像素结构及其制备方法和显示装置与流程

本发明涉及显示器领域，尤其涉及一种像素结构及其制备方法和显示装置。
背景技术：
：随着移动显示市场的发展以及追求更清晰画质的市场需求，高分辨显示技术日益受到重视。以国际正在研发中的印刷显示技术为例，为了应用于移动显示设备或者下一代高分辨视频等场合，分辨率需要在原有基础上进一步提高，有时甚至超过印刷机本身提供的分辨率极限。为此，一些通过在原有像素中再细分子像素，并且合理排列组合这些像素的技术已被发明。依然以印刷有机发光(oled)显示技术为例：传统的方案中，每个像素通过像素界定层定义其形状，和与其他像素隔离。由此，像素界定层界在基板上定出像素区和非像素区。像素区即为像素发光区域。而它们之间的非像素区则有绝缘的堤案(bank)将相邻像素隔离开，也就是像素分隔墙。由于工艺的限制，这种独立像素的大小有一定限制，尤其在目前的喷墨打印印刷工艺中，由于打印机喷墨的技术限制，最小的单色像素尺寸往往依然不能满足高分辨显示的需要。另一方面，除上述印刷发光像素以外的其他显示器制作工艺却相对更为成熟。比如，制作显示器基板、基板上的驱动电路，以及像素界定层的工艺等。经过长期发展，已经可以满足各种高分辨的需要。于是，为了克服发光器件单色像素制造工艺的限制，一种解决方案是，通过将不同像素的同一种颜色的子像素排列在一起，让其形成一个较大的同色像素区域。或者换个角度说，即将发光器件制造时制造的一个单色像素进一步通过划分驱动电路等方式，分割成更小的子单色像素，并分配给不同的rgb彩色像素，由此实现分辨率的提升。值得注意的是，像素界定层的分隔墙一般由透明材料通过半导体光刻工艺在显示面板的基板上制成。由于它存在于规则排列的像素之间的所有非像素区，实际就形成一种周期性的网格状，光学上具有可以散射光的特性。它不仅会对发光像素所发射的光产生散射，也会对外界光产生散射，这对高分辨显示会产生不利影响。例如，户外的自然光可能被这样的像素界定层大量散射，造成反光干扰，淹没显示器本身所发光。此外，不同rgb像素的子像素间也会因为这样的散射互相干扰，产生漫散射，降低了像素显示图像的清晰度。为了解决这个问题，一些显示器生产者提出用染色像素分隔墙的方法，即，使像素分隔墙呈黑色，吸收各种散射光，从而提高抗反光能力。然而，这种黑色像素分隔墙也会吸收像素本身所发出的光，会降低显示亮度，影响分辨率。技术实现要素：基于此，有必要提供一种能够实现显示装置的高分辨显示的像素结构。此外，还提供一种像素结构的制备方法和显示装置。一种像素结构，包括：阵列基板；设置在所述阵列基板上的多个间隔的像素单元，每个所述像素单元包括多个间隔设置的子像素；界定层，包括黑色的第一分隔部及透光的第二分隔部，所述第一分隔部与所述第二分隔部共同围设成一网络状结构，所述第一分隔部设置在相邻两个所述像素单元之间，以分隔相邻的两个所述像素单元，所述第二分隔部设置在每个所述像素单元的相邻的两个所述子像素之间，以分隔每个所述像素单元的两个相邻的所述子像素。由于上述像素结构的界定层包括黑色的第一分隔部及透光的第二分隔部，第二分隔部与第一分隔部共同围设成一网络状结构，黑色的第一分隔部设置在相邻两个像素单元之间，以分隔相邻的两个像素单元，以减少相邻像素单元间的互相干扰和漫散射，透光的第二分隔部设置在每个像素单元的相邻的两个子像素之间，以分隔每个像素单元的两个相邻的子像素，以保证每个像素单元内的部分子像素的侧面能够出光，以增加出光效率，有利于实现显示装置的高分辨率显示。在其中一个实施例中，所述第一分隔部由胶料制备得到，所述胶料中含有能够在光照作用下变成黑色的光致变色材料。在其中一个实施例中，所述第二分隔部由所述胶料制备得到。在其中一个实施例中，所述光致变色材料能够在紫外光的照射作用下变成黑色。