面板及其制备方法、触控显示屏和电子设备与流程

本发明涉及电子件，特别是涉及一种面板及其制备方法、触控显示屏和电子设备。

背景技术：

相关技术中，在电路板的线路层制造工艺中，会先提供基板，然后依次对基板进行镀膜、压干膜、曝光、显影、蚀刻、剥膜等工艺。然而，上述工艺制程过于复杂，而且经上述工艺制程制备得到的线路层的附着力较差。

技术实现要素：

基于此，有必要提供一种面板及其制备方法、触控显示屏和电子设备，以解决线路层的工艺制程复杂，且线路层的附着力较差的问题。

一种面板的制备方法，包括如下步骤：

提供基板，所述基板包括相背设置的第一表面和第二表面；

在所述第一表面设置感光导电膜；

提供掩膜板，所述掩膜板包括完全显影区和多个显影保留区，相邻两个所述显影保留区通过所述完全显影区间隔，所述显影保留区包括第一区域，在由所述第一区域的一侧至另一相对侧的方向上，所述第一区域的透光率逐渐增加；将所述掩膜板设置为与所述感光导电膜相对，并利用所述掩膜板对所述感光导电膜进行曝光；以及

对曝光后的所述感光导电膜进行显影，以使所述感光导电膜与所述完全显影区相对的区域被完全显影，并使所述感光导电膜与所述显影保留区相对的区域被部分显影形成掩膜图案，所述掩膜图案包括形成于所述感光导电膜与所述第一区域相对的区域的第一图案；其中，所述第一图案包括相对设置且分别与所述第一表面相交的第一侧面和第二侧面，所述第一侧面垂直于所述第一表面，在由所述掩膜图案靠近所述第一表面的一侧至远离所述第一表面的一侧的方向上，所述第二侧面被参考平面所截图形与所述第一侧面的距离逐渐减小，所述参考平面为平行于所述第一表面的平面。

上述面板的制备方法，由于感光导电膜(例如可转印透明导电膜)具有可弯折性、导电性和高透明性，故其可替代ito通过曝光和显影即可制备得到本发明的导电层(导电层包括多个掩膜图案)，省去镀膜、蚀刻和剥膜等工艺，简化了导电层的形成工艺。而且，在由掩膜图案靠近第一表面的一侧至远离第一表面的一侧的方向上，第一图案的第二侧面被参考平面所截图形与第一侧面的距离逐渐减小，故第一图案基于第二侧面的特性可以避免第一图案下端被挖空而出现悬空的现象，进而提升掩膜图案在基板上的附着力。

在其中一个实施例中，所述显影保留区包括与所述第一区域连接的第二区域，在由所述第一区域和所述第二区域相互远离的一侧至相互靠近的一侧的方向上，所述第一区域的透光率和所述第二区域的透光率皆逐渐增加或者逐渐减小，在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，所述掩膜图案包括形成于所述感光导电膜与所述第二区域相对的区域的第二图案；其中，所述第二图案包括相对设置且分别与所述第一表面相交的第三侧面和第四侧面，所述第三侧面垂直于所述第一表面并与所述第一侧面相对，在由所述掩膜图案靠近所述第一表面的一侧至远离所述第一表面的一侧的方向上，所述第四侧面被所述参考平面所截图形与所述第三侧面的距离逐渐减小。如此，进一步提升掩膜图案附着力。

在其中一个实施例中，所述感光导电膜为正性膜，所述完全显影区完全透光，在由所述第一区域和所述第二区域相互远离的一侧至相互靠近的一侧的方向上，所述第一区域和所述第二区域的透光率皆由100％逐渐减小；或者，所述感光导电膜为负性膜，所述完全显影区不透光，在由所述第一区域和所述第二区域相互远离的一侧至相互靠近的一侧的方向上，所述第一区域和所述第二区域的透光率皆由0％逐渐增加。如此，方便掩膜图案的成型。

