本申请是国际申请日为2014年12月9日的发明名称为“接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件”、国家申请号为201480067563.0的发明专利申请的分案申请。
本发明涉及接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件。
背景技术：
常被组装至手机、便携信息终端（pda）等仪器中的触控面板大致分类时，包含液晶面板之类的显示装置和接触式传感器之类的位置输入装置。并且，接触式传感器主要由形成于显示区域的敏感电极和配置在显示区域周边的装饰区域的导电布线构成。作为敏感电极，为了不妨碍显示部的可视性而广泛使用透明度高的氧化铟锡（以下记作“ito”）。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2013-924号公报。
技术实现要素：
发明要解决的课题
然而，成为ito原料的铟是昂贵的稀土金属，其供给不稳定。另外，由于导电性较低，对于用作电子黑板等中组装的大型触控面板的敏感电极而言，还存在导电性过低的问题。出于这样的情况，正在探索ito的替代物质，例如开发了使用贵金属的材料（专利文献1）等，但将其应用于触控面板时，会产生贵金属特有的光反射、与其相伴而产生敏感电极的透视，显示部的可视性降低。
另外，形成于接触式传感器的显示区域的ito与配置于其周边的装饰区域的导电布线还存在如下问题：ito与导电布线所使用的材料之间的密合不良；由于在ito的图案形成工序与配置于装饰区域的导电布线的形成工序之间增加加热工序、其它材料的层叠工序等各种工序，因此频发如下不良情况：由于热收缩导致的位置偏移、表面残留化学溶液、物理刺激，连接性变差、断线、导通不良等。因此，现状是期望全新的ito替代技术。
因而，本发明的目的在于，提供形成有显示区域的敏感电极（微细的导电图案）的接触式传感器用构件及其制造方法，所述敏感电极作为ito的替代而发挥功能，不会伴有显示区域的敏感电极的透视、光反射之类的问题，且抑制了其与装饰区域的导电布线（导电图案）之间的断线、导通不良，连接性优异。
用于解决问题的手段
为了解决上述课题，本发明提供以下（1）~（7）所述的接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件。
（1）接触式传感器用构件的制造方法，其具备如下工序：导电涂布膜形成工序：对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在上述显示区域上和上述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及，导电图案形成工序：对上述显示区域上的上述导电涂布膜与上述装饰区域上的上述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，从而得到导电图案，上述显示区域上的上述导电图案的线宽为2~6μm，上述装饰区域上的上述导电图案的线宽为7~100μm。
（2）接触式传感器用构件的制造方法，其具备如下工序：
遮光涂布膜形成工序：对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在上述显示区域上涂布感光性遮光糊剂，从而得到遮光涂布膜；导电涂布膜形成工序：在遮光涂布膜形成工序后，在上述显示区域上和上述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及，遮光层和导电图案形成工序：对上述显示区域上的上述遮光涂布膜和上述导电涂布膜与上述装饰区域上的上述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，从而得到遮光层和导电图案，上述显示区域上的上述导电图案的线宽为2~6μm，上述装饰区域上的上述导电图案的线宽为7~100μm。
（3）根据上述（1）或（2）所述的接触式传感器用构件的制造方法，其中，上述显示区域上的上述导电涂布膜中含有的有机成分与上述装饰区域上的上述导电涂布膜中含有的有机成分是相同的。
（4）根据上述（1）~（3）中任一项所述的接触式传感器用构件的制造方法，其中，上述显示区域上的上述导电涂布膜的组成与上述装饰区域上的上述导电涂布膜的组成是相同的。
（5）根据上述（4）所述的接触式传感器用构件的制造方法，其中，在上述导电涂布膜形成工序中，在上述显示区域上和上述装饰区域上一并涂布感光性导电糊剂。
（6）接触式传感器用构件，其具备：被区分成显示区域和装饰区域的基板；在上述显示区域上形成的、线宽为2~6μm的导电图案；以及，在上述装饰区域上形成的、线宽为7~100μm的导电图案，上述线宽为2~6μm的导电图案的组成与上述线宽为7~100μm的导电图案的组成是相同的。
（7）根据上述（6）所述的接触式传感器用构件，其中，上述显示区域与上述线宽为2~6μm的导电图案之间具有遮光层。
发明的效果
根据本发明的接触式传感器用构件的制造方法，能够在接触式传感器的显示区域上形成微细的导电图案，进而在形成该导电图案的同时，能够抑制断线、导通不良，并在装饰区域上一并形成连接性极好的导电布线，所述导电图案作为ito的替代而发挥功能，且不会伴有显示区域的敏感电极的透视、光反射之类的问题。另外，通过一并形成而能够有助于生产率的提高。
具体实施方式
本发明的第一方式中的接触式传感器用构件的制造方法的特征在于，其具备如下工序：导电涂布膜形成工序：对于被区分成显示区域和装饰区域的基板，在上述显示区域上和上述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及，导电图案形成工序：对上述显示区域上的上述导电涂布膜和上述装饰区域上的上述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，从而得到导电图案，上述显示区域上的上述导电图案的线宽为2~6μm，上述装饰区域上的上述导电图案的线宽为7~100μm。
本发明所具备的导电涂布膜形成工序中，作为涂布感光性导电糊剂的基板，可列举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯膜（以下记作“pet薄膜”）、聚酰亚胺膜、聚酯膜或芳纶膜等膜；环氧树脂基板、聚醚酰亚胺树脂基板、聚醚酮树脂基板、聚砜系树脂基板、碱性玻璃基板、无碱玻璃基板、或者玻璃·环氧树脂复合基板的玻璃板、硅晶片、氧化铝基板、氮化铝基板或碳化硅基板，优选为膜或玻璃板。另外，这些基板的表面可以被绝缘层或图案或装饰层覆盖。作为玻璃基板的玻璃，优选为实施了强化处理的强化玻璃。此处，作为强化玻璃，可列举出例如：对玻璃表面层的分子进行离子交换而在玻璃表面形成大分子，在玻璃表面层形成了压缩应力的化学强化玻璃；或者，将玻璃加热至残留有残留应力的温度后进行骤冷，在玻璃表面层形成了压缩应力的物理强化玻璃。
