一种大功率垂直结构LED外延结构及其制备方法与流程

文档序号:15940861发布日期:2018-11-14 03:07阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了大功率垂直结构LED外延结构,包括生长在Si衬底上的预铺Al层、AlN缓冲层、AlGaN缓冲层、u型GaN层、第一石墨烯层、n型GaN层、多量子阱、p型GaN层、第二石墨烯层,所述第一石墨烯层和第二石墨烯层采用气相沉积而成。该LED外延结构具有较佳的光电性能,应用广泛。

技术研发人员:李国强
受保护的技术使用者:河源市众拓光电科技有限公司
技术研发日:2018.04.24
技术公布日:2018.11.13
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