技术特征：
技术总结
本发明公开了一种蚀刻设备，该蚀刻设备包括蚀刻腔，该蚀刻腔包括：上电极板，固定设置在该蚀刻腔的一侧部；下电极板，可活动地设置在该蚀刻腔相对的另一侧部，该下电极板包括靠近该蚀刻腔的底部的下端部和与该下端部对应的上端部，该下电极板以该下端部为转轴旋转，进而可使该下电极板在非蚀刻过程中与该上电极板之间呈垂直状态，在蚀刻过程中与该上电极板之间呈平行状态。通过上述方式，本发明能够提高蚀刻后产品质量的稳定性，同时降低设备维护成本。
技术研发人员：李莎莎
受保护的技术使用者：武汉华星光电技术有限公司
技术研发日：2018.03.28
技术公布日：2018.09.11