在其中一个实施例中，所述光致变色材料选自1,2-二氢喹啉、1,2-二氢喹啉的衍生物、螺吡喃染料、螺吩噁嗪染料及金属卤化物中的至少一种。在其中一个实施例中，所述金属卤化物选自卤化银、卤化锌、卤化镉、卤化铜及卤化镁中的至少一种。在其中一个实施例中，按照质量百分含量，所述胶料包括：4％～50％的感光树脂、0.001％～30％的增感剂、0.001％～30％的所述光致变色材料及30％～95％的溶剂。在其中一个实施例中，感光树脂选自聚酰亚胺、聚羟基苯乙烯、聚羟基苯乙烯的衍生物、聚对羟基苯乙烯、聚对羟基苯乙烯的衍生物、聚酯环族丙烯酸酯及聚酯环族丙烯酸酯的共聚物中的一种，及/或，所述增感剂选自光敏化合物及光致酸产生剂中的至少一种。一种像素结构的制备方法，包括如下步骤：在阵列基板上形成界定膜，以使所述界定膜包括第一初始分隔部和第二初始分隔部，且所述第一初始分隔部与所述第二初始分隔部共同围设成一网络状结构，所述第一初始分隔部中含有光致变色材料；对所述第一初始分隔部进行曝光处理，使所述光致变色材料变成黑色，以得到黑色的所述第一初始分隔部；将所述界定膜进行固化处理，得到包括黑色的第一分隔部和透光的第二分隔部的界定层；在所述阵列基板上设置多个包括多个子像素的像素单元，并使所述第一分隔部位于相邻两个所述像素单元之间，所述第二分隔部位于每个所述像素单元的相邻的两个所述子像素之间，得到像素结构。在其中一个实施例中，所述在阵列基板上形成界定膜的步骤包括：使用胶料在阵列基板上形成膜层，对所述膜层曝光处理，然后进行显影处理，得到所述界定膜，所述胶料中含有所述光致变色材料。在其中一个实施例中，按照质量百分含量计，所述胶料包括：4％～50％的感光树脂、0.001％～30％的增感剂、0.001％～30％的所述光致变色材料及30％～95％的溶剂。在其中一个实施例中，感光树脂选自聚酰亚胺、聚羟基苯乙烯、聚羟基苯乙烯的衍生物、聚对羟基苯乙烯、聚对羟基苯乙烯的衍生物、聚酯环族丙烯酸酯及聚酯环族丙烯酸酯的共聚物中的一种；及/或，所述增感剂选自光敏化合物及光致酸产生剂中的至少一种。在其中一个实施例中，所述对所述第一初始分隔部进行曝光处理的步骤包括：用掩模遮盖所述第二初始分隔部；对所述第一初始分隔部进行紫外光照射处理，以使所述光致变色材料在光照下变成黑色，以得到黑色的所述第一初始分隔部。在其中一个实施例中，所述光致变色材料选自1,2-二氢喹啉、1,2-二氢喹啉的衍生物、螺吡喃染料、螺吩噁嗪染料及金属卤化物中的至少一种。在其中一个实施例中，所述金属卤化物选自卤化银、卤化锌、卤化镉、卤化铜及卤化镁中的至少一种。一种显示装置，包括上述任一种像素结构或上述任一种像素结构的制备方法制备的像素结构。附图说明图1为一实施方式的像素结构的示意图；图2为一实施方式的像素结构的制备方法的流程图。具体实施方式为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的
技术领域：
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。如图1所示，一实施方式的像素结构100，包括阵列基板110、像素单元120和界定层130。阵列基板110可以为本领域常用的基板，例如tft阵列基板。像素单元120为多个，并且间隔设置在阵列基板110上。每个像素单元120包括多个间隔设置的子像素122。具体地，每个像素单元120具有三种颜色的子像素122，分别为红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。界定层130包括黑色的第一分隔部132及透光的第二分隔部134，第二分隔部134与第一分隔部132共同围设成一网络状结构。第一分隔部132设置在相邻两个像素单元120之间，以分隔相邻的两个像素单元120，以减少相邻像素单元120间的互相干扰和漫散射。