具有横向尺寸改变吸收缓冲层的电子部件及其生产方法与流程

文档序号:11586940阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本申请涉及具有横向尺寸改变吸收缓冲层的电子部件及其生产方法。公开电子部件(1)和包括一个或多个这样的部件(1)的电子设备(100)。电子部件(1)包括布置在柔性衬底(3)上的层的堆叠(4)。所述堆叠包括电活性部分(4a)和用以保护电活性部分免于划伤和磨损的保护层(11)。所述电活性部分包括底部电极层(5)和顶部电极层(9)以及位于所述电极之间的至少一个绝缘或半绝缘层(7)。该堆叠还包括布置在顶部电极层(9)和保护层(11)之间的缓冲层(13)。缓冲层(13)适于至少部分地吸收发生在保护层(11)内的横向尺寸改变(ΔL)并且因此防止所述尺寸改变(ΔL)转移到电活性部分(4a),因此减少了发生在电极之间的短路风险。

技术研发人员:C·卡尔松;欧勒·乔尼·哈格尔;雅各布·尼尔森;P·布罗姆斯
受保护的技术使用者:薄膜电子有限公司
技术研发日:2012.06.21
技术公布日:2017.08.11
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