1.一种OLED器件，包括基板以及依次叠层设置在所述基板上的阳极、空穴传输层、发光层、电子注入层和阴极；其特征在于，所述发光层包括夹设于所述空穴传输层和所述电子注入层之间的限位腔以及填充于所述限位腔内部的液体发光材料。
2.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，所述空穴传输层与所述电子注入层之间夹设有多个叠层设置的发光层。
3.根据权利要求1或2所述的OLED器件，其特征在于，所述阳极在所述阴极所在的平面上的投影与所述阴极相交并形成多个交点，所述限位腔在阴极所在的平面上的投影将所述多个交点纳于其间。
4.根据权利要求3所述的OLED器件，其特征在于，所述限位腔的深度为30nm～300nm。
5.根据权利要求1或2所述的OLED器件，其特征在于，所述液体发光材料为具有空穴传输性能或电子传输性能的支链材料。
6.根据权利要求5所述的OLED器件，其特征在于，所述液体发光材料为咔唑类材料、或三苯胺类材料。
7.根据权利要求1或2所述的OLED器件，其特征在于，所述阳极和所述阴极的材料均选自氧化铟锡、金属电极材料中的任意一种。
8.根据权利要求1或2所述的OLED器件，其特征在于，所述OLED器件还包括设置于所述阴极上的盖板。
9.一种如权利要求1-8任一所述的OLED器件的制作方法，其特征在于，包括步骤：
A、在基板上依次叠层制作阳极和空穴传输层；
B、在所述空穴传输层上制作限位腔；
C、向所述限位腔内注入液体发光材料，形成发光层；
D、在所述发光层上依次叠层制作电子注入层和阴极。
10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，在所述空穴传输层上采用掩膜版进行蒸镀来制作所述限位腔。