显示面板及显示模组的制作方法

本申请涉及显示领域，特别涉及一种显示面板及显示模组。

背景技术：

随着显示行业技术的发展，用户对显示面板的外观设计要求越来越高，因此柔性显示面板的设计越来越重要。

现有技术中的显示面板包括弯曲区，所述弯曲区设置有有机填充层以及位于所述有机填充层上的金属走线。所述金属走线的金属材料一般采用钛铝钛(金属钛、金属铝以及金属钛的层叠设置)，而形成此膜层结构会释放大量的热量，导致弯曲区的柔性材料发生不可逆的变化，影响柔性显示面板的弯曲性能。

技术实现要素：

本申请提供一种显示面板及显示模组，以解决现有显示面板弯曲区中柔性材料易损坏的技术问题。

为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：

本申请提供一种显示面板，其包括：

显示区域；

位于所述显示区域外围的非显示区域，所述非显示区域包括弯曲区；

金属走线，位于所述弯曲区；以及

保护层，包括位于所述显示区域的第一部分、以及位于所述弯曲区的第二部分，所述第二部分位于所述金属走线与所述弯曲区内的有机填充层之间。

在本申请的显示面板中，所述显示面板包括基板、以及位于所述基板上的薄膜晶体管层；

其中，所述薄膜晶体管层包括在所述基板上依次堆叠的多层绝缘层、及形成于所述多层绝缘层上的源漏极层。

在本申请的显示面板中，所述有机填充层与所述多层绝缘层具有重叠部分；

所述重叠部分位于所述多层绝缘层上。

在本申请的显示面板中，所述重叠部分包括第一重叠部分和第二重叠部分；

靠近所述显示区域的所述有机填充层的一侧与所述多层绝缘层重叠以形成所述第一重叠部分，远离所述显示区域的所述有机填充层的一侧与所述多层绝缘层重叠以形成所述第二重叠部分。

在本申请的显示面板中，所述多层绝缘层包括第一栅绝缘层、位于所述第一栅绝缘层上的第二栅绝缘层、及位于所述第二栅绝缘层上的间绝缘层；

所述保护层与所述间绝缘层同层设置。

在本申请的显示面板中，所述第一部分与所述第二部分同层设置。

在本申请的显示面板中，所述保护层的膜层厚度为90纳米至110纳米。

在本申请的显示面板中，所述保护层为无机膜层。

在本申请的显示面板中，所述金属走线与位于所述源漏极层同层设置。

本申请还提出了一种显示模组，所述显示模组包括触控层、偏光层、盖板层以及上述显示面板；

其中，所述触控层、所述偏光层及所述盖板层设置于所述显示面板上。

有益效果：本申请通过在弯曲区的有机填充层与位于有机填充层上的金属走线之间设置保护层，避免了所述有机填充层上的金属走线成型时所产生的高温，使所述有机填充层中的柔性材料发生不可逆的变化。另外，保护层防止清洗过程中酸液与柔性材料的接触，保护了弯曲区的柔性材料，提高了显示面板的良率。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例一显示面板的膜层结构图；

图2为本申请实施例二显示面板的膜层结构图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。

请参阅图1，图1为本申请实施例一显示面板的膜层结构图。

所述显示面板100包括显示区域a以及位于所述显示区域a外围的非显示区域b。所述非显示区域b包括弯曲区c。

所述显示面板100还包括设置于所述弯曲区c的金属走线113。

所述显示面板包括基板101、以及位于所述基板101上的薄膜晶体管层10。所述薄膜晶体管层10包括在所述基板101上依次堆叠的多层绝缘层、及形成于所述多层绝缘层上的源漏极层110。

所述薄膜晶体管层10包括蚀刻阻挡层型、背沟道蚀刻型、顶栅薄膜晶体管型、及底栅薄膜晶体管型结构，具体没有限制。

本实施例以顶栅薄膜晶体管型为例进行说明。

请参阅图1，所述薄膜晶体管层10包括缓冲层102、有源层103、第一栅绝缘层104、第一栅极层105、第二栅绝缘层106、第二栅极层107、间绝缘层108、源漏极层110以及平坦层111。在本实施例中，所述多层绝缘层包括第一栅绝缘层104、第二栅绝缘层106、及间绝缘层108。

