功率兼容性更高的溅射靶的制作方法与工艺

技术总结
本发明涉及板定中系统，包括带有支座的板，其中该板在支座中在室温和较高温度下都与所述板和支座的热胀无关地被定中，并且该板能在支座中在较高温度下自由膨胀。本发明尤其涉及具有框形靶架的靶，其非常适合用作在用于高功率脉冲磁控溅射的涂覆源中。

技术研发人员：西格弗里德·克拉斯尼策尔;约格·哈克曼;耶格·科什保尔
受保护的技术使用者：欧瑞康表面处理解决方案股份公司特鲁巴赫
文档号码：201480026375
技术研发日：2014.04.07
技术公布日：2017.04.19