有机发光器件及其制造方法与流程

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种有机发光器件及其制造方法。

背景技术：

随着显示技术的不断发展，液晶显示器和有机发光二极管(OLED，Organic Light-Emitting Diode)显示器由于具有驱动电压低、能耗低、重量轻、厚度薄等优点，得到广泛的应用。

图1示出了现有的一种PMOLED(被动矩阵有机发光二极管，Passive Matrix Organic Light-Emitting Diode)的截面图，通常的制造方法是先涂覆诸如ITO等透明导电金属材料，然后再涂覆诸如Mo/Al/Mo等导电金属材料，再对Mo/Al/Mo等导电金属材料进行刻蚀以形成布线层12，再然后对ITO等透明导电金属材料进行刻蚀以形成透明电极层13，最后形成隔离柱14、有机发光层15和阴极层16。然而，这样需要进行两次刻蚀步骤以分别形成布线层和透明电极层，工艺步骤复杂，增加了有机发光器件的制造成本。

技术实现要素：

鉴于此，本发明实施例提供了一种有机发光器件及其制造方法，以解决现有技术中有机发光器件制造工艺复杂的问题。

根据第一方面，本发明实施例提供了一种有机发光器件，包括：基板；第一隔离柱，形成在所述基板上，所述第一隔离柱沿所述基板的第一方向设置；透明电极层，形成在所述第一隔离柱之间的所述基板和所述第一隔离柱上，且形成在所述基板上的所述透明电极层与形成在所述第一隔离柱上的所述透明电极层相互隔离；有机发光层，形成在所述基板上的所述透明电极层上；阴极层，形成在所述有机发光层上。

可选地，所述有机发光器件还包括：第二隔离柱，形成在所述基板上，所述第二隔离柱沿所述基板的与所述第一方向垂直的第二方向设置。

可选地，所述有机发光层的厚度低于所述第二隔离柱的高度。

可选地，所述有机发光层的厚度高于所述第一隔离柱的高度；或者所述阴极层与所述有机发光层的厚度之和高于所述第一隔离柱的高度。

根据第二方面，本发明实施例提供了一种有机发光器件的制造方法，包括：在基板上形成第一隔离柱，其中所述第一隔离柱沿所述基板的第一方向设置；在所述基板和所述第一隔离柱上形成透明电极层，其中形成在所述基板上的所述透明电极层与形成在所述第一隔离柱上的所述透明电极层由于所述第一隔离柱与所述基板表面之间的高度差而相互隔离；在所述透明电极层上形成有机发光层；在所述有机发光层上形成阴极层。

可选地，在所述基板和所述第一隔离柱上形成透明电极层与在所述透明电极层上形成有机发光层之前，所述方法还包括：在所述透明电极层上形成第二隔离柱，所述第二隔离柱沿所述基板的与所述第一方向垂直的第二方向设置。

可选地，在所述基板上形成第二隔离柱之前，所述方法还包括：去除所述第一隔离柱的与待形成的所述第二隔离柱交叉的部分。

可选地，所述有机发光层的厚度低于所述第二隔离柱的高度。

可选地，所述有机发光层的厚度高于所述第一隔离柱的高度；或者所述阴极层与所述有机发光层的厚度之和高于所述第一隔离柱的高度。

根据本发明实施例的有机发光器件及其制造方法，通过在形成第一隔离柱之后形成透明电极层，利用第一隔离柱与基板之间的高度差，自然使得沿第二方向上的透明电极层相互分隔开，而无需额外的透明电极层蚀刻工序。

进一步地，通过设置第一隔离柱、第二隔离柱、有机发光层以及阴极层的厚度，利用第二隔离柱与有机发光层之间的高度差，自然使得沿第一方向上的阴极层相互分隔开，实现有机发光显示器件的行列式扫描。

附图说明

通过参考附图会更加清楚的理解本发明的特征和优点，附图是示意性的而不应理解为对本发明进行任何限制，在附图中：

图1示出了现有技术中一种PMOLED的截面图；

图2示出了根据本发明实施例的有机发光器件的平面图；

图3示出了沿图2中的虚线A-A的截面图；

图4示出了沿图2中的虚线B-B的截面图；

图5示出了根据本发明实施例的有机发光器件的制造方法的流程图；

图6A-6D示出了图5中各个步骤所对应的根据本发明实施例的有机发光器件沿图2中的虚线A-A的截面图；

图6E-6I示出了图5中各个步骤所对应的根据本发明实施例的有机发光器件沿图2中的虚线B-B的截面图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

图2和图3示出了根据本发明实施例的有机发光器件的示意图。如图2所示，在根据本发明实施例的有机发光器件中，第一隔离柱24沿基板21的第一方向(如图2中虚线B-B所示的方向)设置，第二隔离柱27沿基板21的第二方向(如图2中虚线A-A所示的方向)设置，其中第一方向与第二方向垂直。

图3示出了根据本发明实施例的有机发光器件沿第二方向的截面图，该有机发光器件可以包括：基板21、布线层22、透明电极层23、第一隔离柱24、有机发光层25和阴极层26。具体地，基板21可以是透明基板；布线层22形成在基板21上，布线层22可以由Mo/Al/Mo等导电金属材料制成；第一隔离柱24形成在基板21上，第一隔离柱24沿基板21的第一方向设置；透明电极层23分别形成在基板21和第一隔离柱24上，由于高度差，形成在基板21上的透明电极层23与形成在第一隔离柱24上的透明电极层23自然相互隔离开，而无需额外的透明电极层刻蚀工序，透明电极层23可以由ITO等透明导电材料制成；有机发光层25形成在基板21上的透明电极层23上。