基板可以是连续的长条基板。为长条基板时，可以使用例如卷对卷法或者辊对辊法来制造图案。使用辊对辊法等方式时，若以照射光为中央而在其前面和背面并排配置基板，则能够一次获得多条线，是有效的。
基板的装饰区域是指与接触式传感器中的边缘部分相当的区域。基板的装饰区域可以形成由白色或黑色等的树脂构成的装饰层，装饰层的表面可以进一步被钼等的金属薄膜覆盖。另外，基板的显示区域和/或装饰区域可以形成由透明树脂等构成的绝缘层。装饰区域形成有装饰层时，装饰区域与显示区域的边界产生高度差，因此对装饰区域和显示区域一并设置绝缘层时，最上面达到均匀、能够抑制由高度差导致的导电图案的断线，故而优选。
作为将感光性导电糊剂涂布在基板上而得到导电涂布膜的方法，可以根据糊剂的粘度进行选择。例如，可列举出使用了旋转器的旋转涂布、喷雾涂布、辊涂、丝网印刷、胶版印刷、凹版印刷、活版印刷或柔性印刷、或者使用板涂机、模具涂布机、涂胶砑光机、液面弯曲式涂布（meniscuscoater）或棒涂机的方法。其中，优选为丝网印刷，这是因为所得导电涂布膜的表面平滑性良好，容易通过选择丝网印刷版来调整膜厚。
涂布于基板的感光性导电糊剂是指含有导电性颗粒、以及作为有机成分的感光性有机化合物、溶剂的组合物。导电性颗粒在感光性导电糊剂中的总固体成分之中所占的比例优选为60~95质量%、更优选为80~90质量%。若该比例为60质量%以上，则导电性颗粒彼此的接触概率提高、所得导电图案的比电阻值和断线概率变低。此处，断线概率变低是因为：导电图案中的导电性颗粒被有机成分、气泡等隔开而生成微小缺陷的发生率变低。另一方面，若该比例为95质量%以下，则用于曝光的光会在导电涂布膜中顺利地透过，因此容易形成微细的图案。此处，总固体成分是指不包括溶剂在内的感光性导电糊剂或感光性遮光糊剂的总构成成分。
感光性导电糊剂中含有的导电性颗粒可列举出例如银（ag）、金（au）、铜（cu）、铂（pt）、铅（pb）、锡（sn）、镍（ni）、铝（al）、钨（w）、钼（mo）、铬（cr）、钛（ti）或铟（in）等金属、或者这些金属的合金、或者氧化钌等金属氧化物的颗粒，从导电性的观点出发，优选为ag、cu或au的颗粒，从低成本和稳定性的观点出发，更优选为ag的颗粒。
使用ag颗粒作为导电性颗粒时，在形成导电图案后，容易因ag而发生光反射，因此，导电图案优选同时含有ag颗粒和有机成分。可通过有机成分来抑制ag的直接性的光反射。
导电性颗粒可以具有两层以上的层结构。可以是以cu作为芯、表面以ag为壳那样的结构。另外，表面可以包含各种有机成分。表面的有机成分作为维持小粒径的导电性颗粒的分散性、导电助剂而发挥功能，因此可有效地利用。作为有机质成分，可列举出例如脂肪酸、胺、硫醇系的有机化合物或碳。
感光性导电糊剂中含有的感光性有机化合物是指具有不饱和双键的单体、低聚物或聚合物。作为具有不饱和双键的单体，可列举出例如丙烯酸系单体。作为丙烯酸系单体，可列举出例如丙烯酸甲酯、丙烯酸、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸缩水甘油酯、n-甲氧基甲基丙烯酰胺、n-乙氧基甲基丙烯酰胺、n-正丁氧基甲基丙烯酰胺、n-异丁氧基甲基丙烯酰胺、丁氧基三乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸二环戊酯、丙烯酸二环戊烯酯、丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸异癸酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基乙二醇丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸八氟戊酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸三氟乙酯、丙烯酰胺、丙烯酸氨基乙酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸1-萘酯、丙烯酸2-萘酯、苯硫酚丙烯酸酯或苄硫醇丙烯酸酯等丙烯酸系单体；苯乙烯、对甲基苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯或羟甲基苯乙烯等苯乙烯类；γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、1-乙烯基-2-吡咯烷酮、烯丙基化二丙烯酸环己酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇单羟基五丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、二丙烯酸甘油酯、甲氧基化二丙烯酸环己酯、新戊二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇二丙烯酸酯、三甘油二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、具有用不饱和酸使环氧基开环而成的羟基的乙二醇二缩水甘油醚的丙烯酸加成物、二乙二醇二缩水甘油醚的丙烯酸加成物、新戊二醇二缩水甘油醚的丙烯酸加成物、甘油二缩水甘油醚的丙烯酸加成物、双酚a二缩水甘油醚的丙烯酸加成物、双酚f的丙烯酸加成物或甲酚酚醛清漆的丙烯酸加成物等环氧丙烯酸酯单体。作为环氧丙烯酸酯单体，可列举出例如epoxyester40em、70pa、80mfa或3002m（以上均为共荣社化学株式会社制）；cn104或cn121（以上均为サートマー公司制）；ebecryl3702或ebecryl3700或ebecryl600（以上均为ダイセル·サイテック公司制）。另外，可列举出将上述丙烯酸系单体的丙烯酰基置换成甲基丙烯酰基而得到的化合物。
作为具有不饱和双键的聚合物，可列举出例如丙烯酸系共聚物。丙烯酸系共聚物是指共聚成分包含丙烯酸系单体的共聚物。聚合物优选具有羧基。具有羧基的丙烯酸系共聚物可通过使用不饱和羧酸等不饱和酸作为单体而得到。作为不饱和酸，可列举出例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、马来酸、富马酸或醋酸乙烯酯或它们的酸酐。根据所用的不饱和酸的多少，能够调整所得丙烯酸系共聚物的酸值。
