具有激光熔丝的集成电路及其形成方法与流程

文档序号:12725011阅读:来源:国知局
技术总结
本发明提供了一种具有激光熔丝的集成电路及其形成方法,其结构包括:衬底;形成于所述衬底上的层间介质层;位于所述层间介质层上的缓冲层;以及,形成于所述缓冲层上的激光熔丝。即,由于所述激光熔丝和层间介质层之间设置有一缓冲层,从而在执行激光修调工艺时,避免了所述激光熔丝所产生的机械应力和热应力直接作用于层间介质层上,从而可有效改善所述层间介质层中产生裂纹的问题。

技术研发人员:吴亚贞
受保护的技术使用者:上海华虹宏力半导体制造有限公司
文档号码:201710079123
技术研发日:2017.02.14
技术公布日:2017.06.20

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