技术特征：
技术总结
本发明提供的阵列基板的制作方法，包括：在基板上形成缓冲层，在所述非显示区的缓冲层上形成第一光刻胶图案，并去除未被所述第一光刻胶图案覆盖的缓冲层，以在非显示区上形成第一过孔，在所述非显示区的缓冲层以及所述第一过孔上形成绝缘层，在所述非显示区的绝缘层上形成第二光刻胶图案，并去除未被所述第二光刻胶图案覆盖的绝缘层，以在非显示区上形成第二过孔，其中，所述第二光刻胶图案与所述第一过孔对应，且所述第二过孔与所述第一过孔相连接。通过在非显示区形成第一过孔，并在第一过孔的基础上形成第二过孔，达到了保证膜层的完整性目的，从而提高了产品良率。
技术研发人员：陈彩琴;明星
受保护的技术使用者：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日：2018.07.04
技术公布日：2018.12.07