另外，通过使上述丙烯酸系共聚物具有的羧基与（甲基）丙烯酸缩水甘油酯等具有不饱和双键的化合物发生反应，能够得到侧链具有反应性不饱和双键的碱可溶性的丙烯酸系共聚物。
为了使感光性有机化合物的碱可溶性达到最佳，感光性有机化合物的酸值优选为40~250mgkoh/g。酸值不足40mgkoh/g时，可溶部分的溶解性降低。另一方面，酸值超过250mgkoh/g时，显影可允许宽度变窄。需要说明的是，酸值可根据jisk0070（1992）来测定。
感光性导电糊剂可以含有热固性化合物。热固性化合物是指具有环氧基的单体、低聚物或聚合物、酚醛树脂、聚酰亚胺前体或已闭环聚酰亚胺，优选为具有环氧基的单体、低聚物或聚合物。
作为具有环氧基的聚合物，可列举出例如乙二醇改性环氧树脂、双酚a型环氧树脂、溴化环氧树脂、双酚f型环氧树脂、酚醛清漆型环氧树脂、脂环式环氧树脂、缩水甘油胺型环氧树脂、缩水甘油醚型环氧树脂、或者杂环式环氧树脂。
热固性化合物的添加量相对于100质量份感光性有机化合物优选为1~100质量份、更优选为30~80质量份、进一步优选为10~80质量份。相对于100质量份感光性有机化合物的添加量为30质量份以上时，密合性提高。另一方面，相对于100质量份感光性有机化合物的添加量为80质量份以下时，能够得到涂布膜状态下的稳定性高的感光性导电糊剂。
为了在加热或照射氙闪光管的光时保持导电涂布膜的形状，感光性有机化合物和热固性化合物优选具有脂环式结构、更优选具有环己烷骨架。此处，脂环式结构是指碳原子键合成环状的结构之中不包括芳香族环在内的结构。作为脂环式结构，可列举出例如环丙烷骨架、环丁烷骨架、环戊烷骨架、环己烷骨架、环丁烯骨架、环戊烯骨架、环己烯骨架、环丙炔骨架、环丁炔骨架、环戊炔骨架、环己炔骨架或氢化双酚a骨架。
作为用于合成具有这些骨架的感光性有机化合物或热固性化合物的化合物，可列举出例如氢化双酚a、1,1-环丁烷二羧酸、1,2,3,4-环丁烷四羧酸、4,4-二氨基二环己基甲烷、异佛尔酮二胺、二环己基甲烷4,4’-二异氰酸酯、反式-4-甲基环己基异氰酸酯、takenate600（1,3-双（异氰酸根合甲基）环己烷）（三井化学株式会社制）、二异氰酸异佛尔酮酯、1,2-环氧环己烷、1-乙烯基-3,4-环氧环己烷、rikaresindme-100（1,4-环己烷二甲醇二缩水甘油醚）（新日本理化株式会社制）、rikaresinhbe-100（4,4’-异丙叉基二环己醇与（氯甲基）环氧乙烷的聚合物）（新日本理化株式会社制）、st-4000d（以氢化双酚a作为主要成分的环氧树脂；新日铁化学株式会社制）、1,2:5,6-二环氧环辛烷、氢化双酚a的po加成物二丙烯酸酯、氢化双酚a的eo加成物二甲基丙烯酸酯、氢化双酚a的po加成物二甲基丙烯酸酯、2-丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸、二羟甲基三环癸烷二丙烯酸酯、丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸环己酯、丙烯酸叔丁基环己酯、甲基丙烯酸叔丁基环己酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸二环戊烯酯、丙烯酸二环戊烯氧基乙酯、丙烯酸二环戊酯、甲基丙烯酸二环戊烯氧基乙酯或甲基丙烯酸二环戊酯。
感光性导电糊剂根据需要优选含有光聚合引发剂。此处，光聚合引发剂是指吸收紫外线等短波长的光而分解、或者发生脱氢反应而产生自由基的化合物。作为光聚合引发剂，可列举出例如1,2-辛二酮、1-[4-（苯硫基）-2-（o-苯甲酰肟）]、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双（2,4,6-三甲基苯甲酰基）苯基氧化膦、乙酮、1-[9-乙基-6-2（2-甲基苯甲酰基）-9h-咔唑-3-基]-1-（o-乙酰肟）、二苯甲酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、4,4’-双（二甲氨基）二苯甲酮、4,4’-双（二乙氨基）二苯甲酮、4,4’-二氯二苯甲酮、4-苯甲酰基-4’-甲基二苯基酮、二苄基酮、芴酮、2,2’-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、对叔丁基二氯苯乙酮、噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、二乙基噻吨酮、联苯酰、联苯酰二甲基缩酮、联苯酰-β-甲氧基乙基乙缩醛、苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻丁醚、蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-戊基蒽醌、β-氯蒽醌、蒽酮、苯并蒽酮、二苯并环庚酮、亚甲基蒽酮、4-叠氮苯亚甲基苯乙酮、2,6-双（对叠氮苯亚甲基）环己酮、6-双（对叠氮苯亚甲基）-4-甲基环己酮、1-苯基-1,2-丁二酮-2-（邻甲氧基羰基）肟、1-苯基丙二酮-2-（邻乙氧基羰基）肟、1-苯基丙二酮-2-（邻苯甲酰基）肟、1,3-二苯基-丙三酮-2-（邻乙氧基羰基）肟、1-苯基-3-乙氧基丙三酮-2-（邻苯甲酰基）肟、米蚩酮、2-甲基-[4-（甲硫基）苯基]-2-吗啉代-1-丙酮、萘磺酰氯、喹啉磺酰氯、n-苯硫基吖啶酮、4,4’-偶氮双异丁腈、二苯基二硫化物、苯并噻唑二硫化物、三苯基膦、樟脑醌、2,4-二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮、四溴化碳、三溴苯砜、过氧化苯偶姻、曙红或亚甲基蓝等光还原性色素与抗坏血酸或三乙醇胺等还原剂的组合。
光聚合引发剂的添加量相对于100质量份感光性有机化合物优选为0.05~30质量份、更优选为5~20质量份。相对于100质量份感光性有机化合物的添加量为5质量份以上时，将感光性导电糊剂曝光了的部分的固化密度变高、显影后的残膜率变高。另一方面，相对于100质量份感光性有机化合物的光聚合引发剂的添加量为30质量份以下时，涂布感光性导电糊剂而得到的涂布膜上部的过量光吸收受到抑制。其结果，通过所形成的图案呈现倒锥形状而抑制其与基板的密合性降低。
感光性导电糊剂可以同时含有光聚合引发剂和增敏剂。
