蒸镀设备的制作方法

本发明涉及显示器制备技术领域，尤其涉及一种蒸镀设备。

背景技术：

有机发光二极管包括阳极、阴极、以及设置于所述阳极与所述阴极之间的发光层。在工作期间，空穴自阳极被注入至发光层中，且电子自阴极被注入至发光层中。所述空穴与所述电子在发光层中彼此耦合，从而产生激子(exciton)。当所述激子自激发态变至基态时，便会发光。

有机发光二极管可根据所要再现的颜色而被分类成单色(monochromatic)有机发光二极管及全色(full-color)有机发光二极管。全色有机发光二极管配备有根据作为光原色的红色(r)、绿色(g)及蓝色(b)而被图案化的发光层，进而再现全色。在全色有机发光二极管中，可根据用于形成发光层的材料以各种方式执行发光层的图案化。用于将发光层图案化的有机发光二极管沉积方法包括利用精细金属掩模(finemetalmask；fmm)的水平沉积方法、采用激光诱导热成像(laserinducedthermalimaging；liti)技术的方法、利用滤色器的方法、小掩模扫描(smallmaskscanning；sms)沉积方法等。

在蒸镀过程中，为了使得掩模与基板严密贴合，一般会设置铁磁板，铁磁板用于吸附掩模，基板位于掩模和铁磁板之间，但随着单位面积内像素单元的增多，掩模上的缝隙越来越密集，一段时间后，掩模会松弛，但铁磁板为永磁铁，其磁场保持在一个固定的值，当掩模松弛时，铁磁板给掩模的吸力将无法保证基板与掩模紧密贴合，这样就会使得蒸镀材料不能准确覆盖阳极，降低显示装置的成品率。

技术实现要素：

本发明提供了一种蒸镀设备，用以减少亚像素覆盖不全、像素之间的混色现象，提高掩模的网孔与基板的亚像素之间的对位精确度，提高蒸镀效果，提高蒸镀成品率。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

本发明提供了一种蒸镀设备，包括：

与蒸镀设备的腔室内壁转动连接的支撑框架，固定于所述支撑框架的电磁铁，所述电磁铁包括：铁芯以及缠绕于所述铁芯上的线圈，其中所述铁芯的轴线垂直于掩模，所述电磁铁用于在其内的线圈通入电流时吸附所述掩模，且所述电磁铁内的线圈通入的电流的大小可调。

本发明提供的蒸镀设备，通过将原有的用于吸附掩模的永久性磁铁变为电磁铁，可以通过改变通入线圈内的电流的大小，来改变电磁铁的磁场的大小，进而可以便于改变其对掩模的吸附力的大小，以便在使用时，可以根据需要调节基板和掩模之间的贴合紧密性；同时，本发明提供的蒸镀设备，还可以通过改变通入电流的大小，以便对磁化了的掩模进行消磁；另外通过断开接入的电流，可以减少掩模与基板分离时变形现象的发生，便于电磁铁与掩模分离。

故，本发明提供的蒸镀设备，可以减少亚像素覆盖不全、像素之间混色现象的发生，提高掩模的网孔与基板的亚像素之间的对位精确度，提高蒸镀效果，提高蒸镀成品率。

在一些可选的实施方式中，所述电磁铁的个数为多个，多个所述电磁铁被划分为至少两个区域，每个所述区域内相邻的电磁铁之间相互串联。这样的设计，可以使得多个电磁铁被分区域控制，可以根据每个区域内掩模的松弛度，控制该区域内电磁铁的磁场大小，控制电磁铁对掩模的吸附力的大小，进而控制该区域内掩模与基板的贴合紧密性。

在一些可选的实施方式中，所述蒸镀设备还包括：供电装置，所述供电装置包括与多个所述电磁铁被划分的区域一一对应连接的输出端，且每个输出端连接有用于调节输出电流大小的调节装置。这样的设计，可以节省供电装置的数量。

在一些可选的实施方式中，所述蒸镀设备还包括：所述蒸镀设备还包括：与多个所述电磁铁被划分的区域一一对应连接的供电装置，每个所述供电装置的输出端连接有用于调节输出电流大小的调节装置。将供电装置设置为多个，更便于调节单个区域的供电电流。

