一种触控基板和一种触控显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及触控技术领域，尤其涉及一种触控基板和一种触控显示装置。
【背景技术】
[0002]OGS (one glass solut1n)技术是指在保护玻璃上直接形成ITO导电膜及传感器的技术，一块玻璃能够同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用，OGS技术处理后的玻璃经切割后得到OGS触摸屏。OGS技术较传统的G/G(glass/glass)触控技术具有很多优势:可以节省一块玻璃基板、制作上节省一道对盒工序，从而有利于降低生产成本、提高良率，得到的触摸屏具有轻、薄、透光性好等特点。
[0003]然而，在现有的OGS制程中，用作走线屏蔽以及装饰功能的BM(Black Matrix，黑矩阵)层必须有足够大的光密度(0D，optical density，即吸光度)，来到达完全的遮光效果。一些厂家推出了非黑色(如白色)边框，但这些非黑色(如白色)边框都是采用油墨材料，这与目前产线采用的光刻制程不同，增加了投入。而如果使用非黑色(如白色)光阻材料，虽能够与目前产线采用的光刻制程相同，但由于非黑色(如白色)光阻的OD值比黑色光阻的OD值小，为了增加OD值来达到完全的遮光效果，往往都需要增加一薄层黑色光阻层。这一黑色光阻层的反射率高，则必须提高非黑色(如白色)光阻层的厚度，才能使非黑色(如白色)的边框看起来不会发青，而这样的厚度(profile)易使ITO断线，降低良率，如图1所示。图1的截面平行于ITO延伸方向经过一个ΙΤ0，且截面通过触控区，其中I为衬底，2为非黑色光阻层，3为黑色光阻层，4为ΙΤ0(透明导电玻璃)。
【发明内容】
[0004]本发明提供一种触控基板和一种触控显示装置，以解决现有技术中由于非黑色光阻层厚度较高导致的ITO断线、良率降低的技术问题。
[0005]为解决上述技术问题，本发明首先提供一种触控基板，所述触控基板包括触控区和围绕所述触控区的边框区，所述边框区设置有遮蔽层，所述遮蔽层包括非黑色光阻层、黑色光阻层及位于二者之间的降反层，所述降反层用于降低所述黑色光阻层的反射率。
[0006]进一步地，所述降反层的厚度被设置为使得在所述降反层的上下表面反射光的光程差为半波长的奇数倍。
[0007]进一步地，所述降反层的厚度d满足:
[0008]在所述降反层的上下表面反射光的光程差Λ S与入射光波长λ的关系为:
[0009]AS = 2nd = (2m-1) λ/2，
[0010]其中η为光线经过所述降反层的折射率，m为任意正整数。
[0011]进一步地，所述降反层的厚度处于0.1微米到0.2微米之间。
[0012]进一步地，所述降反层为透明的氮化硅、氧化硅或氮氧化硅。
[0013]进一步地，所述非黑色光阻层为树脂。
[0014]进一步地，所述非黑色光阻层的厚度处于8微米到12微米之间。
[0015]进一步地，所述触控基板还包括衬底和保护层，所述非黑色光阻层、降反层和黑色光阻层依次设置于所述衬底上，所述保护层覆盖在所述黑色光阻层上。
[0016]进一步地，所述保护层的材料为亚克力树脂、氮化硅、氧化硅或氮氧化硅中的一种或多种。
[0017]另一方面，本发明还提供一种触控显示装置，包括对盒的如上任一项所述的触控基板和显不基板。
[0018]可见，在本发明提供的一种触控基板和一种触控显示装置中，能够通过降反层的制作，达到了降低黑色光阻层反射率的技术效果，从而解决了因非黑色光阻层太厚导致的ITO或金属导线易断线的技术问题。
【附图说明】
[0019]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1是现有技术中的触控基板剖面图，其截面平行于ITO延伸方向经过一个ΙΤ0，且截面通过触控区；
[0021]图2是本发明实施例的触控基板的截面示意图，该截面垂直于ITO延伸方向并通过触控区；
[0022]图3是本发明实施例的入射光经降反层的反射光路图；
[0023]图4是本发明实施例的触控基板的另一截面图，该截面平行于ITO延伸方向并经过一个ΙΤ0，且通过触控区。
【具体实施方式】
[0024]为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0025]本发明实施例首先提供一种触控基板，参见图2，其截面垂直于ITO延伸方向并通过触控区，其中触控基板包括触控区6和围绕触控区6的边框区7，边框区7设置有遮蔽层8，遮蔽层8包括非黑色光阻层2、黑色光阻层3及位于二者之间的降反层5，降反层5用于降低黑色光阻层2的反射率。
[0026]在图2中，触控基板从俯视角度看，可以分为触控区6和边框区7，边框区7围绕在触控区6的周围。遮蔽层8设置在边框区，用于遮蔽导线及可能透射出来的光线。遮蔽层8包括非黑色光阻层2，以及为了达到必须的OD值而增加的一薄层黑色光阻层3和两者间为了降低黑色光阻层3的反射率(进而降低非黑色光阻层厚度从而减少ITO断线)而增加的一薄层降反层5。
[0027]在使用过程中，非黑色光阻层2最靠近外界光线的入射面，其次是降反层5，再次是薄层黑色光阻层3。即外界光线先经过非黑色光阻层2再经过降反层5，实现降低薄层黑色光阻层3的反射率的目的，从而实现非黑色光阻层3减薄。外界光