1.一种大功率激光高亮度光谱合成系统，其特征在于，包括：N块平面反射镜、一个会聚透镜和一个光电位置探测器；所述平面反射镜包括基底，所述基底的两面分别为反射面和透射面；所述平面反射镜为Mi，i＝1,2,……N，波长为λ1的光束入射到平面反射镜M1的反射面上，经过平面反射镜M1反射后，入射到平面反射镜M2的反射面上，经过M2反射后，入射到平面反射镜M3的反射面上，以此类推所述波长为λ1的光束λ1一直顺次反射到平面反射镜MN的反射面上，经过平面反射镜MN反射后输出；波长为λi的光束入射到平面反射镜Mi-1的透射面上，i＝2,……N，穿过平面反射镜Mi-1后，入射到平面反射镜Mi的反射面上，经过平面反射镜Mi反射后，入射到平面反射镜Mi+1的反射面上，以此类推所述波长为λi的光束一直顺次反射到平面反射镜MN的反射面上，经过平面反射镜MN反射后输出；穿过平面反射镜MN的N束弱激光经过所述会聚透镜后，聚焦在所述光电位置探测器上，形成N个光点；调节N路入射激光的光轴，使所述光电位置探测器上的N个光点重合在一起，以实现光谱合成；
所述平面反射镜Mi(i＝1,2,……N-1)反射面，对光束λ1、λ2、……、λi的光谱反射率>99.99％，对光束λi+1的光谱透射率>99.9％；
所述平面反射镜Mi(i＝1,2,……N-1)透射面，对光束λi+1的光谱透射率>99.9％；
所述平面反射镜MN反射面，对光束λ1、λ2、……、λN的光谱反射率为99.9％；
所述平面反射镜MN透射面，对光束λ1、λ2、……、λN的光谱透射率>99.9％；
所述光束入射平面反射镜的角度小于20°；
所述平面反射镜Mi(i＝1,2,……N-1)基底的反射面上镀制有边通型膜系结构的高反膜，所述平面反射镜Mi(i＝1,2,……N-1)基底的透射面上镀制有增透膜。
2.根据权利要求1所述的大功率激光高亮度光谱合成系统，其特征在于，所述平面反射镜Mi的反射面对光束λ1、λ2、……、λi高反，对光束λi+1高透，i＝1,2,……N-1；所述平面反射镜Mi的透射面对光束λi+1高透，i＝1,2,……N-1；所述平面反射镜MN的反射面对光束λ1、λ2、……、λN高反；所述平面反射镜MN的透射面对光束λ1、λ2、……、λN高透。
3.根据权利要求1或2所述的大功率激光高亮度光谱合成系统，其特征在于，所述平面反射镜采用吸收率小的材料作为基底。
4.根据权利要求1或2或3所述的大功率激光高亮度光谱合成系统，其特征在于，所述会聚透镜的通光口径大于光束的口径，共轴性<3arcmin。
5.根据权利要求1或2或3所述的大功率激光高亮度光谱合成系统，其特征在于，所述光电位置探测器采用PSD，为直线位移式，探测面积大于光束截面积。