技术总结
本发明提供一种阵列基板及其制备方法，所述制备方法包括步骤：在薄膜晶体管层上沉积钝化材料层，所述钝化材料层包括交替设置的第一膜层和第二膜层，所述钝化材料层的顶层为所述第二膜层，所述第一膜层与所述第二膜层的材质不同；以光阻层为掩模，对所述钝化材料层进行刻蚀，直至刻蚀至露出所述第一膜层，形成与所述光阻层对应的图案结构；在所述光阻层及暴露的所述第一膜层上沉积ITO薄膜；将所述光阻层剥离，获得阵列基板。由于不同材料的刻蚀速率不同，从而可以在间隔物的边缘与光阻的边缘形成较大的间隔，使得剥离液能够更好的对光阻进行剥离，提升剥离效率和剥离均一性，降低光阻残留的概率。
技术研发人员：欧甜;徐洪远;
受保护的技术使用者：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司;
技术研发日：2017.12.28
技术公布日：2018.06.19