作为增敏剂，可列举出例如2,4-二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,3-双（4-二乙氨基苯亚甲基）环戊酮、2,6-双（4-二甲氨基苯亚甲基）环己酮、2,6-双（4-二甲氨基苯亚甲基）-4-甲基环己酮、米蚩酮、4,4-双（二乙氨基）二苯甲酮、4,4-双（二甲氨基）查耳酮、4,4-双（二乙氨基）查耳酮、对二甲氨基亚肉桂基茚酮、对二甲氨基苯亚甲基茚酮、2-（对二甲氨基苯基次亚乙烯基）异萘并噻唑、1,3-双（4-二甲氨基苯基次亚乙烯基）异萘并噻唑、1,3-双（4-二甲氨基苯亚甲基）丙酮、1,3-羰基双（4-二乙氨基苯亚甲基）丙酮、3,3-羰基双（7-二乙氨基香豆素）、n-苯基-n-乙基乙醇胺、n-苯基乙醇胺、n-甲苯基二乙醇胺、二甲氨基苯甲酸异戊酯、二乙氨基苯甲酸异戊酯、3-苯基-5-苯甲酰基硫并四唑、或者1-苯基-5-乙氧基羰基硫基四唑。
增敏剂的添加量相对于100质量份感光性有机化合物优选为0.05~10质量份，更优选的是，更优选为0.1~10质量份。相对于100质量份感光性有机化合物的添加量为0.1质量份以上时，光灵敏度充分提高。另一方面，相对于感光性有机成分的100质量份感光性有机化合物的添加量为10质量份以下时，涂布感光性导电糊剂而得到的涂布膜上部的过量光吸收受到抑制。其结果，通过所形成的图案呈现倒锥形状而抑制其与基板的密合性降低。
感光性导电糊剂可以含有羧酸或其酸酐。作为羧酸，可列举出例如醋酸、丙酸、琥珀酸、马来酸、邻苯二甲酸、1,2,3,6-四氢邻苯二甲酸、3,4,5,6-四氢邻苯二甲酸、六氢邻苯二甲酸、4-甲基六氢邻苯二甲酸、甲基双环[2.2,1]庚烷-2,3-二羧酸、乙二醇二脱水偏苯三酸酯、甘油二脱水偏苯三酸酯单乙酸酯、四丙烯基琥珀酸、辛烯基琥珀酸、3,3’,4,4’-二苯砜四羧酸、1,3,3a,4,5,9b-六氢-5（四氢-2,5-二氧杂-3-呋喃基）萘并[1,2-c]呋喃-1,3-二酮、1,2,3,4-丁烷四羧酸、环己烷-1,2,3,4-四羧酸、byk-p105（bykjapankk.制）、pa-111（ajinomotofine-technoco.,inc.制）、flowleng-700或flowleng-900（以上均为共荣社化学株式会社制）、或者kd-4、kd-8、kd-9、kd-12、kd-15或jp-57（以上均为crodajapankk.制）。
作为酸酐，可列举出例如醋酸酐、丙酸酐、琥珀酸酐、马来酸酐、邻苯二甲酸酐、1,2,3,6-四氢邻苯二甲酸酐、3,4,5,6-四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、4-甲基六氢邻苯二甲酸酐、甲基双环[2.2,1]庚烷-2,3-二羧酸酐、乙二醇二脱水偏苯三酸酯、甘油二脱水偏苯三酸酯单乙酸酯、四丙烯基琥珀酸酐、辛烯基琥珀酸酐、3,3’,4,4’-二苯砜四羧酸酐、1,3,3a,4,5,9b-六氢-5（四氢-2,5-二氧杂-3-呋喃基）萘并[1,2-c]呋喃-1,3-二酮、1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐或环己烷-1,2,3,4-四羧酸3,4-酐。
羧酸或其酸酐的添加量相对于100质量份感光性有机化合物优选为0.5~30质量份、更优选为1~20质量份。羧酸或其酸酐相对于100质量份感光性有机化合物的添加量为0.5质量份以上时，对显影液的亲和性提高、能够形成良好的图案。另一方面，羧酸或酸酐相对于100质量份感光性有机化合物的添加量为30质量份以下时，显影宽容度、高温高湿度下的密合性提高。
感光性导电糊剂为了调整其粘度而优选含有溶剂。关于溶剂，在制作糊剂的过程中可以最后添加。通过增加溶剂量，能够减薄干燥后的导电膜的膜厚。作为溶剂，可列举出例如n,n-二甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺、n-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基咪唑啉酮、二甲基亚砜、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单乙醚乙酸酯（以下记作“dmea”）、二乙二醇单甲醚乙酸酯、γ-丁内酯、乳酸乙酯、1-甲氧基-2-丙醇、1-乙氧基-2-丙醇、乙二醇单正丙醚、二丙酮醇、四氢糠醇或丙二醇单甲醚乙酸酯，也可以将它们混合2种以上。
感光性导电糊剂若在不损害其期望特性的范围内也可以含有增塑剂、流平剂、表面活性剂、硅烷偶联剂、消泡剂或稳定剂等。
作为增塑剂，可列举出例如邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二辛酯、聚乙二醇或甘油。
作为流平剂，可列举出例如特殊乙烯基系聚合物或特殊丙烯酸系聚合物。
作为硅烷偶联剂，可列举出例如甲基三甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、六甲基二硅氮烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、或者乙烯基三甲氧基硅烷。
作为稳定剂，可列举出例如苯并三唑衍生物、二苯甲酮衍生物、水杨酸衍生物、氰基丙烯酸酯衍生物、tinuvin109、tinuvin234、tinuvin328、tinuvin329、tinuvin384-2或tinuvin571（以上均为长濑产业株式会社制）；eversorb75、eversorb76、eversorb81、eversorb109或eversorb234（以上均为thought,inc.制）；adekastabla-38（adekacorporation制）；sumisorb130、sumisorb250、sumisorb340或sumisorb350（以上均为sumikachemtexco.,ltd.制）；或者具有伯氨基~叔氨基的化合物。作为具有伯氨基~叔氨基的化合物，可列举出例如n-（2-氨乙基）哌嗪、1-（2-氨乙基）-4-甲基哌嗪盐酸盐、6-氨基-1-甲基尿嘧啶、聚乙烯亚胺、十八烷基异氰酸酯改性聚乙烯亚胺、或者环氧丙烷改性聚乙烯亚胺。
利用丝网印刷进行涂布时的感光性导电糊剂的粘度优选为4,000~150,000mpa·s的范围（使用布鲁克菲尔德型粘度计以3rpm测定的值）、更优选为4,000~50,000mpa·s。粘度不足4,000mpa·s时，无法在基板上形成导电涂布膜。此时，优选为使用了旋转器的旋转涂布、喷雾涂布、辊涂、胶版印刷、凹版印刷、或者使用模涂机等的方法。另一方面，粘度超过150,000mpa·s时，容易在导电涂布膜的表面产生凹凸、发生曝光不均。需要说明的是，感光性导电糊剂的粘度可以通过使用布鲁克菲尔德粘度计以3rpm进行测定来测定。