在其中一个实施例中，所述第一区域的边缘与所述第二区域的边缘接触连接，在由所述第一区域和所述第二区域相互远离的一侧至相互靠近的一侧的方向上，所述第一区域的透光率和所述第二区域的透光率皆呈线性渐变至相等，在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述掩膜图案被垂直于所述掩膜图案长度延伸方向的平面所截图形为三角形。线路层呈现清晰的外观美感。

在其中一个实施例中，所述显影保留区包括设置于所述第一区域与所述第二区域之间的第三区域，所述第三区域的透光率恒定不变，在由所述第一区域和所述第二区域相互远离的一侧至相互靠近的一侧的方向上，所述第一区域的透光率和所述第二区域的透光率皆呈线性渐变至与所述第三区域的透光率相等，在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述掩膜图案被垂直于所述掩膜图案长度延伸方向的平面所截图形为梯形。线路层呈现清晰的外观美感。

在其中一个实施例中，所述第一区域的透光率的渐变速度等于所述第二区域的透光率的渐变速度，在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述第二侧面与所述第一表面所形成的锐角值，等于所述第四侧面与所述第一表面所形成的锐角值。保证了掩膜图案相对的两侧与基板的附着力相等。

在其中一个实施例中，所述显影保留区沿第一方向延伸，对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述掩膜图案沿所述第一方向延伸，多个所述掩膜图案形成第一导电层，在对曝光后的所述感光导电膜进行显影的步骤之后，所述制备方法还包括如下步骤：

在所述第二表面设置第二导电层，使所述第一导电层和所述第二导电层形成耦合电容，得到具有触控功能的触控面板；所述第二导电层包括多个平行间隔设置的电极图案，所述电极图案沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸。

如此，第一导电层和第二导电层中的一者可以作为发射极，另一者可以作为感应极，从而制备得到的基板可以作为触控面板使用。

一种面板，包括：

基板，包括相背设置的第一表面和第二表面；以及

第一导电层，设于所述第一表面且包含感光导电膜，所述第一导电层包括多个间隔设置的掩膜图案，所述掩膜图案包括第一图案，所述第一图案包括相对设置且分别与所述第一表面相交的第一侧面和第二侧面，所述第一侧面垂直于所述第一表面，在由所述掩膜图案靠近所述第一表面的一侧至远离所述第一表面的一侧的方向上，所述第二侧面被参考平面所截图形与所述第一侧面的距离逐渐减小，所述参考平面为平行于所述第一表面的平面。

上述面板，由于感光导电膜(例如可转印透明导电膜)具有可弯折性、导电性和高透明性，故其可替代ito通过曝光和显影即可制备得到本发明的导电层(导电层包括多个掩膜图案)，省去镀膜、蚀刻和剥膜等工艺，简化了导电层的形成工艺。而且，在由掩膜图案靠近第一表面的一侧至远离第一表面的一侧的方向上，第一图案的第二侧面被参考平面所截图形与第一侧面的距离逐渐减小，故第一图案基于第二侧面的特性可以避免第一图案下端被挖空而出现悬空的现象，进而提升掩膜图案在基板上的附着力。

在其中一个实施例中，所述掩膜图案包括与所述第一图案连接的第二图案，所述第二图案包括相对设置且分别与所述第一表面相交的第三侧面和第四侧面，所述第三侧面垂直于所述第一表面并与所述第一侧面相对，在由所述掩膜图案靠近所述第一表面的一侧至远离所述第一表面的一侧的方向上，所述第四侧面被所述参考平面所截图形与所述第三侧面的距离逐渐减小。如此，可以进一步提升掩膜图案在基板上的附着力。

在其中一个实施例中，所述第一侧面与所述第三侧面接触连接，所述掩膜图案被垂直所述掩膜图案长度延伸方向的平面所截图形为三角形；或者，所述掩膜图案包括设于所述第一图案与所述第二图案之间并与所述第一侧面和第三侧面接触的第三图案，所述掩膜图案被垂直所述掩膜图案长度延伸方向的平面所截图形为梯形。如此，可以使得线路层(第一导电层)呈现清晰的外观美感。

