本实用新型涉及ICP刻蚀技术领域，尤其是一种ICP刻蚀机的传送室。
背景技术：
ICP刻蚀技术广泛应用于微电子、LED及光伏领域。ICP刻蚀技术结构简单、性价比高、装置的环径比更大、装置更小型化且操作简单。同时ICP源具有至少在直径20cm范围内的均匀性，可独立控制离子密度和离子能量，已成为目前较为理想的等离子体源。ICP反应可以得到大于的高密度等离子体，用以实现先进的加工过程。这种刻蚀工艺被广泛应用于各种深刻蚀，通过在钝化和刻蚀之间加入一个去钝化的步骤，或通过控制聚合薄层的厚度，合理调节其它刻蚀参数，不仅可以刻蚀出各向异性的端面，而且可以使得端面倾角在一定范围内有变化。
ICP刻蚀机包括真空腔，真空腔包括刻蚀室和传送室，在刻蚀过程中，基片不接触大气的情况下在刻蚀室和传送室之间传输，所述传送室传输的可靠性和密封性尤其重要。
技术实现要素：
本实用新型要解决的技术问题是：克服现有技术中之不足，提供一种ICP刻蚀机的传送室。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种ICP刻蚀机的传送室，包括腔体和腔盖，所述腔盖通过铰链块连接至腔体上端面的一侧边缘，所述腔体内设置有上传输机构和下传输机构，所述下传输机构位于上传输机构一侧下部，所述上传输机构由一条环形弹性皮带和位于环形弹性皮带两端的带轮组成，所述环形弹性皮带的一侧设置有皮带行程限位块，所述带轮包括内带轮和外带轮，所述外带轮位于腔体外侧的末端执行器下方，所述末端执行器上设置有支撑板，所述支撑板伸入腔体内，所述内带轮通过轴承安装在托架上，所述托架上方连接所述支撑板，托架位于环形弹性皮带另一侧下方的导轨上，所述导轨的另一侧为下传输机构，所述下传输机构包括环形传送带和位于环形传送带两端的滚轮，所述环形传送带上连接有皮带扣，所述皮带扣位于托架的一侧缺口内。
进一步地，所述滚轮包括内侧滚轮和外侧滚轮，所述内侧滚轮安装在旋转轴上，所述外侧滚轮安装在靠近末端执行器的腔体端板的开口槽处。
更进一步地，所述导轨靠近内侧滚轮处的一侧设置有托架的止动块。
更进一步地，靠近末端执行器的腔体端板上开设有放置密封圈的环槽，所述环槽设置于开口槽的外缘。
进一步地，所述腔盖包括铰链安装盖，所述铰链安装盖的中间开设有通孔，所述通孔上依次设置有O型密封圈、玻璃、视窗垫圈、视口压板和防护窗，所述防护窗的上端边缘固定有一球形捏手。
更进一步地，所述铰链安装盖为方形，通孔为圆形，铰链安装盖内侧边缘开设有密封圈槽。
本实用新型的有益效果是：本实用新型的传输结构设计合理，密封性能优越，尤其适用于基片不接触大气的情况下在刻蚀室和传送室之间传输。
附图说明
下面结合附图和实施方式对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图。
图中：1.腔体，2.腔盖，3.铰链块，4.环形弹性皮带，5.皮带行程限位块，6.内带轮，7.外带轮，8.末端执行器，9.支撑板，10.托架，11.导轨，12.环形传送带，13.皮带扣，14.内侧滚轮，15.外侧滚轮，16.旋转轴，17.开口槽，18.止动块，19.密封圈，20.环槽，21.铰链安装盖，21-1.通孔，21-2.密封圈槽，22.O型密封圈，23.玻璃，24.视窗垫圈，25.视口压板，26.保护窗，27.球形捏手。
具体实施方式
现在结合附图对本实用新型作进一步的说明。这些附图均为简化的示意图仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
如图1所示的一种ICP刻蚀机的传送室，包括腔体1和腔盖2，腔盖2通过铰链块3连接至腔体1上端面的一侧边缘，腔体1内设置有上传输机构和下传输机构，下传输机构位于上传输机构一侧下部，上传输机构由一条环形弹性皮带4和位于环形弹性皮带4两端的带轮组成，环形弹性皮带4的一侧设置有皮带行程限位块5，带轮包括内带轮6和外带轮7，外带轮7位于腔体1外侧的末端执行器8下方，末端执行器8上设置有支撑板9，支撑板9伸入腔体1内，内带轮6通过轴承安装在托架10上，托架10上方连接支撑板9，托架10位于环形弹性皮带4另一侧下方的导轨11上，导轨11的另一侧为下传输机构，下传输机构包括环形传送带12和位于环形传送带12两端的滚轮，环形传送带12上连接有皮带扣13，皮带扣13位于托架10的一侧缺口内。
其中，滚轮包括内侧滚轮14和外侧滚轮15，内侧滚轮14安装在旋转轴16上，外侧滚轮15安装在靠近末端执行器8的腔体1端板的开口槽17处。导轨11靠近内侧滚轮14处的一侧设置有托架10的止动块18。靠近末端执行器8的腔体1端板上开设有放置密封圈19的环槽20，环槽20设置于开口槽17的外缘。
腔盖2包括铰链安装盖21，铰链安装盖21的中间开设有通孔21-1，通孔21-1上依次设置有O型密封圈22、玻璃23、视窗垫圈24、视口压板25和防护窗26，防护窗26的上端边缘固定有一球形捏手27。铰链安装盖21为方形，通孔21-1为圆形，铰链安装盖21内侧边缘开设有密封圈槽21-2。
当基片从刻蚀室向传送室传送时(电控设备图中未示出)，控制旋转轴16转动，使得内侧滚轮14转动，进而使得环形传送带12转动，环形传送带12带动皮带扣13，皮带扣13带动托架10，托架10带动支撑板9向前移动，直至托架10遇到止动块18而停止向前，环形弹性皮带4复位，被皮带行程限位块5限位，支撑板9回到之前位置，完成一次腔体1内外的传输。
上述实施方式只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并加以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围，凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。