所得导电涂布膜的膜厚可根据涂布方法或感光性导电糊剂的总固体成分浓度或粘度等来适当确定，干燥后的膜厚优选达到0.1~10μm。膜厚超过10μm时，用于曝光的光无法在导电涂布膜中顺利地透过，所得导电图案发生断线、剥落或者显影宽容度变窄。此处所述的容易发生断线是指：由于导电图案中的有机成分的固化不足，从而容易产生因导电性颗粒在显影时部分脱落而发生等的微小缺陷。
需要说明的是，显示区域上的导电涂布膜优选干燥后的膜厚达到0.1~3μm、更优选达到0.5~2μm。装饰区域上的导电涂布膜优选干燥后的膜厚达到0.5~7μm，但不限定于此。在显示区域上和装饰区域上一同涂布感光性导电糊剂而得到导电涂布膜时，装饰区域上的膜厚优选与显示区域上适当选择的膜厚相符，优选干燥后的膜厚达到0.5~2μm。需要说明的是，膜厚可以使用例如“surfcom”（注册商标）1400（东京精密株式会社制）之类的触针式高度差计来测定。更具体而言，针对随机的3个位置的膜厚，可以用触针式高度差计（测定长度：1mm、扫描速度：0.3mm/秒）分别测定，将其平均值作为膜厚。
利用导电涂布膜形成工序得到的导电涂布膜含有溶剂时，优选预先将导电涂布膜干燥而使溶剂挥发去除。作为干燥方法，可列举出例如利用烘箱或热板进行的加热干燥、电磁波紫外线灯、红外线加热器或卤素加热器等利用电磁波或微波进行的加热干燥、或者真空干燥。加热温度优选为50~150℃、更优选为80~110℃。加热温度不足50℃时，溶剂会残留。另一方面，加热温度超过150℃时，导电涂布膜会热固化，无法通过曝光而形成图案。加热时间优选为1分钟~数小时、更优选为1~20分钟。
本发明具备的导电图案形成工序中，利用光刻法对导电涂布膜形成工序中得到的导电涂布膜进行加工。即，在导电图案形成工序中，对显示区域上的导电涂布膜和装饰区域上的导电涂布膜一并进行曝光和显影，进一步以100~250℃进行加热或者照射氙闪光管的光，从而形成导电图案。通过一并形成导电图案，能够抑制断线、导通不良，能够使显示区域上与装饰区域上的导电图案的导电连接性变得良好，可有助于提高生产率。
用于曝光的光、即曝光光优选在与感光性有机成分或光聚合引发剂的吸收光谱吻合的紫外区域、即300~450nm的波长区域具有光谱。作为用于获得这种曝光光的光源，可列举出汞灯、氙灯、led灯、半导体激光、krf准分子激光或arf准分子激光，优选为汞灯的i射线（365nm）、h射线（405nm）或g射线（436nm）。另外，可以将曝光光设为氙闪光管的光。
作为曝光方法，可列举出例如掩膜曝光或激光直接描画法等激光曝光。
通过使用显影液对已曝光的显示区域上的导电涂布膜和装饰区域上的导电涂布膜一并进行显影，并去除各自的未曝光部，能够得到期望的图案。作为进行碱显影时的显影液，可列举出四甲基氢氧化铵、二乙醇胺、二乙氨基乙醇、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、三乙胺、二乙胺、甲胺、二甲胺、醋酸二甲氨基乙酯、二甲氨基乙醇、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、环己胺、乙二胺或六亚甲基二胺的水溶液，也可以向它们的水溶液中添加n-甲基-2-吡咯烷酮、n,n-二甲基甲酰胺、n,n-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜或γ-丁内酯等极性溶剂、甲醇、乙醇或异丙醇等醇类、乳酸乙酯或丙二醇单甲醚乙酸酯等酯类、环戊酮、环己酮、异丁酮或甲基异丁基酮等酮类、或者表面活性剂。作为进行有机显影时的显影液，可列举出例如n-甲基-2-吡咯烷酮、n-乙酰-2-吡咯烷酮、n,n-二甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜或六甲基磷三酰胺等极性溶剂、或者这些极性溶剂与甲醇、乙醇、异丙醇、二甲苯、水、甲基卡必醇或乙基卡必醇的混合溶液。
作为显影的方法，可列举出例如一边使基板静置或旋转一边将显影液喷雾至导电涂布膜表面的方法、将基板浸渍在显影液中的方法、或者一边将基板浸渍在显影液中一边施加超声波的方法。
通过显影而得到的图案可以利用润洗液实施润洗处理。此处，作为润洗液，可列举出例如水或者向水中添加了乙醇或异丙醇等醇类或乳酸乙酯或丙二醇单甲醚乙酸酯等酯类而得到的水溶液。
通过对利用显影得到的图案进一步以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，能够得到导电图案。
作为加热方法，可列举出例如利用烘箱、惰性烘箱、热板或红外线等进行的加热干燥或真空干燥。通过加热，所得导电图案的硬度提高，能够抑制导电图案与其它构件的接触所导致的缺损、剥落等，进而能够提高导电图案与基板的密合性。
氙闪光管的光可以进行脉冲照射。此处，脉冲照射是指瞬间地重复进行连续照射和间歇照射的光照射方法。与连续照射相比，脉冲照射能够进行更弱的光照射，因此能够抑制导电图案的急剧改性，故而优选。以提高生产效率、防止过量的光散射、防止基板损伤等为目的时，是有效的手段。更具体而言，可以以0.01~10000msec的总照射时间与脉冲照射进行组合。另外，也可以在照射氙闪光管的光的同时，一起照射具有亮线的光。此处，为了同时照射具有亮线的光，例如可以使用汞氙灯，也可以同时照射氙灯和汞灯的光。
要照射的氙闪光管的光能量可考虑基板的种类或要形成的导电图案的厚度、线宽来适当确定，为了防止容易劣化的基板的损伤，优选为300~2500mj/cm2。需要说明的是，在显示区域上与装饰区域上之间照射的氙闪光管的光能量和照射时间可以不同。
另一方面，作为用于使所得图案表现出导电性的处理，可以将100~250℃下的加热与氙闪光管的光照射进行组合来进行。
所形成的显示区域上的导电图案的线宽需要为2~6μm。导电图案的线宽不足2μm时，会因后续工序中的物理刺激而发生断线、导电图案与基板的密合性恶化。为了无法用目视识别，线宽还需要为6μm以下。即，如搭载触控面板的智能手机那样地用于小型显示器、例如尺寸为6英寸左右的显示器时，视点距离变近，因此，线宽优选较细，需要为6μm以下。应用于显示器画面超过数十英寸那样的大画面时，视点距离发生偏移，因此，导电图案的线宽上限也可以在无法目视识别的范围内进行微调，但是有限的。
显示区域上的导电图案优选制成具有交差点的网眼图案之类的形态。作为网眼图案的形态，优选为四边形或菱形等图案重复而成的、能够用坐标区分的形态。这种网眼图案中，将某1边的导电图案与相邻的1边的导电图案的端点连接而成的图案间距优选为100~3000μm。在该范围时，具有无法用目视识别的程度的透过性，防止模糊之类的外观恶化。图案间距小于100μm时，透过性变差或者图案间容易发生短路不良，因此是不恰当的。
