用于干蚀刻机台的下电极结构及干蚀刻机台的制作方法

文档序号:13007908阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供了一种用于干蚀刻机台的下电极结构,其包括:绝缘部,包括相对的第一表面和第二表面;电极部,设置于第二表面上;顶针孔,贯穿绝缘部和电极部,所述第一表面与顶针孔的内表面的连接处形成台阶;顶针,包括针杆以及连接于针杆一端的托盘;当顶针承载被处理的基板至所述第一表面上时,托盘的端部位于台阶上,以将顶针孔的在所述第一表面上的开口封闭,针杆位于顶针孔中。本发明还提供了一种具有该下电极结构的干蚀刻机台。本发明在承载于绝缘部的表面上的被处理的基板出现翘曲现象时,由于托盘将顶针孔在绝缘部的表面上的开口封闭,这样周围环境中的等离子体(plasma)不会进入顶针孔内,从而避免电极部被电弧击伤(arcing)。

技术研发人员:张佳;张占东
受保护的技术使用者:武汉华星光电技术有限公司
技术研发日:2017.07.28
技术公布日:2017.11.24
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