本发明涉及发光二极管技术领域,尤其是指一种提高ITO电流扩展的发光二极管及其制作方法。
背景技术:
如图1所示,现有技术揭示的一种发光二极管结构,衬底10上由下至上依次外延缓冲层20、非故意掺杂层30、第一型导电层40、有源区50、电子阻挡层60、第二型导电层70、欧姆接触层80和ITO电流扩展层90。
通常,ITO电流扩展层90为单层的氧化铟锡材料,然而,随着对芯片功率提高需求越来越大,使得芯片面积越做越大,使得所述ITO电流扩展层的扩展效果有限。
为提高ITO电流扩展层的扩展效果,现有技术通常增加扩展电极来提高电流扩展效果,然而,扩展电极的引入,不仅增加了电极遮光面积,减少了一部分光的萃取,还增加了芯片工艺的复杂度及成本,且带来芯片可靠性变差的隐患。
技术实现要素:
本发明的目的在于提供一种提高ITO电流扩展的发光二极管及其制作方法,以有效提高ITO电流扩展效果而无须增加扩展电极,达到同样的电流扩展效果;减小电极的遮光面积,提高有源区光的萃取率;降低芯片工艺的复杂度及成本,提高芯片可靠性。
为达成上述目的,本发明的解决方案为:
一种提高ITO电流扩展的发光二极管,衬底上形成外延层,外延层上形成欧姆接触层,欧姆接触层上形成ITO电流扩展层,该ITO电流扩展层由低面阻值ITO层和高面阻值ITO层构成;欧姆接触层上生长底层低面阻值ITO层,在底层低面阻值ITO层上循环生长高面阻值ITO层、低面阻值ITO层,最顶层为低面阻值ITO层,最顶层的低面阻值ITO层连接P型电极;低面阻值ITO层和高面阻值ITO层由SnO2和In2O3构成,低面电阻ITO层中的SnO2重量比例为6%<SnO2<10%;高面电阻ITO层中的SnO2重量比例为2%<SnO2<6%。
进一步,衬底与外延层之间依次生成缓冲层和非故意掺杂层,缓冲层与衬底接触,而非故意掺杂层与外延层接触。
进一步,外延层中有源区与第二型导电层之间生长电子阻挡层。
进一步,单个周期的低面电阻ITO层的厚度大于高面电阻ITO层,且高面电阻ITO层的厚度≦3nm,单个循环低面电阻ITO层和高面电阻ITO层的厚度小于15nm。
一种提高ITO电流扩展的发光二极管制作方法,包括以下步骤:
一,在衬底上生长外延层,在外延层上蒸镀SiO2,蚀刻SiO2并保留电极区域的SiO2作为电流阻挡层;
二,在电流阻挡层上及其它区域的外延层上制作底层低面电阻ITO层;
三,在电流阻挡层周围设置分离槽,隔离电流阻挡层上的ITO层与外延层上的ITO层;
四,制作电极于电流阻挡层上的ITO层,且电极面积小于电流阻挡层面积;
五,高温退火合金,使得低面电阻ITO层与外延层形成欧姆接触,同时使得电流阻挡层上的低面电阻ITO层与电极形成欧姆接触;
六,在底层低面电阻ITO层上循坏生长若干层高/低面电阻ITO层,且与电极无连接;
七,最顶层为低面电阻ITO层,且最顶层低面电阻ITO层设置在电流阻挡层上的底层低面电阻ITO层上,与P型电极形成连接;低面阻值ITO层和高面阻值ITO层由SnO2和In2O3构成,低面电阻ITO层中的SnO2重量比例为6%<SnO2<10%;高面电阻ITO层中的SnO2重量比例为2%<SnO2<6%。
进一步,步骤六中,单个周期的低面电阻ITO层的厚度大于高面电阻ITO层,且高面电阻ITO层的厚度≦3nm,单个循环低面电阻ITO层和高面电阻ITO层的厚度小于15nm。
进一步,在衬底与外延层之间依次生长缓冲层和非故意掺杂层,缓冲层与衬底接触,而非故意掺杂层与外延层接触。
采用上述方案后,本发明采用面电阻不同的ITO材料间隔构成ITO电流扩展层:采用低面电阻ITO层与高面电阻ITO层交替构成。由于面电阻不同,从低面电阻向高面电阻传导有电流阻挡效果,使得电流在低面电阻ITO层能扩展得更远。经过多次的电流阻挡后,电流能多级扩散,流到离电极较远的边缘区域。有效提高ITO电流扩展效果而无须增加扩展电极,达到同样的电流扩展效果。减小了电极的遮光面积,提高了有源区光的萃取率;降低了芯片工艺的复杂度及成本,提高了芯片可靠性。
采用低面电阻ITO层与外延材料接触,以及采用低面电阻ITO层设置于顶层,与电极结构接触。有效增加ITO层与外延层和电极的欧姆接触,降低接触电阻,提高芯片的发光效率。
采用上述制作方法,可以避免ITO合金、电极合金因高温扩散导致的不同构成组分的ITO材料变成材料相同而失效。采用电极与ITO层的连接结构,使得电流有效扩展。
附图说明