具体地，第一分隔部132由胶料制备得到，胶料中含有能够在光照作用下变成黑色的光致变色材料，从而使得第一分隔部132呈黑色。该光致变色材料能够在预定波段范围内的光照射下变成黑色，而在预定波段范围外的光照射下呈透光状态。进一步地，光致变色材料能够在紫外光的照射作用下变成黑色。具体地，光致变色材料选自1,2-二氢喹啉、1,2-二氢喹啉的衍生物、螺吡喃染料、螺吩噁嗪染料及金属卤化物中的一种。其中，1,2-二氢喹啉的衍生物例如为1,2-二氢-2-氧代喹啉-4-羧酸酯。更具体地，金属卤化物选自卤化银、卤化锌、卤化镉、卤化铜及卤化镁中的一种。进一步地，按照质量百分含量，胶料包括：4％～50％的感光树脂、0.001％～30％的增感剂、0.001％～30％的光致变色材料及30％～95％的溶剂。具体地，感光树脂选自聚酰亚胺、聚羟基苯乙烯、聚羟基苯乙烯的衍生物、聚对羟基苯乙烯、聚对羟基苯乙烯的衍生物、聚酯环族丙烯酸酯及聚酯环族丙烯酸酯的共聚物中的一种。其中，聚对羟基苯乙烯的衍生物例如可以为氟代聚对羟基苯乙烯。聚羟基苯乙烯的衍生物例如可以为1,2-二氢-2-氧代喹啉-4-羧酸酯。聚酯环族丙烯酸酯的共聚物例如可以为对乙酰氧基苯乙烯、丙烯酸叔丁酯和2-甲基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯形成的共聚物。具体地，增感剂选自光敏化合物及光致酸产生剂中的一种。光敏化合物为本领域常规的光敏化合物。具体地，光敏化合物为重氮萘醌或重氮萘醌的衍生物。更具体地，重氮萘醌的衍生物为至少具有一个二叠氮基萘醌磺酸基的二叠氮基萘醌磺酸酯化合物。例如1,2-二叠氮醌4-磺酸酯。光致酸产生剂可以为本领域常规的光敏化合物。具体地，光致酸产生剂选自三苯基锍九氟丁烷磺酸盐(triphenylsulphoniumnonafluorobutanesulfonate)、二苯基碘鎓三氟甲磺酸盐(diphenyliodoinumtrifluoromethanesulfonate)、二苯碘鎓九氟丁磺酸盐(diphenyliodoniumnonafluorobutanesulfonate)、三苯基锍三氟甲磺酸盐(triphenylsulfoniumtrifluoromethanesulfonate)、三嗪(triazines)、噁唑(oxazoles)、惡二唑(oxadiazoles)、噻唑(thiazoles)、代2-吡喃酮(substituted2-pyrones)、苯酚磺酸酯(phenolsulfonicesters)、双磺酰基甲烷(bis-sulfonylmethanes)及双磺酰基重氮甲烷(bis-sulfonyidiazomethanes)中的至少一种。溶剂可以为本领域常规的溶剂。具体地，溶剂选自氯苯、乳酸乙酯、苯甲醚、n-甲基吡咯烷酮、n,n-二甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺、二甲基亚砚、六甲基磷酰三胺、环丁砜、二氧六环、甲苯、二甲苯、苯、二氯甲烷、氯仿及水中的至少一种。进一步地，胶料还包括质量百分含量为0.001％～10％的助剂。助剂为本领域常规的有助于固化黑白图案或调节界定层的性能的物质。具体地，助剂为二甲基碘鎓氢氧化物(dimethyliodoniumhydroxide)或三甲基锍氢氧化物(trimethylsulfoniumhydroxide)。第二分隔部134设置在每个像素单元120的相邻的两个子像素122之间，以分隔每个像素单元120的两个相邻的子像素122，以保证每个像素单元120内的部分子像素122的侧面能够出光，以增加出光效率。进一步地，第二分隔部134也由上述胶料制备得到。