图形处理方法、制造图形处理系统的方法和存储介质与流程

文档序号:35248011发布日期:2023-08-25 19:54阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种图形处理方法,所述图形处理方法包括:

2.根据权利要求1所述的图形处理方法,所述方法还包括:为了后续渲染,访问所述存储器以读取与不与至少所述预定数量的图元相关联的图块相关联的数据,并且响应于所述访问返回预定义值。

3.根据权利要求1所述的图形处理方法,所述方法还包括:不输出针对不与至少预定数量的图元相关联的图块的渲染数据。

4.根据权利要求1所述的图形处理方法,所述方法还包括:识别与所述场景在第二视图中可见的部分相关联的所述图块的子集,其中,所述渲染步骤包括渲染在所述子集中被识别并且与至少所述预定数量的图元相关联的所述图块中的每个图块。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的图形处理方法,其中,所述渲染数据是用于纹理的数据。

6.根据权利要求5所述的图形处理方法,其中,在所述场景的后续渲染中将所述纹理应用于所述场景。

7.根据权利要求6所述的图形处理方法,其中,所述纹理被应用于所述场景的第二视图或所述第二视图,所述第二视图不同于所述第一视图。

8.根据权利要求5所述的图形处理方法,其中,所述纹理是阴影图。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的图形处理方法,其中,所述预定数量等于或大于1。

10.一种非暂时性计算机可读存储介质,所述非暂时性计算机可读存储介质上存储有计算机可读指令,当所述计算机可读指令在计算机系统上执行时,使得所述计算机系统执行根据权利要求1至9中的任一项所述的方法。

11.一种非暂时性计算机可读存储介质,所述非暂时性计算机可读存储介质上存储有集成电路定义数据集,当所述集成电路定义数据集在集成电路制造系统中被处理时,将所述集成电路制造系统配置成制造图形处理系统,所述图形处理系统包括:

12.一种在集成电路制造系统中制造图形处理系统的方法,所述图形处理系统包括:


技术总结
图形处理方法、制造图形处理系统的方法和存储介质。一种图形处理系统,该系统包括:图块化单元,其被配置为将场景的第一视图图块化为多个图块并且生成与每个图块相关联的图元的列表;处理单元,其被配置为根据所述列表识别分别与至少预定数量的图元相关联的所述图块的第一子集;以及渲染单元,其被配置为将所识别的图块中的每个渲染为渲染目标。

技术研发人员:M·伍斯特,S·史密斯,S·芬尼
受保护的技术使用者:想象技术有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/14
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