一种自组装纳米卷状结构的制备方法及其模拟验证方法

文档序号:8282497阅读:871来源:国知局
一种自组装纳米卷状结构的制备方法及其模拟验证方法
【技术领域】
[0001]本发明属于纳米材料技术领域,具体地说,涉及一种基于缺陷诱导的制备卷状纳米结构的方法。
【背景技术】
[0002]表面活性剂、聚合物、纳米颗粒等分子或基元可自发地聚集、组装,形成形貌丰富、高度有序的纳米组装结构,这被称为“自组装”现象。凭借分子间的相互作用力,不需要人工干预,分子或基元即可自发组装成特定形貌的纳米结构,进而在药物投递、仿生材料、油田开发等众多领域得以应用。自组装已经成为物理、化学、材料、生物等多学科交叉的前沿课题,得到了科学界广泛关注。
[0003]自组装纳米结构的应用价值,主要取决于其组装形貌。对表面活性剂等基元的自组装行为进行调控,进而得到各种形貌的纳米结构,是自组装研究中的关键问题。自组装形貌调控方法有很多,如改变基元的形状、溶液浓度等。除此之外,研究发现,将自组装基元置于受限空间(如孔道、狭缝)中,可得到异于纯液相中的复杂的自组装纳米结构,已经成为一种高效的调控自组装形貌的方法。
[0004]在已有的研究中,利用空间受限作用,已经调控出一些特别的纳米结构,如双螺旋结构、洋葱状结构、纳米管结构等。利用这些自组装纳米结构,已经制备出多种形式的纳米材料,进而在各领域得到了应用。尽管如此,尚有其他形貌的自组装纳米结构有待发现,“纳米卷”就是其中之一。目前,利用单层石墨烯可以制备出石墨烯卷状结构,具有良好的储氢前景。但是,基于分子自组装的卷状纳米结构还尚未见报道。寻找有效的方法,调控表面活性剂等基元的自组装行为,得到卷状纳米结构,在催化、表面处理、功能纳米材料的制备等众多领域有着重要的意义。
[0005]本发明设计了一种调控自组装以得到卷状纳米结构的方法,并采用计算机分子动力学模拟对该方法的可行性进行了验证。通过该方法,可得到多种形状的卷状纳米结构,对于卷状纳米结构的实验制备有重要的指导意义。

【发明内容】

[0006]针对上述技术问题,本发明提供了一种自组装纳米卷状结构的制备方法,首先构建一个带有缺陷的受限孔道,然后将组装基元置于受限孔道中,由受限孔道的诱导作用,所述组装基元首先形成第一层自组装结构,所述第一层自组装结构的首端与尾端不相接;由第一层自组装结构的诱导作用,形成第二层自组装结构,所述第二层自组装结构的首端与第一层自组装结构的尾端连接;逐渐形成多层自组装结构,形成完整的卷状自组装纳米结构。
[0007]进一步的,所述受限孔道是采用平行排列的碳纳米管构建而成。
[0008]进一步的,所述组装基元为嵌段共聚物、双面神纳米颗粒或表面活性剂。
[0009]进一步的,所述受限孔道为圆形、椭圆形或六角形孔道。
[0010]进一步的,所述缺陷长度为3.3-3.6 nm。
[0011]本发明还提供了一种自组装纳米卷状结构的制备方法的模拟方法,具体为:
(1)在MaterialsStud1软件中分别构建粗粒化受限孔道模型及粗粒化组装基元模型,进行粗粒化分子动力学模拟;
(2)将随机分布的组装基元置于受限孔道中,构建初始模型,对初始模型进行几何优化;
(3)对优化后的模型进行分子动力学模拟,形成完整的卷状自组装纳米结构。
[0012]进一步的,所述步骤(I)中粗粒化分子动力学模拟是运用Mesocite模块,模拟力场为Shinoda力场。
[0013]进一步的,所述步骤(2)中对初始模型进行几何优化是采用Shinoda力场,Steepest Descent 及 Smart 算法。
[0014]进一步的,所述步骤(3)中分子动力学模拟采用NVT系综,温度为298 K,时间步长为10 fs,采用Berendsen控温方法,每个模型分别模拟30 ns。
[0015]与现有技术相比,本发明的优点和积极效果是:通过计算机模拟的方法,证实了本发明中自组装纳米卷状结构的制备方法的可行性。通过受限孔道中的缺陷诱导,可以制备出卷状自组装纳米结构。将缺陷引入到不同形状的受限孔道中,可以得到多种形态的卷状自组装纳米结构,可以为纳米材料的制备和生产提供有力指导。
【附图说明】
[0016]图1.本发明的自组装纳米卷状结构的形成过程示意图;
图2.本发明实施例中粗粒化模型构建图;
图3.本发明中受限孔道构建圆形;
图4.本发明中根据受限孔道构建圆形所形成的卷状自组装纳米结构。
【具体实施方式】
[0017]下面结合【具体实施方式】对本发明的技术方案作进一步详细的说明。
[0018]本发明是基于空间受限作用,设计了一种因缺陷诱导形成自组装纳米卷状结构的制备方法。其实施方案如下:
(I)构建一个带有缺陷3的受限孔道1,如图1a所示,将具有较高浓度的组装基元2置于该受限孔道中;所述组装基元为嵌段共聚物、双面神纳米颗粒或表面活性剂。
[0019](2)由于受限孔道的诱导作用,在靠近孔道的地方会首先形成第一层自组装结构4,如图1b中虚线所示;由于缺陷的存在,第一层自组装结构的首端与尾端不能相接,而存在一个间隙,该间隙的长度与孔道缺陷长度一致。
[0020](3)在第一层自组装结构的诱导作用下,会逐渐形成第二层自组装结构;同样地,由于缺陷的存在,第二层自组装结构的首端与尾端不相接;但是,调整缺陷长度为某一特定数值,第二层的首端与第一层的尾端会连接起来,形成完整的卷状结构,如图1c所示。
[0021](4)随着时间的推移,自组装过程由外到内逐渐进行,形成多层自组装结构,而且相邻两层之间首尾相接,最终成为完整的纳米卷状结构,如图1d所示。
[0022](5)将类似的缺陷引入到其他形状的受限孔道中,便可得到其他形状的纳米卷状结构,所述受限孔道的形状可以为圆形、椭圆形或六角形孔道等等,如图3所示。
[0023]本发明还通过计算机分子动力学模拟的方法,对上述自组装纳米卷状结构的制备方法进行模拟,具体为:
(1)在MaterialsStud1软件中分别构建粗粒化受限孔道模型及粗粒化组装基元模型,运用Mesocite模块进行粗粒化分子动力学模拟,模拟力场为Shinoda力场;
(2)将随机分布的组装基元置于受限孔道中,构建初始模型,对初始模型进行几何优化,采用Shinoda力场,Steepest Descent及Smart算法,使其能量趋于稳定;
(3)对优化后的模型进行分子动力学模拟
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