图1是现有技术的结构示意图;
图2是本发明的结构示意图。
标号说明
衬底10 缓冲层20
非故意掺杂层30 第一型导电层40
有源区50 电子阻挡层60
第二型导电层70 欧姆接触层80
ITO电流扩展层90
衬底1 缓冲层2
非故意掺杂层3 非故意掺杂层3
外延层4 第一型导电层41
有源区42 电子阻挡层43
第二型导电层44 欧姆接触层5
ITO电流扩展层6 低面阻值ITO层61
高面阻值ITO层62。
具体实施方式
以下结合附图及具体实施例对本发明做详细描述。
请参阅图2所述,本发明揭示的一种提高ITO电流扩展的发光二极管,衬底1上形成缓冲层2,缓冲层2上形成非故意掺杂层3,非故意掺杂层3上形成外延层4,本实施例中,外延层4由形成于非故意掺杂层3上的第一型导电层41(GaN),形成于第一型导电层41(GaN)上的有源区42,形成于有源区42上的电子阻挡层43(AlGaN),及形成于电子阻挡层43上的第二型导电层44(GaN)构成。
第二型导电层44(GaN)上形成欧姆接触层5,欧姆接触层5上形成ITO电流扩展层6,该ITO电流扩展层6由低面阻值ITO层61和高面阻值ITO层62构成。欧姆接触层5上生长底层低面阻值ITO层61,在底层低面阻值ITO层61上循环生长高面阻值ITO层62、低面阻值ITO层61,最顶层为低面阻值ITO层61,最顶层的低面阻值ITO层61连接P型电极。
低面阻值ITO层61和高面阻值ITO层62由SnO2和In2O3构成,低面电阻ITO层61中的SnO2重量比例为6%<SnO2<10%;高面电阻ITO层61中的SnO2重量比例为2%<SnO2<6%。
单个周期的低面电阻ITO层61的厚度大于高面电阻ITO层62,且高面电阻ITO层62的厚度≦3nm,单个循环低面电阻ITO层61和高面电阻ITO层62的厚度小于15nm。
所述提高ITO电流扩展的发光二极管制作方法,包括以下步骤:
一,在衬底1上生长缓冲层2,缓冲层2上生长非故意掺杂层3,非故意掺杂层3上生长外延层4,本实施例中,外延层4由形成于非故意掺杂层3上的第一型导电层41(GaN),形成于第一型导电层41(GaN)上的有源区42,形成于有源区42上的电子阻挡层43(AlGaN),及形成于电子阻挡层43上的第二型导电层44(GaN)构成,在第二型导电层44上蒸镀SiO2,蚀刻SiO2并保留电极区域的SiO2作为电流阻挡层。
二,在电流阻挡层上及其它区域的外延层上制作底层低面电阻ITO层61。
三,在电流阻挡层周围设置分离槽,隔离电流阻挡层上的ITO层与外延层上的ITO层。
四,制作电极于电流阻挡层上的ITO层上,且电极面积小于电流阻挡层面积。
五,高温退火合金,使得低面电阻ITO层61与外延层4形成欧姆接触,形成欧姆接触层5,同时使得电流阻挡层上的低面电阻ITO层61与电极形成欧姆接触。
六,在底层低面电阻ITO层61上循坏生长若干层高/低面电阻ITO层(62、61),且与电极无连接。
七,最顶层为低面电阻ITO层61,且最顶层低面电阻ITO层61设置在电流阻挡层上的底层低面电阻ITO层61上,与P型电极形成连接;低面阻值ITO层61和高面阻值ITO层62由SnO2和In2O3构成,低面电阻ITO层61中的SnO2重量比例为6%<SnO2<10%;高面电阻ITO层62中的SnO2重量比例为2%<SnO2<6%。
单个周期的低面电阻ITO层61的厚度大于高面电阻ITO层62,且高面电阻ITO层62的厚度≦3nm,单个循环低面电阻ITO层61和高面电阻ITO层62的厚度小于15nm。
本发明采用面电阻不同的ITO材料间隔构成ITO电流扩展层:采用低面电阻ITO层与高面电阻ITO层交替构成。由于面电阻不同,从低面电阻向高面电阻传导有电流阻挡效果,使得电流在低面电阻ITO层能扩展得更远。经过多次的电流阻挡后,电流能多级扩散,流到离电极较远的边缘区域。有效提高ITO电流扩展效果而无须增加扩展电极,达到同样的电流扩展效果。减小了电极的遮光面积,提高了有源区光的萃取率;降低了芯片工艺的复杂度及成本,提高了芯片可靠性。
采用低面电阻ITO层与外延材料接触,以及采用低面电阻ITO层设置于顶层,与电极结构接触。有效增加ITO层与外延层和电极的欧姆接触,降低接触电阻,提高芯片的发光效率。
以上所述仅为本发明的优选实施例,并非对本案设计的限制,凡依本案的设计关键所做的等同变化,均落入本案的保护范围。