需要说明的是，第二分隔部134也可以不采用上述胶料制备得到，第二分隔部可以采用其它透光的材质制备得到，例如，没有添加上述光致变色材料的胶料。由于上述像素结构100的界定层130包括黑色的第一分隔部132及透光的第二分隔部134，第二分隔部134与第一分隔部132共同围设成一网络状结构，第一分隔部132设置在相邻两个像素单元120之间，以分隔相邻的两个像素单元120，以减少相邻像素单元120间的互相干扰和漫散射，第二分隔部134设置在每个像素单元120的相邻的两个子像素122之间，以分隔每个像素单元120的两个相邻的子像素122，以保证每个像素单元120内的部分子像素122的侧面能够出光，以增加出光效率，有利于实现显示装置的高分辨率显示。如图2所示，一实施方式的像素结构100的制备方法，为上述像素结构100的一种制备方法。该方法包括如下步骤：步骤s210：在阵列基板110上形成界定膜，以使界定膜包括第一初始分隔部和第二初始分隔部，且第一初始分隔部与第二初始分隔部共同围设成一网络状结构。其中，第一初始分隔部中含有光致变色材料。该光致变色材料能够在预定波段范围内的光照射下变成黑色，而在预定波段范围外的光照射下呈透光状态。具体地，预定波段范围的光为紫外光。其中，预定波段范围为10nm～400nm。具体地，光致变色材料选自1,2-二氢喹啉、1,2-二氢喹啉的衍生物、螺吡喃染料、螺吩噁嗪染料及金属卤化物中的一种。其中，1,2-二氢喹啉的衍生物例如为1,2-二氢-2-氧代喹啉-4-羧酸酯。更具体地，金属卤化物选自卤化银、卤化锌、卤化镉、卤化铜及卤化镁中的一种。进一步地，按照质量百分含量计，胶料包括：4％～50％的感光树脂、0.001％～30％的增感剂、0.001％～30％的光致变色材料及30％～95％的溶剂。该胶料为一种光刻胶，且为正胶，使得其在曝光处理后，受到光照的部分会变得易溶解，而能够通过显影处理后被溶解，只留下未受光照的部分形成图像。该胶料的制备方法为：将感光树脂、增感剂、光致变色材料及溶剂混合，得到胶料。若胶料中的材料需要在加热条件下才能溶解，此时，将感光树脂、增感剂、光致变色材料及溶剂混合的步骤为：将感光树脂、增感剂、光致变色材料及溶剂加热混合。具体地，感光树脂选自聚酰亚胺、聚羟基苯乙烯、聚羟基苯乙烯的衍生物、聚对羟基苯乙烯、聚对羟基苯乙烯的衍生物、聚酯环族丙烯酸酯及聚酯环族丙烯酸酯的共聚物中的一种。具体地，聚酯环族丙烯酸酯的共聚物例如可以为对乙酰氧基苯乙烯、丙烯酸叔丁酯和2-甲基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯形成的共聚物。具体地，增感剂选自光敏化合物及光致酸产生剂中的一种。光敏化合物为本领域常规的光敏化合物。具体地，光敏化合物为重氮萘醌或重氮萘醌的衍生物。更具体地，重氮萘醌的衍生物为至少具有一个二叠氮基萘醌磺酸基的二叠氮基萘醌磺酸酯化合物。例如1,2-二叠氮醌4-磺酸酯。光致酸产生剂可以为本领域常规的光敏化合物。具体地，光致酸产生剂选自三苯基锍九氟丁烷磺酸盐(triphenylsulphoniumnonafluorobutanesulfonate)、二苯基碘鎓三氟甲磺酸盐(diphenyliodoinumtrifluoromethanesulfonate)、二苯碘鎓九氟丁磺酸盐(diphenyliodoniumnonafluorobutanesulfonate)、三苯基锍三氟甲磺酸盐(triphenylsulfoniumtrifluoromethanesulfonate)、三嗪(triazines)、噁唑(oxazoles)、惡二唑(oxadiazoles)、噻唑(thiazoles)、代2-吡喃酮(substituted2-pyrones)、苯酚磺酸酯(phenolsulfonicesters)、双磺酰基甲烷(bis-sulfonylmethanes)及双磺酰基重氮甲烷(bis-sulfonyidiazomethanes)中的至少一种。