技术特征：
技术总结
本发明提供一种基板处理系统及基板处理方法，能够得到所需的蚀刻率和选择比，而且能够进行稳定的处理。将基板(11)浸渍在储存于处理槽(14)内的处理液(12)中。处理槽(14)由盖部件(21a、21b)密封，内部通过来自加热的处理液(12)的水蒸气被加压。处理液(12)中纯水连续地被加入。测量处理槽(14)的内部压力，并根据内部压力(Pa)，增减排气阀(41)的开度以将内部压力保持在预定的压力的同时，根据内部压力(Pa)，增减纯水的加水量，从而由具有预定的浓度和温度的处理液(12)处理基板(11)。
技术研发人员：庄盛博文;木村敦夫
受保护的技术使用者：株式会社JET
技术研发日：2016.06.14
技术公布日：2018.01.26