一种非晶金属VI族化合物半导体薄膜与薄膜晶体管的制作方法

文档序号:16239166发布日期:2018-12-11 22:55阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了一种非晶金属VI族化合物半导体薄膜与薄膜晶体管,所述的非晶金属VI族化合物半导体的化学通式为ZnMV或ZnAMV,其中M=In或Sn,A=Al或Ga或Zr或Hf或Ti或Mg或Si或Ge或Nb或Be或Ca或Sr或Ba或Sc或Y或V或Ta或Cr或Mo或W或Re或Ni或Cu或Ag或Au,V=S或Se或Te。非晶金属VI族化合物半导体薄膜具有非晶态结构,室温下禁带宽度0.5~4.5 eV,薄膜厚度10~100 nm。以上述薄膜为沟道层制备薄膜晶体管,具有显著的场效应特性,开关电流比在105量级,场效应迁移率可达27~35 cm2/Vs。

技术研发人员:吕建国;陆波静
受保护的技术使用者:浙江大学
技术研发日:2018.06.26
技术公布日:2018.12.11
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