垂直存储器件的制作方法

技术特征：

技术总结
一种垂直存储器件包括：基板；多个沟道，在基本上垂直于基板的顶表面的第一方向上延伸；多条栅线，围绕沟道当中的预定数量的沟道；多条公共布线，电连接到栅线；以及多条信号布线，经由公共布线电连接到栅线。栅线沿第一方向层叠并彼此间隔开。每条公共布线经由相应的接触电连接到栅线当中的在相同水平的相应栅线。

技术研发人员：崔昌玟;林周永;安洙珍
受保护的技术使用者：三星电子株式会社
技术研发日：2016.10.28
技术公布日：2017.08.04