溶剂可以为本领域常规的溶剂。具体地，溶剂选自氯苯、乳酸乙酯及苯甲醚、n-甲基吡咯烷酮、n，n-二甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺、二甲基亚砚、六甲基磷酰三胺、环丁砜、二氧六环、甲苯、二甲苯、苯、二氯甲烷、氯仿及水中的至少一种。进一步地，胶料还包括质量百分含量为0.001％～10％的助剂。助剂为本领域常规的有助于固化黑白图案或调节界定层130的性能的物质。具体地，助剂为二甲基碘鎓氢氧化物(dimethyliodoniumhydroxide)或三甲基锍氢氧化物(trimethylsulfoniumhydroxide)。具体地，在阵列基板110上形成界定膜的步骤包括：使用胶料在阵列基板110上形成膜层，对膜层经曝光处理和显影处理，得到界定膜。更具体地，使用胶料在阵列基板110上形成膜层的方法为旋涂、喷涂、刮涂或丝网印刷。曝光处理和显影处理的步骤为：用掩模遮挡部分膜层，使用紫外光对未被掩模遮挡的部分膜层进行曝光处理，然后通过显影处理去除被紫外光照射后的部分膜层。需要说明的是，曝光处理的步骤不限于为上述方式，例如，用掩模遮挡部分膜层，以使紫外光对未被掩模遮挡的部分膜层进行曝光处理，然后通过显影处理去除未被紫外光照射的部分膜层，此时，胶料为含有上述光致变色材料的负胶，那么，为了防止光致变色材料在膜层曝光的时候就变成黑色，在对膜层曝光时，使用波长较短的紫外光对膜层曝光，而光致变色材料选择在较大波长的紫外光下照射才变黑的材料，即光致变色材料变黑所需的紫外光的波长大于对膜层曝光使用的紫外光的波长。或者，还可以直接采用胶料在阵列基板110上形成网络状的透光的界定膜。若直接在阵列基板110上形成网络状的透光的界定膜，第二初始分隔部的材料也可以与第一初始分隔部的材料不同，例如，第二初始分隔部可以使用不含有光致变色材料的上述胶料制备得到。具体地，界定膜的厚度为0.1微米～10微米。步骤s220：对第一初始分隔部进行曝光处理，使所述光致变色材料变成黑色，以得到黑色的第一初始分隔部。具体地，对第一初始分隔部进行曝光处理的步骤包括：用掩模遮盖第二初始分隔部，对第一初始分隔部进行紫外光照射处理，以使光致变色材料在光照下变成黑色，以得到黑色的第一初始分隔部。步骤s230：将界定膜固化处理，得到包括黑色的第一分隔部132和透光的第二分隔部134的界定层130。具体地，固化处理的方法为加热固化。更具体地，加入固化的温度为60℃～500℃。步骤s240：在阵列基板110上设置多个包括多个子像素122的像素单元120，并使第一分隔部132位于相邻两个像素单元120之间，第二分隔部134位于每个像素单元120的相邻的两个子像素122之间。上述像素结构100的制备方法操作简单，易于工业化生产。且上述像素结构100的制备方法制备得到的像素结构100不仅能够减少相邻像素单元120间的互相干扰和漫散射，而且还能够保证每个像素单元120内的部分子像素122的侧面能够出光，以增加出光效率，有利于实现显示装置的高分辨率显示。一实施方式的显示装置，包括上述像素结构100。具体地，显示装置可以为液晶显示器、有机发光二极管显示器或量子点显示器。由于上述像素结构100的黑色的第一分隔部132设置在相邻两个像素单元120之间，以分隔相邻的两个像素单元120，而能够减少相邻像素单元120间的互相干扰和漫散射，透光的第二分隔部134设置在每个像素单元120的相邻的两个子像素122之间，以分隔每个像素单元120的两个相邻的子像素122，能够保证每个像素单元120内的部分子像素122的侧面能够出光，以增加出光效率，从而使得显示装置具较高的分辨率。