技术特征：
技术总结
一种用于形成保形的密封氮化硅膜的方法。所述方法包括：用聚硅烷气体使用热化学气相沉积以在基板上产生超保形非晶硅膜，随后用氨或氮等离子体处理所述膜以将所述非晶硅膜转化成保形的密封氮化硅。在一些实施方式中，所述非晶硅沉积和所述等离子体处理在相同的处理腔室中执行。在一些实施方式中，重复所述非晶硅沉积和所述等离子体处理直到达到所希望的氮化硅膜厚度。
技术研发人员：P·曼纳;程睿;A·B·玛里克;江施施
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2017.12.20
技术公布日：2019.08.09