技术总结
本发明提供即使在基板上产生了较大的翘曲时也能将基板真空吸附于载置台的基板吸附辅助构件和基板输送装置。吸附辅助臂包括盖构件，该盖构件具有：设有气体喷出口并覆盖被载置于载物台的晶圆的上方的上方覆盖壁部和覆盖晶圆的侧方的侧方围绕壁部。在载置于载物台的晶圆的外周部自载物台浮起的情况下，以在侧方围绕壁部的下表面与载物台的上表面间形成比晶圆的最大翘曲量窄的间隙的方式配置盖构件，在侧方围绕壁部的内周面与晶圆的外周侧面间的间隙窄于晶圆的最上端与上方覆盖壁部的下表面间的间隙的状态下自气体喷出口朝向晶圆吹送气体，而提高晶圆上的静压和晶圆的侧方的动压并降低晶圆的外周部的下侧的静压，对晶圆向载物台的真空吸附进行辅助。
技术研发人员：带金正;
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社;
文档号码：201510994386
技术研发日：2015.12.25
技术公布日：2016.07.06