触控面板的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明系关于一种触控面板，特别是一种藉由雾化处理来调整光遮蔽率之触控面板。
【背景技术】
[0002]随着科技的发展，触控面板(Touch Panel)已广泛应用于各种消费电子装置，例如:智能型手机、平板计算机、相机、电子书、MP3播放器等携带式电子产品，或是应用于操作控制设备的显示屏幕。
[0003]于先前技术中，触控面板的非触控区域通常形成有环境灯感应(Ambient LightSensor, ALS)孔、红外线(Infrared Ray, IR)孔等,而开孔位置对应的非触控区域通常需要做成一半透区域，以满足环境灯孔或红外线孔的光遮蔽率的需求。传统的作法是通过在对应区域覆盖一层半透明的印刷油墨来形成半透区域，其中半透明油墨一般是通过非透明油墨与透明油墨调配成。
[0004]然而，由于油墨的使用时间有限，使得油墨可能会脱落。另外不同批次的油墨的光学性能之间存在差异，因此调配半透明油墨时，要做到精准地调配透明油墨与非透明油墨的参数难度很大。另外于印刷的制程中也可能会产生偏差，相应的半透区域的光遮蔽率也无法达到一致性。
[0005]因此，有必要发明一种新的触控面板，以解决先前技术的缺失。
【发明内容】
[0006]本发明之主要目的系在提供一种触控面板，其具有藉由雾化处理来调整光遮蔽率之效果。
[0007]为达成上述之目的，本发明之触控面板系用于触控式电子装置。触控面板包括第一基板。第一基板具有第一表面，其中第一表面经过雾化处理后形成至少一半透区域；其中至少一半透区域内具有第一半透结构，第一半透结构系藉由雾化区域及非雾化区域互相交错而成，以藉由调整雾化区域之面积来改变第一半透结构之光遮蔽率。
【附图说明】
[0008]图1A系本发明之半透区域用于触控式电子装置之示意图。
[0009]图1B系本发明之触控面板之第一实施方式之剖视图。
[0010]图2A系本发明之触控面板之半透结构之第一实施方式之示意图。
[0011]图2B系本发明之触控面板之半透结构之第二实施方式之示意图。
[0012]图2C系本发明之触控面板之半透结构之第三实施方式之示意图。
[0013]图2D系本发明之触控面板之半透结构之第四实施方式之示意图。
[0014]图2E系本发明之触控面板之半透结构之第五实施方式之示意图。
[0015]图3系本发明之触控面板之第二实施方式之剖视图。
[0016]图4系本发明之触控面板之第三实施方式之剖视图。
[0017]图5系本发明之触控面板之第四实施方式之剖视图。
[0018]图6系本发明之触控面板之第五实施方式之剖视图。
[0019]图7系本发明之触控面板之第六实施方式之剖视图。
【具体实施方式】
[0020]本说明书中所称的方位“上”及“下”，仅是用来表示相对的位置关系，对于本说明书的图式而言，触控面板的上方较远离使用者，而下方则较接近使用者。另外，本说明书中所称的“透明”及“不透明”，仅是用来表示物质透过光线的性质。于本发明而言，其中“透明”定义为使用者在正常使用触控面板过程中可以透过基板看到位于该基板后方的物体，而“不透明”定义为使用者在正常使用触控面板过程中透过基板看到位于该基板后方的物体。
[0021]请先同时参考图1A系本发明之半透区域用于触控式电子装置之示意图及图1B系本发明之触控面板之第一实施方式之剖视图。
[0022]本发明之触控面板1a可用于触控式电子装置I内，触控式电子装置I可为智能型手机或平板计算机，但本发明并不限于此。于本发明之第一实施方式中，触控面板1a可包括第一基板20。第一基板20为透明材料，其材料可为乙烯对苯二甲酸酯(PET)、聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙基(polyallylate)、聚碳酸酯(PC)、玻璃或其类似物。第一基板20可为硬质基板或可挠式基板。第一基板20可为平面形状、曲面形状或其他不规则形状。
[0023]第一基板20可具有第一表面21及第二表面22。在一较佳实施方式中第一表面21可为第一基板20的上表面,第二表面22可为第一基板20的下表面,两者互相平行。于第一实施方式中，第一基板20之第一表面21系先经过一雾化处理后，以形成至少一半透区域30。雾化处理之方式可包括激光处理、酸蚀刻处理、喷砂处理或表面研磨处理，但本发明并不限于此。藉此，半透区域30内会具有第一半透结构31，而第一半透结构31系藉由有雾化处理的雾化区域311及没有雾化处理的非雾化区域312互相交错而成。第一基板20的第一表面21在经过雾化处理后，相应的半透区域30因玻璃表面不平整而产生光的漫射现象，最终造成的云雾状或混浊的不透明外观。当雾化区域311所占面积越大时，半透区域30内所能通过的光就越少。因此触控面板1a系藉由调整雾化区域311之面积大小来改变第一半透结构31之光遮蔽率大小，从而调整半透区域30的光遮蔽率大小。