在其中一个实施例中，所述第二侧面与所述第一表面所形成的锐角值，等于所述第四侧面与所述第一表面所形成的锐角值。保证了掩膜图案相对的两侧与基板的附着力相等。

在其中一个实施例中，所述基板为柔性基板，所述面板为柔性电路板。

在其中一个实施例中，所述面板为触控面板，所述掩膜图案沿第一方向延伸，所述面板包括第二导电层，所述第二导电层设置于所述第二表面，所述第二导电层包括多个平行间隔设置的电极图案，所述电极图案沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸，所述第一导电层和所述第二导电层形成耦合电容。如此，第一导电层和第二导电层中的一者可以作为发射极，另一者可以作为感应极，从而基板可以作为触控面板使用。

一种触控显示屏，包括：

显示面板；以及

上述触控面板，叠设于所述显示面板。

如此，触控显示屏备较好的弯折性能且导电图案具有较好的附着力。

一种电子设备，包括：

终端本体；以及

上述触控显示屏，与所述终端本体连接。

如此，触控显示屏备较好的弯折性能且导电图案具有较好的附着力。

附图说明

图1为本发明一实施例提供的面板的结构示意图；

图2为沿图1中剖面线ⅱ-ⅱ的剖面结构示意图；

图3为另一实施例面板的剖面结构示意图；

图4为本发明一实施例提供的触控面板的结构示意图；

图5为本发明一实施例提供的触控显示屏的结构示意图；

图6为本发明一实施例提供的电子设备的结构示意图；

图7为本发明一实施例提供的面板的制备流程示意图；

图8为一实施例利用半色调掩膜板对可转印透明导电膜曝光的示意图；

图9为另一实施例利用半色调掩膜板对可转印透明导电膜曝光的示意图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体地实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

参考图1和图2，本申请一实施例的面板10包括基板100和第一导电层200。基板100的材质可以为柔性绝缘材料，例如聚酰亚胺(polyimide，pi)、聚碳酸酯(pc)、聚醚砜(pes)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、多芳基化合物(par)或玻璃纤维增强塑料(frp)等聚合物材料形成，但不限定于此。当基板100的材料为聚酰亚胺(polyimide，pi)，特别是无色聚酰亚胺(colorlesspolyimide，cpi)时，其具有较好的耐弯折和绝缘性能。基板100包括相背设置的第一表面110和第二表面120。

第一导电层200设于第一表面110且包含感光导电膜，感光导电膜可直接感光以进行曝光，曝光后再经过显影即可形成所述第一导电层200，无需进行贴干膜和显影后的蚀刻工艺，感光导电膜例如可以为可转印透明导电膜(transparentconductivetransferfilm，tctf)，也即第一导电层200由可转印透明导电膜经曝光和显影之后形成。形成的第一导电层200可以作为线路层使用，此时面板10可以为柔性电路板(fpc)，由于可转印透明导电膜具有可弯折性和导电性，故制作得到的柔性电路板也具有较好的可弯折性能。

参考图1和图2所示，在一实施例中，第一导电层200包括多个间隔设置的掩膜图案210，本申请各实施例所述的“多个”指两个、三个、四个及以上等等。掩膜图案210包括相互连接的第一图案211和第二图案212。

第一图案211包括相对设置且分别与第一表面110相交的第一侧面2111和第二侧面2112，第一侧面2111垂直于第一表面110，在由掩膜图案210靠近第一表面110的一侧至远离第一表面110的一侧的方向上(图示x轴方向)，第二侧面2112被参考平面所截图形与第一侧面2111的距离逐渐减小，参考平面为平行于第一表面110的平面。在一实施例中，图2示意了第二侧面2112为倾斜于第一表面110的斜面，该斜面与第一表面110的夹角锐角取值φ1为30°～75°，例如45°。可以理解，在其它实施例中，第二侧面2112也可以为曲面。