作为一种优选实施方式，有机发光层25的厚度高于第一隔离柱24的高度，这样如图2所示，由于有机发光层25的厚度高于第一隔离柱24的高度，使得第一隔离柱24不可见，在图2中第一隔离柱24不可见用虚线表示，这样使得阴极层26在第二方向上是连通的，阴极层26沿第二方向形成在基板21上。

在另一种可选实施方式中，有机发光层25的厚度也可以低于第一隔离柱24的高度，但是有机发光层25与阴极层26的厚度之和应当高于第一隔离柱24的高度，这样仍然可以使得阴极层26在第二方向上是连通的。

图4示出了根据本发明实施例的有机发光器件沿第一方向的截面图，该有机发光器件还可以包括第二隔离柱27，第二隔离柱27沿基板21的第二方向设置，第二方向垂直于第一方向。

作为一种优选实施方式，有机发光层25的厚度低于第二隔离柱27的高度，这样如图2所示，由于有机发光层25的厚度低于第二隔离柱27的高度，第二隔离柱27可见，这样由于第二隔离柱27与有机发光层25之间的高度差，在形成阴极层26时，阴极层26在第一方向上是自然分隔开的，有利于实现有机发光二极管显示器件的行列式扫描，如图4所示。

在根据本发明实施例的有机发光器件中，通过在形成第一隔离柱24之后形成透明电极层23，利用第一隔离柱24与基板21之间的高度差，自然使得沿第二方向上的透明电极层23相互分隔开，而无需额外的透明电极层蚀刻工序。

进一步地，通过设置第一隔离柱24、第二隔离柱27、有机发光层25以及阴极层26的厚度，利用第二隔离柱27与有机发光层25之间的高度差，自然使得沿第一方向上的阴极层26相互分隔开，实现有机发光二极管显示器件的行列式扫描。

作为一种优选实施方式，本发明实施例的有机发光器件是PMOLED，实现了透明电极和阴极横纵向的有效连通与隔开，实现了PMOLED的矩阵式驱动。

下面将结合图5和图6A-6I详细说明根据本发明实施例的有机发光器件的制造方法。

如图5所示，根据本发明实施例的有机发光器件的制造方法可以包括如下步骤：

S11.在基板21上形成布线层22和第一隔离柱24。如图6A和图6E所示，第一隔离柱24沿基板21的第一方向设置，布线层22和第一隔离柱24的形成顺序不做限制，可以先形成布线层22然后形成第一隔离柱24，也可以先形成第一隔离柱24然后形成布线层22。具体地，可以先在基板21上镀覆一层金属层，例如Mo/Al/Mo合金，然后刻蚀得到布线层22。第一隔离柱24可以由感光材料制成，可以先在基板21上涂布一层感光材料，然后进行曝光显影工艺，以形成第一隔离柱24。

S12.在基板21和第一隔离柱24上形成透明电极层23。如图6B和图6F所示，可以在整个基板上镀覆诸如ITO等透明导电材料，由于第一隔离柱24与基板表面的高度差，形成在第一隔离柱24之间的基板21上的透明电极层23与形成在第一隔离柱24上的透明电极层23自然相互分割开，即沿第二方向上的透明电极层23被自然相互分隔开，从而省却了透明电极层刻蚀的工序。

S13.在基板21上形成第二隔离柱27。如图6G所示，第二隔离柱27沿基板21的第二方向设置，第二方向与第一方向垂直。同样地，第二隔离柱27也可以由感光材料制成，可以先在基板21上涂布一层感光材料，然后进行曝光显影工艺，以形成第二隔离柱27。

S14.在透明电极层23上形成有机发光层25，如图6C和图6H所示。

S15.在有机发光层25上形成阴极层26，如图6D和图6I所示。

与上文中的描述相同，有机发光层25的厚度高于第一隔离柱24的高度且低于第二隔离柱27的高度，从而使得在通过镀覆等方式在发光层25上形成阴极层26时，使得阴极层26在第二方向上是连通的且在第一方向上是自然分隔开的。同样地，有机发光层25的厚度也可以低于第一隔离柱24的高度，但是有机发光层25与阴极层26的厚度之和应当高于第一隔离柱24的高度，这样仍然可以使得阴极层26在第二方向上是连通的。

在根据本发明实施例的有机发光器件的制造方法中，由于先形成第一隔离柱24后形成第二隔离柱27，对于第一隔离柱24与第二隔离柱27交叉的位置，为第一隔离柱24与第二隔离柱27叠加的高度，即在第一隔离柱24的基础上又形成了一个凸起。作为一种可选的实施方式，在形成第二隔离柱27之前，可以采用刻蚀的方式去除所述第一隔离柱的与待形成的所述第二隔离柱交叉的部分，从而在形成第二隔离柱27的时候就不会产生凸起。

虽然结合附图描述了本发明的实施方式，但是本领域技术人员可以在不脱离本发明的精神和范围的情况下作出各种修改和变型，这样的修改和变型均落入由所附权利要求所限定的范围之内。