[0024]在一较佳实施方式中，该雾化处理的方式为喷砂处理。其主要处理工艺如下:
[0025]1、采用喷砂机，该喷砂机可以为压送式喷砂(喷丸)机构；
[0026]2、利用喷砂机内空气的高速流动产生高压作用，将喷砂机高压罐内的砂料(以水混合金刚砂)通过输砂管喷出，然后随压缩气流由喷枪嘴高速喷射到第一基板20的第一表面21上；
[0027]3、根据预先设定的喷砂结构，使第一表面21上的半透区域30的表面组织不断受到沙粒的冲击破坏，形成毛面，最终完成雾化区域311的处理。
[0028]于第一实施方式中，第一表面21经过雾化处理后，相应的雾化区域311是以复数个凹槽的形式呈现。从第一基板20的剖视图1B来看，该雾化区域311与该非雾化区域312在垂直于该第一基板20之第一表面21的方向上会交错形成波浪状。其中，该凹槽在平行于该第一基板20之第一表面21的方向上的面积主要是用来控制雾化区域311的面积，该面积越大，则在同等数量级的凹槽的情况下，雾化区域311的面积就越大，半透区域30的光遮蔽率就越高。在一较佳实施方式中该不透明凹槽的面积可为:10平方纳米到100平方纳米，但本发明并不以此规格为限。该面积可以根据雾化处理方式的精度以及半透区域的光遮蔽率需求进行调整。值得注意的是，该凹槽在垂直于该第一基板20之第一表面21的方向上的高度为雾化处理方法(如激光处理)所导致的，其本身对雾化区域的光遮蔽率是不起作用的，相反如果凹槽高度过大，在某些情况下对第一基板20的强度会造成损伤。因此，在生产实践中，可以通过控制雾化处理方法(如激光的能量大小，激光的波长)来实现对该高度的控制，在一较佳实施方式中该不透明凹槽的高度可为:10平方纳米以下，但本发明并不以此规格为限。
[0029]于图1A中，触控式电子装置I可具有两个半透区域30，但本发明并不限于此。半透区域30的数量是由有环境灯感应(Ambient Light Sensor, ALS)孔、红外线(InfraredRay, IR)孔等功能孔的数量来决定。本发明并不限制每一个半透区域30之光遮蔽率是否相同，每一个半透区域30之光遮蔽率可根据功能孔不同的光遮蔽率需求而做调整，亦即调整每一半透区域30内雾化区域311之面积大小。
[0030]藉由上述的雾化区域311与非雾化区域312的排列，本发明可以具有不同实施方式的第一半透结构31。就如同图2A所示，接着请参考图2A系本发明之触控面板之半透结构之第一实施方式之不意图。
[0031]于第一实施方式中，该雾化区域311与该非雾化区域312在该第一基板20之该第一表面21上系互相交错排列成一螺旋状的半透结构31a，其中该雾化区域311为一连续之不透明结构，该非雾化区域312为一连续之透明结构。
[0032]接着请参考图2B系本发明之触控面板之半透结构之第二实施方式之示意图。
[0033]此外，于第二实施方式中，该雾化区域311与该非雾化区域312在该第一基板20之该第一表面21上系互相交错排列成多个同心圆的半透结构31b，其中该雾化区域311为一不连续之不透明结构，该非雾化区域312为一不连续之透明结构。
[0034]接着请参考图2C系本发明之触控面板之半透结构之第三实施方式之示意图。
[0035]于第三实施方式中，半透结构31c系同样为多个同心圆结构，但每个同心圆都是由部份雾化区域311的不透明结构及部份非雾化区域312的透明结构组成。
[0036]接着请参考图2D系本发明之触控面板之半透结构之第四实施方式之示意图。
[0037]于第四实施方式中，半透结构31d可具有点状之雾化区域311，而非雾化区域312则环绕于雾化区域311的四周。如此一来，即可藉由雾化区域311的大小及分布密度来调整光遮蔽率。
[0038]接着请参考图2E系本发明之触控面板之半透结构之第五实施方式之示意图。
[0039]于第五实施方式中，因此半透结构31e的具有点状之非雾化区域312，而雾化区域311则环绕于非雾化区域312的四周，如此一来，即可藉由雾化区域311的大小及分布密度来调整光遮蔽率。。
[0040]藉由上述的半透结构31a到31e，皆可得到触控面板1a上半透区域30所需的光遮蔽率。但本发明并不限定于上述的半透结构31a到31e，