在一些可选的实施方式中，所述蒸镀设备上设有用于控制所述调节装置的调节开关。

在一些可选的实施方式中，多个所述电磁铁被划分的区域的个数与待蒸镀的基板上的子基板的个数一一对应。这样便于调节掩模与对应的每个子基板之间的贴合紧密性。

在一些可选的实施方式中，多个所述电磁铁被划分的区域的个数与待蒸镀的基板上的子基板内的像素单元的个数一一对应。可以进一步提高掩模与基板贴合的紧密性。

在一些可选的实施方式中，所述电磁铁内的线圈通入的电流的方向可调。通过改变线圈通入电流的方向以及大小，可以更好的起到消磁的效果。

在一些可选的实施方式中，每个所述电磁铁卡接或焊接于所述支撑框架。

在一些可选的实施方式中，蒸镀设备，还包括：

安装于所述蒸镀设备的腔室内壁上的导电滑环；

所述支撑框架上设有与所述导电滑环转动连接的安装轴，所述安装轴的内部具有中空腔室，所述铁芯上的线圈穿过所述中空腔室与所述导电滑环电连接。导电滑环的设计，便于将支撑框架与蒸镀设备的腔室固定连接，便于电磁铁与外部电源连接。

附图说明

图1为本发明实施例提供的蒸镀设备的一种部分结构示意图；

图2为本发明实施例提供的蒸镀设备的另一种部分的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的电磁铁的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的多个电磁铁之间的连接示意图；

图5为本发明实施例提供的多个电磁铁的分布结构示意图；

图6为本发明实施例提供的多个电磁铁与支撑框架组合在一起的结构示意图。

附图标记：

1-支撑框架2-电磁铁

21-铁芯22-线圈

3-区域4-导线

5-导电滑环6-掩模

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明专利保护的范围。

蒸镀工艺涉及空穴传输层、发光层、电子传输层、阴极等各功能层的蒸镀。在各蒸镀工序中，金属掩膜板均起着至关重要的作用。当金属掩模板与基板间的间距不合理时，器件会出现串色、亮度不均匀以及效率降低等现象，从而影响器件的整体特性。为了防止上述情况的发生，可使用能使基板和磁铁贴合得更近的铁磁板来保持现有状态，但随着单位面积内像素单元的增多，掩模上的缝隙越来越密集，一段时间后，掩模会松弛，但铁磁板为永磁铁，其磁场保持在一个固定的值，当掩模松弛时，铁磁板给掩模的吸力将无法保证基板与掩模紧密贴合，这样就会使得蒸镀材料不能准确覆盖阳极，降低显示装置的成品率。

为了解决上述问题，本发明提供了一种蒸镀设备，通过将原有的用于吸附掩模的永久性磁铁变为电磁铁，可以通过改变通入线圈内的电流的大小，来改变电磁铁的磁场的大小，进而可以便于改变其对掩模的吸附力的大小，以便在使用时，可以根据需要调节基板和掩模之间的贴合紧密性；同时，本发明提供的蒸镀设备，还可以通过给电磁铁通入电流的大小，对磁化了的掩模进行消磁；另外通过断开接入的电流，可以减少掩模与基板分离时变形现象的发生，便于电磁铁与掩模分离。

如图1、图2和图3所示，本发明提供了一种蒸发设备，包括：

与蒸发设备的腔室内壁转动连接的支撑框架1；

固定于支撑框架1的电磁铁2，每个电磁铁2包括：铁芯21以及缠绕于铁芯21上的线圈22，其中铁芯21的轴线垂直于掩模6，电磁铁2用于在其内的线圈22通入电流时吸附掩模6，且电磁铁2内的线圈通入的电流的大小可调。

本发明提供的蒸镀设备，通过将原有用于吸附掩模的永久性磁铁变为电磁铁2，可以通过改变通入线圈22内的电流的大小，来改变电磁铁2的磁场的大小，进而可以便于改变其对掩模6的吸附力的大小，以便在使用时，可以根据需要调节基板和掩模6之间的贴合紧密性；同时，本发明提供的蒸镀设备，还可以通过改变通入电流的大小，以便对磁化了的掩模进行消磁；另外通过断开接入的电流，可以减少掩模与基板分离时变形现象的发生，便于电磁铁与掩模分离。

