技术特征：
技术总结
本申请公开了一种排气装置及干法刻蚀设备，排气装置包括排气泵和排气腔体，排气腔体中空且为一框体，排气泵连通排气腔体的中空部分，框体于待刻蚀件的放置位置的周边设置，框体的表面形成有多个排气孔，排气泵通过排气腔体排出待刻蚀件周围的气体。本申请通过将排气腔体于待刻蚀件的放置位置的周边设置，且框体表面包括多个排气孔，通过排气泵从排气腔体中排气，进而使得气体从待刻蚀件四周的多个排气孔中均匀排出。本申请使得待刻蚀件的四周气体流速均匀，保持刻蚀均一性，进而避免刻蚀残留。
技术研发人员：宋德伟
受保护的技术使用者：武汉华星光电技术有限公司
技术研发日：2018.06.28
技术公布日：2018.12.25