技术特征：
技术总结
本文公开的技术提供了一种用于减小间距(增加间距/特征密度)以用于创建高分辨率特征并且还用于对亚分辨率特征的间距进行切割的方法。技术包括使用具有不同刻蚀特性的多种材料来选择性刻蚀特征并在指定的位置创建切口。使用一系列材料或材料线的重复图案，其提供基于不同的抗刻蚀性的选择性自对准。结合下面的转移层或记忆层，可以获得多种不同的刻蚀选择性。刻蚀掩模限定多种材料的线的哪些区域可以被刻蚀。
技术研发人员：安东·J·德维利耶
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2016.09.20
技术公布日：2018.07.31