所形成的装饰区域上的导电图案的线宽需要为7~100μm。关于装饰区域上的导电图案，规整地平行配置多个图案的形态是广为人知的。此时，装饰区域上的导电图案的间距优选为14~200μm。装饰区域配置于显示器的边缘，为了拓宽显示器的显示区域而想要缩窄边缘时，线宽需要为7~100μm。此时，也可以缩窄图案间距，但容易在配线之间残留残渣物，容易成为短路的原因，因此，优选在可能的范围内拓宽图案间距。作为窄边缘用途的图案间距可优选地使用14~200μm。若追求生产稳定性，则优选以线宽10~100μm、图案间距20~200μm来形成。
作为在显示区域上和装饰区域上形成线宽不同的导电图案的方法，可列举出例如如下方法：将使用的曝光掩膜的开口部宽度调整至最佳的方法；使显示区域上的曝光量与装饰区域上的曝光量保持差异的方法；或者，在一并曝光后，对与曝光掩膜的装饰区域相对应的部分掩蔽，并仅对显示区域进一步曝光的方法。
本发明的第二方式中的接触式传感器用构件的制造方法的特征在于，其具备如下工序：遮光涂布膜形成工序：杜宇被区分成显示区域和装饰区域的基板，在上述显示区域上涂布感光性遮光糊剂，从而得到遮光涂布膜；导电涂布膜形成工序：在遮光涂布膜形成工序后，在上述显示区域上和上述装饰区域上涂布感光性导电糊剂，从而得到导电涂布膜；以及，导电图案形成工序：对上述显示区域上的上述遮光涂布膜和上述导电涂布膜与上述装饰区域上的上述导电涂布膜一并进行曝光和显影，进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光，从而得到导电图案，上述显示区域上的上述导电图案的线宽为2~6μm，上述装饰区域上的上述导电图案的线宽为7~100μm。
根据本发明的第二方式，通过遮光膜的存在，能够抑制显示区域上的导电图案的光反射，故而优选。
作为将感光性遮光糊剂涂布在基板的显示区域上而得到遮光涂布膜的方法，可列举出与获得导电涂布膜的方法相同的方法。即，遮光涂布膜可以得到与显示区域的导电图案相同的图案。
涂布在基板的显示区域上的感光性遮光糊剂是指含有颜料、以及作为有机成分的感光性有机化合物和溶剂的组合物。颜料在感光性遮光糊剂中的总固体成分之中所占的比例优选为5~50质量%。相对于总固体成分的添加量为5质量%以上时，能够得到致密且遮光性高的遮光涂布膜。另一方面，相对于总固体成分的添加量超过50质量%时，曝光光不会在遮光涂布膜中顺利地透过，不仅难以形成微细的图案，在显影时图案也容易剥落。
感光性遮光糊剂中含有的颜料是指在可见区域具有吸收的有色粉末。颜料优选为无机化合物的粉末，这是因为对遮光性造成影响的粉末颜料、粒径、分散状态和表面粗糙度等容易最佳化。此处，无机化合物是指由碳以外的元素构成的化合物和单纯的部分碳化合物。作为单纯的部分碳化合物，可列举出例如石墨或金刚石等碳的同素异形体、碳酸钙等金属碳酸盐或金属碳化物等盐。
作为成为颜料的无机化合物，可列举出例如金属氧化物、炭黑、乙炔黑、科琴黑、钛黑、碳晶须或碳纳米管，优选为选自铬、铁、钴、钌、锰、钯、铜、镍、镁和钛中的金属的氧化物的粉末或者炭黑的粉末。上述金属氧化物或炭黑不仅可以单独使用，也可以使用合金或混合粉末。作为这种颜料，可列举出例如四氧化三钴（co3o4）、cr2o3-cuo-co3o4、钌氧化物（ruo2）、cuo-cr2o3-mn2o3。另外，也可以使用将上述金属氧化物覆盖其它金属粉末或树脂粉末而得到的物质。
为了使颜料均匀地分散在糊剂中而确保遮光性并实现微细的图案形成，颜料的体积平均粒径优选为0.05~2μm、更优选为0.05~1μm。颜料的体积平均粒径不足0.05μm时，遮光性变得不充分。另一方面，颜料的体积平均粒径超过2μm时，遮光涂布膜的表面的平滑性变低、进而曝光光不会在遮光涂布膜中顺利地透过、难以形成微细的图案。需要说明的是，与导电性颗粒同样地，颜料的体积平均粒径可通过动态光散射法进行测定。
感光性遮光糊剂中含有的感光性有机化合物与感光性导电糊剂中含有的感光性有机化合物相同，是指具有不饱和双键的单体、低聚物或聚合物。
感光性遮光糊剂中有时含有的热固性化合物与感光性导电糊剂中含有的热固性化合物相同，是指具有环氧基的单体、低聚物或聚合物、酚醛树脂、聚酰亚胺前体或已闭环聚酰亚胺，优选为具有环氧基的单体、低聚物或聚合物。热固性化合物的添加量优选与感光性导电糊剂的情况相同。另外，为了在加热或照射氙闪光管的光时保持导电涂布膜的形状，感光性有机化合物和热固性化合物优选具有脂环式结构、更优选具有环己烷骨架。
与感光性导电糊剂同样地，感光性遮光糊剂根据需要优选含有光聚合引发剂。光聚合引发剂的添加量优选与感光性导电糊剂的情况相同。另外，感光性遮光糊剂可以同时含有光聚合引发剂和增敏剂。增敏剂的添加量也优选与感光性导电糊剂的情况相同。
与感光性导电糊剂同样地，感光性遮光糊剂可以含有羧酸或其酸酐。羧酸或其酸酐的添加量优选与感光性导电糊剂的情况相同。
与感光性导电糊剂同样地，感光性遮光糊剂为了调整其粘度而含有溶剂。
与感光性导电糊剂同样地，感光性遮光糊剂若在不损害其期望特性的范围内也可以含有增塑剂、流平剂、表面活性剂、硅烷偶联剂、消泡剂或稳定剂等。
利用丝网印刷进行涂布时的感光性遮光糊剂的粘度优选为5,000~150,000mpa·s的范围。使用旋转器进行旋转涂布时的感光性遮光糊剂的粘度优选为10~10,000mpa·s的范围，利用模涂机进行涂布时的感光性遮光糊剂的粘度优选为50~50,000mpa·s的范围。需要说明的是，与感光性导电糊剂同样地，感光性遮光糊剂的粘度可以使用布鲁克菲尔德粘度计以3rpm测定来进行测定。
本发明的第二方式的接触式传感器用构件的制造方法中，在遮光涂布膜形成工序中，在基板的显示区域上涂布感光性遮光糊剂而得到遮光涂布膜，但在其后的导电涂布膜形成工序中，在遮光涂布膜上涂布感光性导电糊剂而得到导电涂布膜，除此之外，与第一方式的制造方法的导电涂布膜形成工序相同。另外，在遮光层和导电图案形成工序中，由上述遮光涂布膜得到遮光层，除此之外，与第一方式的制造方法的导电图案形成工序相同。需要说明的是，在基板的显示区域上形成的导电图案具备源自遮光涂布膜的遮光层与源自导电涂布膜的导电图案的层叠结构。
另外，遮光涂布膜不需要在显示区域上的整面上形成，可以仅在一部分显示区域上形成。另外，根据需要，也可以在基板的装饰区域上形成遮光涂布膜，在基板的装饰区域上形成遮光层与导电图案的层叠结构。
本发明的接触式传感器用构件的制造方法所具备的导电涂布膜形成工序中，为了制造工艺的简便性，优选在显示区域上和装饰区域上一并涂布相同的感光性导电糊剂。另一方面，根据需要，也可以使涂布在显示区域上的感光性导电糊剂和涂布在装饰区域上的感光性导电糊剂不相同。此时，可以使涂布在显示区域上的感光性导电糊剂中含有的导电性颗粒的体积平均粒径与涂布在装饰区域上的感光性导电糊剂中含有的导电性颗粒的体积平均粒径不相同，此时，前者优选为0.05~0.5μm、后者优选为0.5~3μm。