第二图案212包括相对设置且分别与第一表面110相交的第三侧面2121和第四侧面2122，第三侧面2121垂直于第一表面110并与第一侧面2111相对，图2剖面图示意了两者接触贴合。在由掩膜图案210靠近第一表面110的一侧至远离第一表面110的一侧的方向上，第四侧面2122被参考平面所截图形与第三侧面2121的距离逐渐减小。在一实施例中，图2示意了第四侧面2122为倾斜于第一表面110的斜面，该斜面与第一表面110的夹角锐角取值φ2为30°～75°，例如45°。可以理解，在其它实施例中，第四侧面2122也可以为曲面。

需要说明的是，虽然图2示意了掩膜图案210包括第一图案211和第二图案212，但掩膜图案210可以只包括第一图案211，此时第二图案212可以省略。

上述面板10，由于感光导电膜具有可弯折性、导电性和高透明性，故其可替代ito通过曝光和显影即可制备得到本发明的第一导电层200，省去镀膜、蚀刻和剥膜等工艺，简化了第一导电层200的形成工艺。而且，第一图案211基于第二侧面2112的设置以及第二图案212基于第四侧面2122的设置可以避免显影工艺时由于过显影而挖空掩膜图案210，故可以提升掩膜图案210与基板100的附着力。相比相关技术掩膜图案210与基板100之间形成断差而言(即上述第二侧面2112和第四侧面2122与第一表面110垂直)，倾斜的第二侧面2112和第四侧面2122可供过显影用，即使第二侧面2112和第四侧面2122被过显影，也不会出现掩膜图案210下端被挖空而出现悬空的现象。

在一实施例中，请继续参考图2所示，第一侧面2111与第三侧面2121接触连接，掩膜图案210被垂直掩膜图案210长度延伸方向的平面所截图形为三角形。在其它实施例中，参考图3所示，掩膜图案210包括设于第一图案211与第二图案212之间并与第一侧面2111和第三侧面2121接触的第三图案213，掩膜图案210被垂直掩膜图案210长度延伸方向的平面所截图形为梯形。基于掩膜图案210截面为三角形和梯形的形状，可以提升线路布置美感。

在一实施例中，第二侧面2112与第一表面110之间所形成的锐角值φ1等于第四侧面2122与第一表面110之间所形成的锐角值φ2。其中，第二侧面2112与第一表面110之间所形成的锐角值φ1为30°-75°，例如φ1为45°。第四侧面2122与第一表面110之间所形成的锐角值φ2为30°-75°，例如φ2为45°。保证了掩膜图案210相对的两侧与基板100的附着力相等，进而提升掩膜图案210的附着稳定性。

在一实施例中，参考图4所示，面板10为触控面板，即面板10具有触控反馈功能。此时定义掩膜图案210沿第一方向延伸，面板10还包括第二导电层300，第二导电层300设置于第二表面120，第二导电层包300括多个平行间隔设置的电极图案，电极图案沿与第一方向交叉的第二方向延伸，第一导电层200和第二导电层300形成耦合电容。为了保护第二导电层300，第二导电层300可以通过粘胶层与保护盖板连接。

需要说明的是，第一导电层200和第二导电层300中的一者例如是发射电极层(一般简称tx电极)，另一者例如是接收电极层(一般简称为rx电极)。为了实现面板10的触控功能，基板100上还设有多条信号线(图未示)，多条信号线分别与第一导电层200和第二导电层300电性连接，以将第一导电层200和第二导电层300的电信号传递至fpc。信号线例如可以为印刷感光或镭射得到的银线(ag)或金线(au)，信号线的材质在此不作限定。

参考图5所示，当面板10可做触控面板用时，此时具有触控功能的面板10能够与显示面板20叠设贴合形成触控显示屏30。其中，显示面板10可以采用lcd(liquidcrystaldisplay，液晶显示)屏用于显示信息，lcd屏可以为tft(thinfilmtransistor，薄膜晶体管)屏幕或ips(in-planeswitching，平面转换)屏幕或slcd(spliceliquidcrystaldisplay，拼接专用液晶显示)屏幕。在另一实施例中，显示面板10可以采用oled(organiclight-emittingdiode，有机电激光显示)屏用于显示信息，oled屏可以为amoled(activematrixorganiclightemittingdiode，有源矩阵有机发光二极体)屏幕或superamoled(superactivematrixorganiclightemittingdiode，超级主动驱动式有机发光二极体)屏幕或superamoledplus(superactivematrixorganiclightemittingdiodeplus，魔丽屏)屏幕，此处不再赘述。

