中发生移动，影响对准操作，从而影响测量精度。待测基底的固定方法可以为，控制待测基底的上载至基底载台的顺序，并在每一待测基底上载至基底载台后，进行待测基底的预对准，预对准完成后可通过夹持机构将待测基底夹持固定。如此，在上载待测基底时就执行待测基底的预对准操作，能够简化后续的待测基底的预对准操作，进一步提高测量效率和测量精度。
[0045]
通过光栅等光学测量仪器对待测基底进行测量时，该光学测量仪器的测量焦平面直接影响测量的精度。例如焦平面选择不当时，会影响测量焦面中测量对象的分辨率，测量对象模糊，使得光学测量仪器无法分辨出测量起始点的位置，从而影响测量精度。通过将待测基底固定于基底载台后，由垂向测量传感器测量出待测基底的中心位置，并根据该中心位置计算出待测基底的焦平面中最佳焦平面的位置，以提高测量的精度。
[0046]
可选的，测量处方的定义数据，需要用户进行离线编辑，该离线编辑的过程具体为：提供所述测量处方的编辑界面，以供用户编辑所述测量处方的定义数据；获取用户自定义命名后创建的空测量处方文档，以在所述空测量处方文档中编辑所述测量处方的定义数据。图2是本发明实施例提供的又一种测量处方的加载方法的流程图。如图2，该方法具体为：
[0047]
s210、提供所述测量处方的编辑界面，以供用户编辑所述测量处方的定义数据；
[0048]
s220、获取用户自定义命名后创建的空测量处方文档，以在所述空测量处方文档中编辑所述测量处方的定义数据。
[0049]
具体的，对于测量处方的定义数据的定义方式可以为，用户可根据待测基底的特征，测量处方的编辑界面上编辑该测量处方的定义数据。用户编辑该测量处方的具体过程例如可以为，用户在测量处方的编辑界面上新建一空测量处方文档，并对该空测量处方的文档进行自定义命名，以在自定义命名后的空测量处方的文档进行测量处方的定义数据的编辑。其中，对测量处方的定义数据的编辑的过程可以为，用户在空测量处方文档中写入相应的定义数据，或者在空测量处方文档中选择调用文档，以将该文档中的定义数据导入新建的空测量处方的文档中。
[0050]
需要说明的是，用户在自定义命名后的空测量处方的文档进行测量处方的定义数据的编辑过程可以为任意形式，在能够实现测量处方的定义数据的编辑的前提下，本发明实施例对定义数据的编辑过程和编辑方式不做限定。
[0051]
s230、获取测量处方的定义数据。
[0052]
s240、对待测基底执行测量对准操作。
[0053]
s250、判断所述测量处方的定义数据中是否存在未编辑完成的数据；若是，则执行s260；若否，则跳转至s280。
[0054]
s260、提供所述测量处方的编辑界面，以供用户对所述未编辑完成的数据进行编辑。
[0055]
s270、获取用户对所述未编辑完成的数据的编辑信息，以将所述编辑信息回写至所述测量处方。
[0056]
s280、根据回写所述编辑信息后的测量处方，对所述待测基底执行测量操作。
[0057]
本实施例通过在获取测量处方的定义数据前，提供测量处方的编辑界面，以使用户在测量处方的编辑界面上创建自定义命名的的空测量处方文档，并在该空测量文档中进行相应的测量处方的定义数据的编辑，从而实现相应测量处方的定义数据的完全离线编辑，进一步简化测量操作步骤，降低人工成本，提高测量效率，进而提高生产效率。
[0058]
可选的，当测量处方的定义数据包括测量对准数据、测量点位置数据和测量图像数据，且编辑完成的数据包括测量图像数据时，测量处方的定义数据获取方式为：获取用户在所述空测量处方文档中编辑的所述测量对准数据和所述测量点位置数据；相应的，未编辑完成的数据的编辑信息的获取方式为：获取用户对所述测量图像数据的编辑信息，以将所述编辑信息回写至所述测量处方。图3是本发明实施例提供的又一种测量处方的加载方法的流程图。如图3，该方法具体为：
[0059]
s310、提供所述测量处方的编辑界面，以供用户编辑所述测量处方的定义数据；
[0060]
s320、获取用户自定义命名后创建的空测量处方文档，以在所述空测量处方文档中编辑所述测量处方的定义数据。
[0061]
s330、获取用户在所述空测量处方文档中编辑的所述测量对准数据和所述测量点位置数据。
[0062]
具体的，测量处方的定义数据包括测量对准数据、测量点位置数据和测量图像数据。其中，测量对准数据可以为测量时所采用的对准方式等，测量点位置数据可以为需测量点的位置坐标等，而测量图像数据为具体测量对象的起始点等。因此，测量对准数据和测量
点位置数据可在待测基底未上载前，由用户进行离线编辑，即用户在编辑界面上自定义命名创建空测量处方文档后，可在该空测量处方文档中编辑测量对准数据和测量位置数据。而测量图像数据需对应具体的待测基底，因此在上载待测基底前，无法直接完成对测量图像数据的离线编辑，此时测量图像数据处于未编辑完成状态。