另一方面，使用不同的感光性导电糊剂时，各自含有的感光性有机化合物和热固性化合物的结构、尤其是热固性化合物的结构优选类似，各自含有的热固性化合物更优选实质上是相同的组成，各自含有的感光性有机化合物和热固性化合物进一步优选实质上是相同的组成。作为感光性有机化合物和热固性化合物，通过选择彼此共通的组成，形成显示区域上的导电图案与形成在装饰区域上的导电图案的边界的亲和性变得良好，进而能够消除由导电图案形成工序中的加热或照射氙闪光管的光时的收缩率差异导致的不良情况。
为了进一步提高上述那样的边界亲和性、且彻底地抑制由加热或照射氙闪光管的光时的收缩率差异导致的不良情况，显示区域上的导电涂布膜与装饰区域上的导电涂布膜的组成进一步优选相同。若使两者的组成相同，则无须使用不同的感光性导电糊剂，能够在显示区域上和装饰区域上一并涂布感光性导电糊剂，因此如上所述也能够提高制造工艺的简便性。
本发明的制造方法中使用的感光性导电糊剂和感光性遮光糊剂例如可以使用三辊磨、球磨机或行星式球磨机等分散机或混炼机进行制造。
本发明的接触式传感器用构件是具备被区分成显示区域和装饰区域的基板、在上述显示区域上形成的线宽为2~6μm的导电图案、以及在上述装饰区域上形成的线宽为7~100μm的导电图案，且上述线宽为2~6μm的导电图案与上述线宽为7~100μm的导电图案的组成相同的接触式传感器用构件。另外，本发明的接触式传感器用构件可以在上述显示区域与上述线宽为2~6μm的导电图案之间具有遮光层。本发明的接触式传感器用构件可利用本发明的接触式传感器用构件的制造方法来获得。
通过本发明的制造方法制造的接触式传感器用构件可适合地用作接触式传感器中具备的敏感电极及其周边的导电布线。作为触控面板的方式，可列举出例如电阻膜式、光学式、电磁感应式或静电容量式，静电容量式的触控面板中更适合使用通过本发明的制造方法制造的接触式传感器用构件。
实施例
以下，列举出实施例来进一步详细说明本发明，但本发明不限定于它们。
各实施例中使用的材料如下所示。
[感光性有机化合物]
（合成例1：感光性有机化合物（1））
共聚比率（质量基准）：丙烯酸乙酯（以下记作“ea”）/甲基丙烯酸2-乙基己酯（以下记作“2-ehma”）/苯乙烯（以下记作“st”）/甲基丙烯酸缩水甘油酯（以下记作“gma”）/丙烯酸（以下记作“aa”）=20/40/20/5/15
在氮气气氛的反应容器中投入150g的dmea，使用油浴升温至80℃。耗费1小时向其中滴加由20g的ea、40g的2-ehma、20g的st、15g的aa、0.8g的2,2’-偶氮双异丁腈和10g的二乙二醇单乙醚乙酸酯构成的混合物。滴加结束后，进一步进行6小时的聚合反应。其后，添加1g对苯二酚单甲醚，使聚合反应终止。接着，耗费0.5小时滴加由5g的gma、1g三乙基苄基氯化铵和10g的dmea构成的混合物。滴加结束后，进一步进行2小时的加成反应。将所得反应溶液用甲醇精制来去除未反应杂质，进一步进行24小时的真空干燥，从而得到感光性有机化合物（1）。所得感光性有机化合物（1）的酸值为103mgkoh/g。
（合成例2：感光性有机化合物（2））
共聚比率（质量基准）：三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯（irr214-k；ダイセル·サイテック公司制）/改性双酚a二丙烯酸酯（ebecryl150；ダイセル·サイテック公司制）/st/aa）=25/40/20/15
在氮气气氛的反应容器中投入150g的dmea，使用油浴升温至80℃。耗费1小时向其中滴加由25g的irr214-k、40g的ebecryl150、20g的st、15g的aa、0.8g的2,2’-偶氮双异丁腈和10g的dmea构成的混合物。滴加结束后，进一步进行6小时的聚合反应。其后，添加1g对苯二酚单甲醚，使聚合反应终止。将所得反应溶液用甲醇精制来去除未反应杂质，进一步进行24小时的真空干燥，从而得到感光性有机化合物（2）。所得感光性有机化合物（2）的酸值为89mgkoh/g。
[热固性化合物]
环氧树脂（1）（adekaresinep-4530（环氧当量190）；adekacorporation制）
环氧树脂（2）（jer1001（环氧当量475）；三菱化学株式会社制）
酚醛树脂（psf-2808；群荣化学工业株式会社制）。
[单体]
lightacrylatebp-4ea（共荣社化学株式会社制）
lightacrylatetmp-a（共荣社化学株式会社制）。
[颜料]
co3o4颗粒（正同化学工业株式会社制）。
[导电性颗粒]
体积平均粒径为1μm的ag颗粒
体积平均粒径为0.3μm的ag颗粒
体积平均粒径为0.05μm的ag颗粒。
[光聚合引发剂]
n-1919（adekacorporation制）。
[溶剂]
二乙二醇单乙醚乙酸酯：dmea（东京化成工业株式会社制）。
[装饰用黑色墨]
mrx-hf（帝国墨制造株式会社制）。
如下那样地准备各感光性导电糊剂和感光性遮光糊剂。
（感光性导电糊剂a）
在100ml清洁瓶中投入17.5g感光性有机化合物（2）、0.5g的n-1919、1.5g环氧树脂（1）、3.5g的lightacrylatebp-4ea（共荣社化学株式会社制）和19.0g的dmea，利用“あわとり錬太郎”（注册商标）（are-310；thinkycorporation制）进行混合，从而得到42.0g树脂溶液。将所得42.0g树脂溶液与62.3g的体积平均粒径为0.3μm的ag颗粒进行混合，使用三辊磨（exaktm-50；exakt公司制）进行混炼后，进而再次添加7g的dmea并混合，从而得到111g感光性导电糊剂a。感光性导电糊剂a的粘度为10,000mpa·s。
（感光性导电糊剂b）
将ag颗粒变更为体积平均粒径为1μm的颗粒，将环氧树脂变更为（2），除此之外，利用与感光性导电糊剂a相同的方法得到111g感光性导电糊剂b。感光性导电糊剂b的粘度为13,000mpa·s。
（感光性导电糊剂c）
将环氧树脂（1）变更为酚醛树脂，除此之外，利用与感光性导电糊剂b相同的方法得到111g感光性导电糊剂c。感光性导电糊剂c的粘度为20,000mpa·s。
（感光性导电糊剂d）
将ag颗粒变更为体积平均粒径为0.05μm的颗粒，用lightacrylatetmp-a代替环氧树脂，除此之外，利用与感光性导电糊剂a相同的方法得到111g感光性导电糊剂d。感光性导电糊剂d的粘度为6,000mpa·s。
（感光性遮光糊剂）
