技术总结
本发明提供了一种测试有源区顶部圆滑度的方法，包括：测量浅沟槽隔离刻蚀完成后的有源区上部残留硬质掩模层的顶部线宽、硬质掩模层的残留厚度及硬质掩模层的倾斜角度，并计算出硬质掩模层底部线宽；测量浅沟槽隔离刻蚀完成后的有源区底部线宽、浅沟槽深度及有源区的倾斜角度，并计算出有源区顶部延伸长度；利用光学线宽测量仪测量并计算出有源区顶部延伸长度表征有源区顶部圆滑度；根据有源区顶部延伸长度定量调节后续浅沟槽刻蚀工艺参数。
技术研发人员：聂钰节;许进;唐在峰;任昱;吕煜坤
受保护的技术使用者：上海华力微电子有限公司
文档号码：201610790820
技术研发日：2016.08.31
技术公布日：2016.12.21