本发明还提供一种电子设备1000，参考图6所示，本发明将以智能手机为例对电子设备1000进行说明。本领域技术人员容易理解，本申请的电子设备1000还可以是任何具备通信和存储功能的设备，例如平板电脑、笔记本电脑、便携电话机、视频电话、数码静物相机、电子书籍阅读器、便携多媒体播放器(pmp)、移动医疗装置等智能终端，电子设备1000的表现形式在此不作任何限定。对于智能手表等可穿戴设备而言，其也同样适用于本申请各实施例的电子设备1000。

该电子设备1000包括触控显示屏30、后盖40和中框50，触控显示屏30和后盖40连接于中框50相背的两侧并围合形成收容空间，收容空间可以用于安装电子设备1000的主板、电源等器件。后盖40与中框50形成电子设备1000的终端本体，后盖40可与中框50一体成型或可拆卸连接。触控显示屏30背向后盖40的一侧包括可显示区301，可显示区301可构成触控显示屏30背向后盖40一侧的全部或者部分，可显示区301用于图像信息显示。

参考图7所示，本发明还提供一种面板10的制备方法，包括如下步骤：

步骤s810，参考图8所示，提供基板100。基板100包括相背设置的第一表面110和第二表面120。基板100的材质为绝缘材料，例如聚酰亚胺(polyimide，pi)、聚碳酸酯(pc)、聚醚砜(pes)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、多芳基化合物(par)或玻璃纤维增强塑料(frp)等聚合物材料形成，但不限定于此。当基板100的材料为聚酰亚胺(polyimide，pi)，特别是无色聚酰亚胺(colorlesspolyimide，cpi)时，其具有较好的耐弯折和绝缘性能。

步骤s820，在第一表面110设置感光导电膜200a。感光导电膜200a例如可以为可转印透明导电膜(transparentconductivetransferfilm，tctf)，可转印透明导电膜可转印于第一表面110，转印的方法可以为可转印透明导电膜200a通过压膜工艺形成于基板100上。

步骤s830，提供掩膜板400，掩膜板400包括完全显影区410和多个显影保留区420，相邻两个显影保留区420通过完全显影区410间隔，显影保留区420包括相互连接的第一区域421和第二区域422，在由第一区域421和第二区域422相互远离的一侧至相互靠近的一侧的方向上，第一区域421的透光率和第二区域422的透光率渐变(例如逐渐增加或者逐渐减小)。将掩膜板400设置为与感光导电膜200a相对，并利用掩膜板400对感光导电膜200a进行曝光。

步骤s840，对曝光后的感光导电膜200a进行显影，以使感光导电膜200a与完全显影区410相对的区域被完全显影，并使感光导电膜200a与显影保留区420相对的区域被部分显影形成掩膜图案210，掩膜图案210包括形成于感光导电膜200a与第一区域421相对的区域的第一图案211、以及形成于感光导电膜200a与第二区域422相对的区域的第二图案212。

其中，第一图案211包括相对设置且分别与第一表面110相交的第一侧面2111和第二侧面2112，第一侧面2111垂直于第一表面110，在由掩膜图案210靠近第一表面110的一侧至远离第一表面110的一侧的方向上，第二侧面2112被参考平面所截图形与第一侧面2111的距离逐渐减小。

第二图案212包括相对设置且分别与第一表面110相交的第三侧面2121和第四侧面2122，第三侧面2121垂直于第一表面110并与第一侧面2111相对，在由掩膜图案210靠近第一表面110的一侧至远离第一表面110的一侧的方向上，第四侧面2122被参考平面所截图形与第三侧面2121的距离逐渐减小。