故，本发明提供的蒸镀设备，可以减少亚像素覆盖不全、像素之间混色现象的发生，提高掩模的网孔与基板的亚像素之间的对位精确度，提高蒸镀效果，提高蒸镀成品率。

需要说明的是，上述掩模一般为金属掩模，掩模与基板也不是越紧密越好，如果磁铁磁力太大，会导致掩模变形或者磁化。

上述蒸镀设备在使用时，可以先通过测试基板不断测试得到蒸镀时基板需要的吸附力的大小，然后根据测试出的吸附力的大小调节电磁铁的输入电流的大小，以便调整电磁铁产生的磁场。

如图4、图5和图6所示，电磁铁2的个数为多个，多个电磁铁2被划分为至少两个区域3，每个区域3内相邻的电磁铁2之间相互串联。每个区域3内的多个电磁铁2上的线圈22通过导线4首尾串联起来，这样每个区域3内只需要引出两根导线4，两根导线4分别与外接电源的正极和负极连接。将多个电磁铁2分区域，可以分区域控制电磁铁2通入的电流的大小，可以根据每个区域3内掩模6的松弛度，控制该区域3内电磁铁2的磁场大小，控制电磁铁2对掩模6的吸附力的大小，进而控制该区域3内掩模6与基板的贴合紧密性。

一种可选的实施方式中，蒸镀设备还包括：供电装置，供电装置包括与多个电磁铁2被划分的区域3一一对应连接的输出端，且每个输出端连接有用于调节输出电流大小的调节装置。这样的设计，可以节省供电装置的数量。

另一种可选的实施方式中，蒸镀设备还包括：蒸镀设备还包括：与多个电磁铁被划分的区域一一对应连接的供电装置，每个供电装置的输出端连接有用于调节输出电流大小的调节装置。将供电装置设置为多个，更便于调节单个区域的供电电流。

为了便于调节输出电流，上述蒸镀设备上设有用于控制调节装置的调节开关。

上述多个电磁铁2被划分的区域3的个数具体可以有多种：

可选的，多个电磁铁2被划分的区域3的个数与待蒸镀的基板上的子基板的个数一一对应。这样便于调节掩模6与对应的每个子基板之间的贴合紧密性。

可选的，多个电磁铁2被划分的区域3的个数与待蒸镀的基板上的子基板内的像素单元的个数一一对应。可以便于调节掩模6与对应的每个子基板内的像素单元之间的贴合紧密性，减少亚像素覆盖不全、像素之间的混色现象的发生。

为了更好的对磁化的掩模进行消磁，所述电磁铁内的线圈通入的电流的方向可调。通过改变线圈通入电流的方向以及大小，可以更好的起到消磁的效果，在实际操作中也可以通过给线圈通入大小变化的交流电流，使得电磁铁产生交磁场，以对磁化了的掩模进行消磁。

上述每个电磁铁2与支撑框架1之间可以采用多种方式固定：

一种可选的实施方式中，每个电磁铁2焊接于支撑框架1。

另一种可选的实施方式中，每个电磁铁2卡接于支撑框架1。

为了便于支撑框架安装于蒸镀腔室内，本发明提供的蒸镀设备，还包括：

安装于蒸镀设备腔室内壁上的导电滑环5；

支撑框架1上设有与导电滑环5转动连接的安装轴，安装轴的内部具有中空腔室，铁芯上的线圈穿过中空腔室与导电滑环5电连接。导电滑环5的设计，便于将用于支撑框架与蒸镀设备的腔室固定连接，便于电磁铁与外部电源连接。导电滑环5属于电接触滑动连接应用范畴，它又称集电环、或称旋转关节、旋转电气接口、滑环、集流环、回流环、线圈22、换向器、转接器，是实现两个相对转动机构的图像、数据信号及动力传递的精密输电装置。

当电磁铁为多个，且被划分为多个区域时，可以每个区域内的电磁铁串联后引出两根线穿过安装轴的中空腔室与导电滑环电连接。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。