技术特征：
技术总结
本发明提供一种金属线的制造方法及隔离金属线的方法，包括：1）于金属层上形成抗反射层；2）于抗反射层上形成光阻层，并于光阻层中形成刻蚀窗口；3）采用包含卤素的气体并添加烷类气体，对金属层进行刻蚀，以将金属层分隔为若干金属线；其中，所述烷类气体与所述包含卤素的气体反应生成辅助碳卤素化合物，用以避免所述金属线侧壁的侧蚀，以及降低所述光阻层在刻蚀过程中的消耗速率。本发明以添加烷类气体作为刻蚀铝的副产物CClx来源，可有效降低光阻层的蚀刻率，避免了因光阻层残留量不足而导致金属线的线宽变小以及顶部损伤；同时，副产物CClx可以进一步避免所述金属线侧壁的侧蚀，使得所述金属线的整体宽度与目标宽度进本相同。
技术研发人员：不公告发明人
受保护的技术使用者：睿力集成电路有限公司
技术研发日：2017.11.01
技术公布日：2018.04.13