X技术
首页
登录
注册
一种大功率垂直结构LED外延结构及其制备方法与流程
文档序号:15940861
发布日期:2018-11-14 03:07
阅读:
来源:国知局
导航:
X技术
>
最新专利
>
电气元件制品的制造及其应用技术
>
一种大功率垂直结构LED外延结构及其制备方法与流程
技术特征:
技术总结
本发明公开了大功率垂直结构LED外延结构,包括生长在Si衬底上的预铺Al层、AlN缓冲层、AlGaN缓冲层、u型GaN层、第一石墨烯层、n型GaN层、多量子阱、p型GaN层、第二石墨烯层,所述第一石墨烯层和第二石墨烯层采用气相沉积而成。该LED外延结构具有较佳的光电性能,应用广泛。
技术研发人员:
李国强
受保护的技术使用者:
河源市众拓光电科技有限公司
技术研发日:
2018.04.24
技术公布日:
2018.11.13
完整全部详细技术资料下载
当前第2页
1
2
相关技术
发光元件的制作方法
一种AlN缓冲层结构及其制备...
一种正装LED芯片及其制作方...
半导体发光元件的制作方法
一维InGaN/AlGaN多...
照明通信共用的二维光子晶体L...
一种发光二极管外延片及其制备...
一种基于发光材料的QDEF显...
一种GaN基发光二极管InG...
生长在硅/石墨烯复合衬底上的...
网友询问留言
已有
0
条留言
还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1
LED外延片相关技术
外延片曝光装置的制造方法
均匀性可调的硅外延反应设备加热装置及其调节方法与制造工艺
一种氮化镓基LED外延片及其生长方法与制造工艺
一种具有高抗静电能力的LED外延片的制造方法与工艺
改善LED芯片性能均匀性的外延生长方法与制造工艺
一种发光二极管的外延片及其生长方法与制造工艺
一种发光二极管外延片及制作方法与制造工艺
一种LED外延片的制备方法与制造工艺
一种重掺衬底反型高阻IC外延片的制备方法与制造工艺
背面具有凹陷/凸起的基座和用于外延沉积的反应器的制造方法与工艺
LED外延相关技术
一种高锗含量锗硅薄膜的低温外延制备方法与流程
一种基于硅衬底的P型沟道赝配异质结场效应晶体管的制作方法与工艺
一种基于硅衬底P型沟道场效应晶体管的制作方法与工艺
一种带磁块铝材灯条装置的制作方法
一种提高紫外LED光输出功率的外延结构的制作方法与工艺
用于氮化物外延生长的衬底局域非晶化方法与流程
一种调控紫外发光二极管外延片波长的处延方法与流程
外延片清洗台的制作方法与工艺
一种用于生长外延片的复合衬底及其制备方法与流程
发光二极管外延片及其制造方法与流程
LED外延芯片相关技术
用于倒装led芯片的衬底以及外延片的制作方法
一种用于led制造中的高密封性尾气排放氨气回收系统的制作方法
一种用于led制造中的尾气排放氨气回收系统的制作方法
用于倒装led芯片的衬底、外延片及其制作方法
发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管芯片制备及衬底回收方法
一种多出光面、高光亮度、三维立体led半导体芯片的制作方法
一种蓝宝石复合衬底和其制备方法及其应用的制作方法
Led外延片、其制作方法及包含其的led芯片的制作方法
一种肖特基芯片专用外延片的生长方法
Led外延片、其制作方法及包括其的led芯片的制作方法
LED外延工艺相关技术
外延工艺中光刻标记的制作方法
外延生长工艺方法
一种外延工艺腔体温度校准的方法
一种GaN 外延工艺方法
一种减压生产12寸单晶硅外延片的工艺的制作方法
工艺腔室装置和具有该工艺腔室装置的外延设备的制作方法
一种ic片外延的工艺方法
300mm薄层外延工艺的制作方法
一种基于薄膜型的外延片剥离工艺的制作方法
用于外延工艺的半导体制造设备的制作方法