需要说明的是，参考平面为平行于第一表面110的平面。

可以理解，在其它实施例中，所提供的掩膜板400可以不包括第二区域422。即曝光后的感光导电膜200a显影后得到只具有第一图案211的第一导电层200。

在一实施例中，步骤s820所设置的感光导电膜200a为正性膜，步骤s830所提供的掩膜板400的完全显影区410完全透光，在由第一区域421和第二区域422相互远离的一侧至相互靠近的一侧的方向上，第一区域421和第二区域422的透光率皆由100％逐渐减小。在步骤s840中，感光导电膜200a与显影保留区420中透光率为100％的区域相对的区域被正性显影液完全显影，感光导电膜200a与显影保留区420中透光率不为100％的区域相对的区域被正性显影液部分显影而被保留，即得到具有第二侧面2112或第四侧面2122的掩膜图案210。其中，第一区域421和第二区域422的透光率可由100％逐渐减小至0％。

在一实施例中，步骤s820所设置的感光导电膜200a为负性膜，步骤s830所提供的掩膜板400的完全显影区410不透光，在由第一区域421和第二区域422相互远离的一侧至相互靠近的一侧的方向上，第一区域421和第二区域422的透光率皆由0％逐渐增加。在步骤s840中，感光导电膜200a与显影保留区420中透光率为0％的区域相对的区域被负性显影液完全显影，感光导电膜200a与显影保留区420中透光率不为0％的区域相对的区域被负性显影液部分显影而被保留，即得到具有第二侧面2112或第四侧面2122的掩膜图案210。其中，第一区域421和第二区域422的透光率可由0％逐渐增加至100％。

在一实施例中，步骤s830所提供的掩膜板400的第一区域421的边缘与第二区域422的边缘接触连接，在由第一区域421和第二区域422相互远离的一侧至相互靠近的一侧的方向上，第一区域421的透光率和第二区域422的透光率皆呈线性渐变至相等，在对曝光后的感光导电膜200a进行显影时，成型的掩膜图案210被垂直于掩膜图案210长度延伸方向的平面所截图形为三角形。

在一实施例中，参考图9所示，步骤s830所提供的掩膜板400还包括设置于第一区域421与第二区域422之间的第三区域423，第三区域423的透光率恒定不变，在由第一区域421和第二区域422相互远离的一侧至相互靠近的一侧的方向上，第一区域421的透光率和第二区域422的透光率皆呈线性渐变至与第三区域423的透光率相等。在对曝光后的感光导电膜200a进行显影时，成型的掩膜图案210被垂直于掩膜图案410长度延伸方向的平面所截图形为梯形。

在一实施例中，第一区域421的透光率的渐变速度等于第二区域422的透光率的渐变速度，在对曝光后的感光导电膜200a进行显影时，第二侧面2112与第一表面110形成的锐角，等于第四侧面2122与第一表面110形成的锐角。

可以理解，在其它实施例中，掩膜图案210被垂直于掩膜图案410长度延伸方向的平面所截图形不限定为上述三角形和梯形。例如，在由第一区域421和第二区域422相互远离的一侧至相互靠近的一侧的方向上，第一区域421的透光率和第二区域422的透光率皆呈抛物线规律变化至与第三区域423的透光率相等。此时在对曝光后的感光导电膜200a进行显影时，成型的掩膜图案210的第二侧面2112和第四侧面2122皆为曲面，亦可提升掩膜图案210的附着力。

在一实施例中，步骤s830所提供的掩膜板400的显影保留区420沿第一方向延伸，在对曝光后的感光导电膜200a进行显影时，使掩膜图案210沿第一方向延伸，多个掩膜图案210形成第一导电层200，在对曝光后的感光导电膜200a进行显影的步骤之后，还可以在第二表面120设置第二导电层300，使第一导电层200和第二导电层300形成耦合电容，得到具有触控功能的面板10。第二导电层300包括多个平行间隔设置的电极图案，电极图案沿与第一方向交叉的第二方向延伸。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。