以下为具体实施例部分(以下实施例如无特殊说明，则不含有除不可避免的杂质以外的其它未明确指出的组分。)：实施例1本实施例的像素结构的制备过程如下：(1)按照表1，将胶料旋涂在阵列基板上，经干燥，形成厚度为d的膜层，用掩模遮挡部分膜层，使用波长为λ1纳米的紫外光对未被掩模遮挡的部分膜层进行曝光处理，然后通过显影处理去除被紫外光照射后的部分膜层，形成包括第一初始分隔部和第二初始分隔部的界定膜，且第一初始分隔部与第二初始分隔部共同围设成一网络状结构。其中，按照质量百分含量(wt％)计，胶料的组成如表2所示。(2)用掩模遮盖第二初始分隔部，按照表1将界定膜在波长为λ2纳米的紫外光光下进行照射处理，以使第一初始分隔部变成黑色。(3)按照表1，将界定膜在t℃加热固化t小时，得到包括黑色的第一分隔部和透光的第二分隔部的界定层。(4)在阵列基板上设置多个包括多个子像素的像素单元，并使第一分隔部位于相邻两个像素单元之间，第二分隔部位于在每个像素单元的相邻的两个子像素之间，得到像素结构。表1d(微米)λ1(纳米)λ2(纳米)t(℃)t(小时)实施例152482482601实施例20.12482482300.5实施例3102482482301实施例421932482000.5实施例581932482001实施例60.82482482600.5实施例732482482300.5实施例862482482601实施例941932482001实施例1072482482601实施例1192482482301实施例1252482482601实施例1381932482001实施例1412482482300.5表2对比例1对比例1的像素结构的制备过程如下：(1)将胶料旋涂在阵列基板上，经干燥，形成厚度为d的膜层，用掩模遮挡部分膜层，使用实施例1相同波长的紫外光对未被掩模遮挡的部分膜层进行曝光处理，然后通过显影处理去除被紫外光照射后的部分膜层，形成网络状的界定膜。其中，对比例1的胶料的组成与实施例1大致相同，区别在于，对比例1中没有光致变色材料，此时，对比例1的胶料的组成为：31.6％的感光树脂、10.5％的增感剂及57.9％的溶剂。(2)将界定膜在实施例1相同的温度和时间下加热固化处理，得到界定层。(3)在阵列基板上设置多个包括多个子像素的像素单元，以使每个子像素位于网络状的界定膜的一个网格中。对比例2对比例2的像素结构的制备过程如下：(1)将胶料旋涂在阵列基板上，经干燥，形成厚度为d的膜层，用掩模遮挡部分膜层，使用实施例1相同波长的紫外光对未被掩模遮挡的部分膜层进行曝光处理，然后通过显影处理去除被紫外光照射后的部分膜层，形成网络状的界定膜。其中，对比例2的胶料的组成与实施例1相同。(2)将界定膜在实施例1相同的波长的紫外光下进行照射处理，以使界定膜变成黑色。(3)将界定膜在实施例1相同的温度和时间下加热固化处理，得到界定层。(4)在阵列基板上设置多个包括多个子像素的像素单元，以使每个子像素位于网络状的界定膜的一个网格中。测试：对实施例1～实施例14和对比例1、对比例2制备得到的像素结构进行高分辨率条件下的对比度测试。测试方法：在室内光照强度为60lux的条件下，分别将像素结构在电流密度为15ma/cm2下的亮度lon和彻底关闭电流的‘黑暗’画面实际亮度(含室内反光)loff，得到前者除以后者的比例(越大表示对比度越好)，得到实施例1～14以及对比例1、对比例2制备得到的像素结构进行分辨率如表3所示。表3从表3中可以看出，实施例1～14的像素结构的对比度至少为2445，均优于对比例1和对比例2的像素结构，显然，实施例1～14的像素结构具有较好的分辨率。以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。当前第1页12