[0063]
s340、对待测基底执行测量对准操作。
[0064]
s350、判断所述测量处方的定义数据中是否存在未编辑完成的数据；若是，则执行s360；若否，则跳转至s380。
[0065]
s360、提供所述测量处方的编辑界面，以供用户对所述未编辑完成的数据进行编辑。
[0066]
s370、获取用户对所述测量图像数据的编辑信息，以将所述编辑信息回写至所述测量处方。
[0067]
s380、根据所述测量点位置和所述测量图像数据对所述待测基底的图像进行测量。
[0068]
具体的，由于测量处方的定义数据中未编辑完成的数据为测量图像数据，因此可在测量处方的编辑界面中，对未编辑完成的测量图像数据进行编辑，并将编辑完成的测量图像数据回写至测量处方中，以使该测量处方的测量对准数据、测量位置点数据和测量图像数据均为编辑完成状态，并对待测基板执行测量操作。同时，在下一待测基板测量时，可直接调用测量处方中的测量对准数据、测量位置点数据和测量图像数据进行相应的测量操作。
[0069]
本实施例通过将部分测量处方的定义数据完全离线编辑，另一部分测量处方的定义数据首次测量时编辑，并将编辑的数据回写至测量处方的编辑文档中，以供后续对准操作和测量操作调用该测量处方的编辑文档中的定义数据，执行相应动，从而能够进一步简化测量操作步骤，降低人工成本，提高测量效率，进而提高生产效率。
[0070]
可选的，在测量处方的定义数据包括测量对准数据、测量点位置数据和测量图像数据时，获取用户在空测量处方文档中编辑的测量对准数据和测量点位置数据的具体方法为：获取用户定义的对准标记位置，以及用户选择的对准坐标系的定义方式；获取用户选择的测量类型，以及用户导入或输入的测量点位置数据。图4是本发明实施例提供的又一种测量处方的加载方法的流程图。如图4所示，该方法具体包括：
[0071]
s410、提供所述测量处方的编辑界面，以供用户编辑所述测量处方的定义数据。
[0072]
s420、获取用户自定义命名后创建的空测量处方文档，以在所述空测量处方文档中编辑所述测量处方的定义数据。
[0073]
s430、获取用户定义的对准标记位置，以及用户选择的对准坐标系的定义方式；
[0074]
s440、获取用户选择的测量类型，以及用户导入或输入的测量点位置数据。
[0075]
具体的，生产工程图档可以为待测基底的设计文档，例如待测基底为曝光基底时，生产工程图档为曝光基底的曝光位置和曝光图案的设计文档。由于在设计该待测基底的形状轮廓时，会建立相应的坐标系，并记载该坐标系的建立方式，以将其保存于生产工程图档中。在编辑测量对准数据时，可根据生产工程图档中对准坐标位置和对准坐标系的建立说明，获得生产工程图档中的对准标记位置，并选择对准坐标系的定义方式，以完成测量对准数据的编辑。
[0076]
此外，当待测基底为曝光基底时，生产工程图档中还应记录有曝光点位置坐标。在对测量点位置数据进行编辑时，可直接将生产工程图档中包括测量点位置数据的文件导入至空测量处方文档中，或者在编辑界面中直接输入测量点位置数据，同时选择测量类型，例如曝光基板为显示基板时，该量测类型例如可以为cd测量、tp测量等。
[0077]
s450、对待测基底执行测量对准操作。
[0078]
s460、判断所述测量处方的定义数据中是否存在未编辑完成的数据；若是，则执行s470；若否，则跳转至s490。
[0079]
s470、提供所述测量处方的编辑界面，以供用户对所述未编辑完成的数据进行编辑。
[0080]
s480、获取用户对所述测量图像数据的编辑信息，以将所述编辑信息回写至所述测量处方。
[0081]
s490、根据所述测量点位置和所述测量图像数据对所述待测基底的图像进行测量。
[0082]
本实施例通过根据生产工程图档，对测量对准数据和测量位置点数据进行编辑，以直接或间接地调用生产工程图档中的已有数据信息，从而能够简化测量对准数据和测量位置点数据的编辑方式，进而简化测量操作步骤，降低人工成本，提高测量效率和生产效率。
[0083]
本发明实施例还提供了一种测量处方的加载装置，该装置可适用于对待测基底测量时，加载待测基底的测量处方的情况，该装置可采用软件和/或硬件的方式实现，该装置可集成于测量设备中。图5是本发明实施例提供的一种测量处方的加载装置的结构框图。如图5所示，该测量处方的加载装置100包括定义数据获取模块10、对准操作执行模块20、定义数据判断模块30、编辑界面提供模块40、编辑信息回写模块50和测量操作执行模块60。
[0084]
