湿蚀刻设备的制作方法

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种湿蚀刻设备。

背景技术：

薄膜晶体管(thinfilmtransistor，tft)是目前液晶显示装置(liquidcrystaldisplay，lcd)和有源矩阵驱动式有机电致发光显示装置(activematrixorganiclight-emittingdiode，amoled)中的主要驱动元件，直接关系平板显示装置的显示性能。

现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlightmodule)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(thinfilmtransistorarraysubstrate，tftarraysubstrate)与彩色滤光片(colorfilter，cf)基板之间灌入液晶分子，并在两片基板上分别施加像素电压和公共电压，通过像素电压和公共电压之间形成的电场控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线透射出来产生画面。

目前在面板的制作过程中广泛的使用湿蚀刻制程，在湿蚀刻制程所使用的药液在工艺制程过程中，容易通过溅射或者液化的方式残留至蚀刻槽体的盖板(cover)上，蚀刻槽体的盖板上残留的药液随着时间的推移，其浓度会与药液罐(tank)中的药液浓度产生差异，在后续的湿蚀刻工艺制程中，盖板上残留的药液可能被溅射或滴至玻璃基板上，导致局部区域蚀刻不均，出现mura。而现有技术中在湿蚀刻设备的维护保养中，需要作业人员使用水枪对蚀刻槽体的盖板上残留的药液进行清洗，再使用无尘布进行擦拭，维护保养工作量较大，并且作业人员长期处于该工作环境中，对身体有一定伤害；此外，蚀刻槽体的盖板上残留的药液会影响外界对设备内部进行监测与观察，导致获取的制程参数存有一定的误差。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种湿蚀刻设备，能够快速将蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液进行吸收处理，提高产品生产良率。

为实现上述目的，本发明提供了一种湿蚀刻设备，包括：蚀刻槽盖板以及与所述蚀刻槽盖板接触的液体吸收装置；

所述液体吸收装置用于吸收蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液。

所述液体吸收装置包括：驱动单元、与所述驱动单元连接的传动单元以及与所述传动单元连接的液体吸收单元。

所述驱动单元包括电机、与所述电机连接的蜗杆以及与所述蜗杆连接的涡轮。

所述传动单元包括与所述涡轮连接的曲柄、与所述曲柄连接的连杆、与所述连杆连接的连接杆以及与所述连接杆连接的多个摆杆。

所述液体吸收单元包括分别与多个摆杆铰接的多个刮片器，所述多个刮片器与所述蚀刻槽盖板接触。

所述传动单元还包括分别与多个摆杆连接的多个铰链，所述刮片器与摆杆通过铰链连接。

所述刮片器的材料为氟化橡胶、铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯。

所述曲柄、连杆、连接杆及摆杆的材料均为铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯。

所述铰链的材料为铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯。

所述蜗杆及涡轮的材料均为铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯。

本发明的有益效果：本发明的湿蚀刻设备，通过在蚀刻槽盖板上设置液体吸收装置，快速将蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液进行吸收处理，防止蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液被溅射或滴至玻璃基板上，减少因蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液导致的产品异常，改善玻璃基板上的mura，提高产品生产良率，并且在该湿蚀刻设备的维护保养中，不需要设备作业人员手动对蚀刻槽体的盖板上残留的药液进行清洗，减少设备作业人员的工作量以及职业伤害；此外，由于减少了蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液，可以便于设备作业人员对蚀刻槽内部的检测与观察，提升制程参数获取的准确性。

附图说明

为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。

附图中，

图1为本发明的湿蚀刻设备的示意图。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。

请参阅图1，本发明提供一种湿蚀刻设备，包括：蚀刻槽盖板10以及与所述蚀刻槽盖板10接触的液体吸收装置20；

所述液体吸收装置20用于吸收蚀刻槽盖板10上残留的蚀刻药液。

具体的，所述液体吸收装置20包括：驱动单元21、与所述驱动单元21连接的传动单元22以及与所述传动单元22连接的液体吸收单元23；

所述驱动单元21驱动传动单元22开始运动，该传动单元22带动液体吸收单元23在蚀刻槽盖板10运动，从而快速吸收蚀刻槽盖板10上残留的蚀刻药液。

具体的，所述驱动单元21包括电机211、与所述电机211连接的蜗杆212以及与所述蜗杆212连接的涡轮213。

具体的，所述传动单元22包括与所述涡轮213连接的曲柄221、与所述曲柄221连接的连杆222、与所述连杆222连接的连接杆223以及与所述连接杆223连接的多个摆杆224。

具体的，所述液体吸收单元23包括分别与多个摆杆224铰接的多个刮片器231，该多个刮片器231与所述蚀刻槽盖板10接触。

进一步的，所述传动单元22还包括分别与多个摆杆224连接的多个铰链225，所述刮片器231与摆杆224通过铰链225连接。

需要说明的是，首先，驱动单元21的电机211驱动蜗杆212旋转，该蜗杆212带动涡轮213旋转，接着涡轮213带动曲柄221旋转，该曲柄211带动连杆222运动，使连杆222与连接杆223之间的角度、力及力矩发生周期性变化，从而带动连接杆223沿水平方向往复运动，继而该连接杆223带动多个摆杆224沿水平方向来回摆动，最后，多个摆杆224分别带动多个刮片器231在蚀刻槽盖板10上来回摆动，以快速将蚀刻槽盖板10上残留的蚀刻药液进行吸收处理，防止蚀刻槽盖板10上残留的蚀刻药液被溅射或滴至玻璃基板上，减少因蚀刻槽盖板10上残留的蚀刻药液导致的产品异常，改善玻璃基板上的mura，提高产品生产良率，并且在该湿蚀刻设备的维护保养中，不需要设备作业人员手动对蚀刻槽体的盖板上残留的药液进行清洗，减少设备作业人员的工作量以及职业伤害；此外，由于减少了蚀刻槽盖板10上残留的蚀刻药液，可以便于设备作业人员对蚀刻槽内部的检测与观察，提升制程参数获取的准确性。

具体的，所述刮片器231的数量与摆杆224的数量一一对应，本发明可根据蚀刻槽盖板10以及刮片器231的实际面积大小，来设置刮片器231的数量及形状，本发明在此不做限制，只要多个刮片器231能将蚀刻槽盖板10的面积完全覆盖到即可。

具体的，所述刮片器231的材料为氟化橡胶、铁氟龙、聚丙烯(pp)或可熔性聚四氟乙烯(pfa)，以增加刮片器231的耐酸耐碱性，提高耐腐蚀性。

具体的，所述曲柄221、连杆222、连接杆223、摆杆224及铰链225的材料均为铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯，以增加传动单元22的耐酸耐碱性，提高耐腐蚀性。

具体的，所述蜗杆212及涡轮213的材料均为铁氟龙、聚丙烯或可熔性聚四氟乙烯，以增加驱动单元21的耐酸耐碱性，提高耐腐蚀性。

综上所述，本发明的湿蚀刻设备，通过在蚀刻槽盖板上设置液体吸收装置，快速将蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液进行吸收处理，防止蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液被溅射或滴至玻璃基板上，减少因蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液导致的产品异常，改善玻璃基板上的mura，提高产品生产良率，并且在该湿蚀刻设备的维护保养中，不需要设备作业人员手动对蚀刻槽体的盖板上残留的药液进行清洗，减少设备作业人员的工作量以及职业伤害；此外，由于减少了蚀刻槽盖板上残留的蚀刻药液，可以便于设备作业人员对蚀刻槽内部的检测与观察，提升制程参数获取的准确性。

以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。