技术特征：
1.一种ar模型的获取方法，其特征在于，包括：基于目标对象的特征点建立目标对象的初始ar模型；根据在所述目标对象所在空间中识别的若干平面，确定候选平面；其中，所述候选平面与所述初始ar模型的底面平行；在所述候选平面中，确定与所述初始ar模型的底面最接近的候选平面；根据所确定的候选平面与所述初始ar模型，获取ar模型；其中，所述所确定的候选平面为所述ar模型的底面所在平面。2.根据权利要求1所述的ar模型的获取方法，其特征在于，所述根据在所述目标对象所在空间中识别的若干平面，确定候选平面，包括：对识别的若干平面进行拟合过滤，得到拟合过滤后的各平面；其中，所述拟合过滤包括：拼接满足预设拼接条件的平面；根据所述拟合过滤后的各平面，确定候选平面。3.根据权利要求2所述的ar模型的获取方法，其特征在于，所述对识别的若干平面进行拟合过滤，得到拟合过滤后的各平面，包括：根据识别的若干平面之间在高度方向上的距离关系和在水平方向上的位置关系，对识别的若干平面进行拟合过滤，得到拟合过滤后的各平面。4.根据权利要求3所述的ar模型的获取方法，其特征在于，所述预设拼接条件包括：所述距离关系为所述若干平面之间在高度方向上的距离小于或等于第一预设阈值，所述位置关系为在所述水平方向上存在重叠区域。5.根据权利要求1至4任一项所述的ar模型的获取方法，其特征在于，所述候选平面还满足预设的投影过滤条件，所述投影过滤条件包括：将所述初始ar模型的底面的边界点投影至所述候选平面后，所述底面的边界点均位于所述候选平面之内。6.根据权利要求1至4任一项所述的ar模型的获取方法，其特征在于，所述候选平面还满足预设的投影过滤条件，所述投影过滤条件包括：将所述初始ar模型的底面的边界点投影至所述候选平面后，所述底面的边界点位于以预设比例放大后的候选平面内。7.根据权利要求1至6任一项所述的ar模型的获取方法，其特征在于，所述候选平面还满足预设的距离过滤条件，所述距离过滤条件包括：所述候选平面与所述初始ar模型的底面在高度方向上的距离小于或等于第二预设阈值，所述第二预设阈值与所述目标对象的尺寸正相关。8.根据权利要求1至7任一项所述的ar模型的获取方法，其特征在于，所述在所述候选平面中，确定与所述初始ar模型的底面最接近的候选平面，包括：在所述候选平面中，将与所述初始ar模型的底面在高度方向上距离最近的候选平面确定为与所述初始ar模型的底面最接近的候选平面。9.根据权利要求5至8任一项所述的ar模型的获取方法，其特征在于，所述根据在所述目标对象所在空间中识别的若干平面，确定候选平面，包括：若在所述目标对象所在空间中识别的若干平面不满足预设的投影过滤条件和/或预设的距离过滤条件，则继续在所述目标对象所在空间中识别若干平面，直到识别出满足所述
投影过滤条件和/或所述距离过滤条件的平面，将满足所述投影过滤条件和/或所述距离过滤条件的平面，确定为候选平面。10.根据权利要求9所述的ar模型的获取方法，其特征在于，所述继续在所述目标对象所在空间中识别若干平面，直到识别出满足所述投影过滤条件和/或所述距离过滤条件的平面，包括：对继续在所述目标对象所在空间中识别的若干平面进行拟合过滤，得到继续识别的若干平面中拟合过滤后的各平面；其中，所述拟合过滤包括：拼接满足预设拼接条件的平面；根据所述继续识别的若干平面中拟合过滤后的各平面，识别出满足所述投影过滤条件和/或所述距离过滤条件的平面。11.根据权利要求1至10任一项所述的ar模型的获取方法，其特征在于，所述ar模型用于对所述目标对象的尺寸进行识别。12.一种电子设备，其特征在于，包括：至少一个处理器；以及，与所述至少一个处理器通信连接的存储器；其中，所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令，所述指令被所述至少一个处理器执行，以使所述至少一个处理器能够执行如权利要求1至11中任一所述的ar模型的获取方法。13.一种计算机可读存储介质，存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至11中任一所述的ar模型的获取方法。
技术总结
本发明实施例涉及计算机软件技术领域，公开了一种AR模型的获取方法、电子设备和可读存储介质。AR模型的获取方法包括：基于目标对象的特征点建立目标对象的初始AR模型；根据在所述目标对象所在空间中识别的若干平面，确定候选平面；其中，所述候选平面与所述初始AR模型的底面平行；在所述候选平面中，确定与所述初始AR模型的底面最接近的候选平面；根据所确定的候选平面与所述初始AR模型，获取AR模型；其中，所述所确定的候选平面为所述AR模型的底面所在平面，使得可以准确的识别出目标对象的底面，获取准确的AR模型，以准确的表示真实的目标对象。标对象。标对象。
技术研发人员：李杰
受保护的技术使用者：北京芙睿特无限科技发展有限公司
技术研发日：2021.07.29
技术公布日：2023/2/2