其中，定义数据获取模块10用于获取测量处方的定义数据；对准操作执行模块20用于对待测基底执行测量对准操作；定义数据判断模块30用于判断所述测量处方的定义数据中是否存在未编辑完成的数据；编辑界面提供模块40，用于在所述测量处方的定义数据中存在未编辑完成的数据时，提供所述测量处方的编辑界面，以供用户对所述未编辑完成的数据进行编辑；编辑信息回写模块50用于获取用户对所述未编辑完成的数据的编辑信息，以将所述编辑信息回写至所述测量处方；测量操作执行模块60用于根据回写所述编辑信息后的测量处方，对所述待测基底执行测量操作。
[0085]
本实施例通过将用户对未编辑完成的数据的编辑信息回写至测量处方中，以使测量处方中的定义数据处于编辑完成状态，从而能够使得所有待测基底根据回写编辑信息后的测量处方，执行测量操作，简化测量操作步骤，降低人工成本，提高测量效率，进而提高生产效率。
[0086]
可选的，图6是本发明实施例提供的又一种测量处方的加载装置的结构框图。如图6所示，在获取测量处方的定义数据之前，编辑界面提供模块40还用于提供所述测量处方的编辑界面，以供用户编辑所述测量处方的定义数据；此时测量处方的加载装置100还包括测量文档获取模块70。该测量文档获取模块70用于获取用户自定义命名后创建的空测量处方文档，以在所述空测量处方文档中编辑所述测量处方的定义数据。
[0087]
可选的，继续参考图6，测量处方的定义数据包括测量对准数据、测量点位置数据
和测量图像数据；其中，未编辑完成的数据包括所述测量图像数据；相应的，定义数据获取模块10用于获取用户在所述空测量处方文档中编辑的所述测量对准数据和所述测量点位置数据；编辑信息回写模块50用于获取用户对所述测量图像数据的编辑信息。以将所述编辑信息回写至所述测量处方。
[0088]
可选的，继续参考图6，定义数据获取模块10包括测量对准数据获取单元11和测量点位置数据获取单元12。
[0089]
其中，测量对准数据获取单元11用于获取用户定义的对准标记位置，以及用户选择的对准坐标系的定义方式；测量点位置数据获取单元12用于获取用户选择的测量类型，以及用户导入或输入的测量点位置数据。
[0090]
可选的，继续参考图6，对准操作执行模块20包括坐标系建立单元21、移动位置控制单元22。
[0091]
坐标系建立单元21用于根据所述测量对准数据，以及通过对准传感器对准的所述待测基底上的对准标记，建立所述待测基底与测量设备之间的坐标系关系；移动位置控制单元22用于根据所述坐标系关系和所述测量点位置数据，控制所述待测基底的测量点移动至所述测量设备的测量区域；相应的，测量操作执行模块60具体用于根据所述测量点位置和所述测量图像数据对所述待测基底的图像进行测量。
[0092]
可选的，继续参考图6，测量操作执行模块60还用于在所述测量处方的定义数据中不存在未编辑完成的数据，则对所述待测基底执行测量操作。
[0093]
可选的，继续参考图6，测量处方的加载装置100还包括待测基底固定模块80和焦面位置计算模块90。
[0094]
其中，待测基底固定模块80用于在根据所述测量处方的定义数据，对待测基底执行测量对准操作之前，控制所述待测基底固定至基底载台的对应位置；焦面位置计算模块90用于通过垂向测量传感器测量所述待测基底的中心位置，计算所述待测基底的最佳焦面位置。
[0095]
本发明实施例所述的测量处方的加载装置用于执行上述各实施例所述测量处方的加载方法，其技术原理和产生的技术效果类似，这里不再赘述。
[0096]
本发明实施例还提供了一种测量设备，该测量设备能够基于所加载的测量处方对待测基底执行测量操作，该测量设备例如可以对器件制程中刻蚀线宽进行测量。图7是本发明实施例提供的一种测量设备的结构框图。如图7所示，本发明实施例提供的测量设备200包括本发明实施例提供的测量处方的加载装置，能够执行本发明实施例提供的测量处方的加载方法。
[0097]
本发明实施例通过对待测基底执行测量对准操作后，判断所获得的测量处方的定义数据中是否有未编辑完成的数据；并当测量处方中存在未编辑完成的数据时，提供测量处方的编辑界面，以使用户对未编辑完成的测量处方进行编辑，并回写至测量处方中，以使测量处方中的定义数据处于编辑完成状态，从而能够使得所有待测基底根据回写编辑信息后的测量处方，执行测量操作，简化测量操作步骤，降低人工成本，提高测量效率，进而提高生产效率。
[0098]
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、
重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。