在100ml清洁瓶中投入10.0g感光性有机化合物（1）、0.5g的n-1919、1.0g环氧树脂（2）和10.0g的dmea，利用“あわとり錬太郎”（注册商标）（are-310；thinkycorporation制）进行混合，从而得到21.5g树脂溶液。将所得21.5g树脂溶液与2.0g的体积平均粒径为0.8μm的co3o4颗粒进行混合，使用三辊磨（exaktm-50；exakt公司制）进行混炼，从而得到23.5g感光性遮光糊剂。感光性遮光糊剂的粘度为12,000mpa·s。
（实施例1）
在玻璃基板的装饰区域上，通过丝网印刷而预先涂布装饰用黑色墨，在150℃的ir（远红外线）加热器炉内加热1小时，从而形成装饰层。在玻璃基板的显示区域上和装饰区域上，以干燥后的膜厚达到1.5μm的方式通过丝网印刷涂布感光性导电糊剂a，从而得到导电涂布膜。将所得导电涂布膜在90℃的ir加热炉内干燥10分钟。接着，隔着与显示区域对应的部分的开口部宽度为3μm、间距为140μm的网眼形状且与装饰区域对应的部分的开口部宽度为20μm的曝光掩膜，使用曝光装置（pem-6m；ユニオン光学株式会社制）以500mj/cm2（波长365nm换算）的曝光量进行曝光，用0.2质量%na2co3溶液进行30秒钟的浸渍显影，进一步用超纯水进行润洗，然后在140℃的ir加热炉内加热30分钟，从而得到导电图案。
针对所得导电图案，按照如下方法评价图案形成性和导电性。将评价结果示于表1。
＜图案形成性的评价方法＞
用光学显微镜观察所得导电图案，评价图案粗细线宽和图案的笔直性。关于图案粗细，优选的是，在显示区域上形成的导电图案的线宽为2~6μm，且在装饰区域上形成的导电图案的线宽为7~25μm。显示区域上的导电图案不足2μm时，在后续工序中容易发生断线，故不可取。另外，关于图案的笔直性，将导电图案的蛇行和目视下的断线均不存在的情况视作“良好”，若存在导电图案的蛇行或断线中的任一者则视作“可取”，若蛇行和断线均存在则视作“不可取”。
＜导电性的评价方法＞
用电阻测定用试验仪（2407a；bkプレシジョン公司制）端子将所得导电图案的端点与端点相连，评价导通性。端点至端点的长度为2cm。电阻值不足1000ω时示作“良好”、电阻值为1000~2000ω时视作“可取”，电阻值无法测定时视作“不可取”。
＜光反射的评价方法＞
针对所得显示区域上的导电图案，使用分光测色计（cm-2500d；コニカミノルタ公司制），从基板的背侧测定l＊值，l＊值不足36时视作“良好”、l＊值为36以上且60以下时视作“可取”、l＊值超过60时视作“不可取”。需要说明的是，l＊是亮度的指标，100表示纯白、0表示黑色。
＜透视的评价方法＞
使所得显示区域上的导电图案的基板距离眼部为30cm~50cm，在白色电灯下目视观察30秒钟。准备10名观察者。30秒钟内10人中的所有人均无法确认到导电图案则视作“良好”，5人以上的人无法确认到导电图案则视作“可取”，10人中的所有人均能够确认到导电图案则视作“不可取”。
（实施例2）
在玻璃基板的装饰区域上，与实施例1同样地形成装饰层。在玻璃基板上的显示区域上，以干燥后的膜厚达到2μm的方式通过丝网印刷来涂布感光性遮光糊剂b，从而得到遮光涂布膜。将所得遮光涂布膜在90℃的ir加热炉内干燥10分钟。进而，在遮光涂布膜上和装饰区域上，以干燥后的膜厚达到2μm的方式通过丝网印刷来涂布感光性导电糊剂b，从而得到导电涂布膜。所得导电涂布膜在90℃的ir炉内干燥5分钟。
接着，隔着与实施例1相同的曝光掩膜，使用曝光装置以800mj/cm2（波长365nm换算）的曝光量进行曝光，用0.2质量%na2co3溶液进行30秒钟的浸渍显影，用超纯水进行润洗后，在140℃的ir加热炉内加热30分钟，从而得到导电图案。针对所得导电图案，进行与实施例1相同的评价。将评价结果示于表1。
（实施例3）
除了使用感光性导电糊剂a之外，与实施例2同样操作，从而得到遮光涂布膜和导电涂布膜。
接着，隔着与实施例1相同的曝光掩膜，使用曝光装置以300mj/cm2的曝光量进行曝光，进一步掩蔽与曝光掩膜的装饰区域对应的部分，仅对显示区域以700mj/cm2的曝光量进行追加的曝光，用0.2质量%na2co3溶液进行30秒钟的浸渍显影，用超纯水进行润洗后，在140℃的ir加热炉内加热30分钟，从而得到导电图案。针对所得导电图案，进行与实施例1相同的评价。将评价结果示于表1。
（实施例4）
在玻璃基板的装饰区域上形成装饰层。以干燥后的膜厚均达到2μm的方式，通过丝网印刷分别在玻璃基板上的装饰区域上涂布感光性导电糊剂b、在显示区域上涂布感光性导电糊剂a，从而得到导电涂布膜。利用与实施例1相同的方法，对所得导电涂布膜进行干燥、曝光、显影、润洗和加热，从而得到导电图案。针对所得导电图案，进行与实施例1相同的评价。将评价结果示于表1。
（实施例5）
使用感光性导电糊剂d，以干燥后的膜厚达到1μm以下的方式，利用模涂机进行涂布，除此之外，与实施例1同样操作，从而得到导电涂布膜。将所得导电涂布膜的与显示区域对应的部分的开口部宽度变更为2μm，将加热温度变更为180℃，除此之外，利用与实施例1相同的方法进行干燥、曝光、显影、润洗，从而得到导电图案。针对所得导电图案，进行与实施例1相同的评价。将评价结果示于表1。
（实施例6）
分别使用pet薄膜基板来代替玻璃基板，使用感光性导电糊剂c来代替感光性导电糊剂a，除此之外，与实施例4同样操作，从而得到导电图案。针对所得导电图案，进行与实施例1相同的评价。将评价结果示于表1。
（实施例7）
除了在装饰区域上使用感光性导电糊剂a之外，与实施例2同样操作，从而得到遮光涂布膜和导电涂布膜。
接着，隔着与实施例1相同的曝光掩膜，使用曝光装置以300mj/cm2的曝光量进行曝光，进一步掩蔽与曝光掩膜的装饰区域对应的部分，仅对显示区域以700mj/cm2的曝光量进行追加的曝光，用0.2质量%na2co3溶液进行30秒钟的浸渍显影，用超纯水进行润洗，然后在能量为0.5j/cm2、照射时间为0.3msec的条件下照射氙闪光管的光，从而得到导电图案。针对所得导电图案，进行与实施例1相同的评价。将评价结果示于表1。
（实施例8）
分别使用pet薄膜基板来代替玻璃基板、使用感光性导电糊剂c来代替感光性导电糊剂a。用与实施例4相同的方法进行干燥、曝光、显影、润洗后，在能量为1.0j/cm2、照射时间为0.3msec的条件下照射氙闪光管的光，从而得到导电图案。针对所得导电图案，进行与实施例1相同的评价。将评价结果示于表1。
实施例1~8的导电图案均没有断线且笔直性优异，适合作为接触式传感器用构件。
产业利用性
本发明的制造方法可适合地用于形成接触式传感器用构件所具备的敏感电极以及成为导电布线的导电图案。