所述基板101可以为玻璃基板、石英基板、树脂基板等中的一种。所述基板101也可以为柔性基板，所述基板101的材料可以为聚酰亚胺薄膜。

在一种实施例中，所述基板101可以但不限定于采用双层柔性基板，两层柔性基板之间设置氧化硅等无机膜层(未画出)。

所述缓冲层102形成于所述基板101上，主要用于缓冲膜层结构之间的压力、及阻隔外界水氧气。

在一种实施例中，所述缓冲层102的膜层厚度为500纳米。

在一种实施例中，所述缓冲层102的材料可以为氮化硅、氧化硅、或氮氧化硅等中的一者或两者的组合物。

所述有源层103形成于所述缓冲层102上，所述有源层103包括经离子掺杂的掺杂区1031，所述源漏极层110通过第一过孔109与所述有源层103中的所述掺杂区1031电连接。

所述第一栅绝缘层104形成于所述有源层103上。

在一种实施例中，所述第一栅绝缘层104的膜层厚度可以为但不限定于100纳米。

所述第一栅极层105形成于所述第一栅绝缘层104上。

在一种实施例中，所述第一栅极层105的金属材料可以为钼、铝、铝镍合金、钼钨合金、铬、或铜等金属，也可以使用上述几种金属材料的组合物。

所述第二栅绝缘层106形成于所述第一栅极层105上。

在一种实施例中，所述第二栅绝缘层106的材料与所述第一栅绝缘层104的材料相同。

在一种实施例中，所述第一栅绝缘层104的膜层厚度可以为但不限定于120纳米。

所述第二栅极层107形成于所述第二栅绝缘层106上，所述第二栅极层107的材料和所述第一栅极层105的相同。所述第二栅极层107仅作为薄膜晶体管层10中储存电容的一个电极，与所述第一栅极层105的功能不同。

在一种实施例中，所述第一栅极层105和所述第二栅极层107的金属材料可以为钼。

所述间绝缘层108形成于所述第二栅极层107上。

在一种实施例中，所述间绝缘层108的厚度可以为但不限定于500nm。

在一种实施例中，所述间绝缘层108的材料和所述第一栅绝缘层104的材料相同。

所述源漏极层110形成于所述间绝缘层108上。所述源漏极层110通过所述第一过孔109与所述有源层103的掺杂区1031电连接。

所述源漏极层110的金属材料可以为钼、铝、铝镍合金、钼钨合金、铬、铜或钛铝合金等金属中的一种或一种以上的组合物。

在一种实施例中，所述源漏极层110的金属材料可以为钛铝合金。

所述平坦层111形成于所述源漏极层110上。

请参阅图1，所述非显示区域b包括弯曲区c。所述弯曲区c包括基板101、位于所述基板101上的有机填充层112、以及位于所述有机填充层112上的所述金属走线113。所述金属走线113与所述源漏极层110同层设置，在同一道光罩工艺中形成。

在一种实施例中，所述有机填充层112填充有柔性材料。该柔性材料可以采用与基板101相同的聚酰亚胺薄膜，增加所述显示面板100的柔性。

请参阅图1，所述有机填充层112与所述多层绝缘层具有重叠部分，所述重叠部分位于所述多层绝缘层上。所述重叠部分包括第一重叠部分301和第二重叠部分302。靠近所述显示区域a的所述有机填充层112的一侧与所述多层绝缘层重叠以形成所述第一重叠部分301，远离所述显示区域a的所述有机填充层112的一侧与所述多层绝缘层重叠以形成所述第二重叠部分302。

在一种实施例中，所述有机填充层112通过蚀刻工艺在所述弯曲区c内形成。在形成所述间绝缘层108后，去除所述弯曲区c中的缓冲层102、第一栅绝缘层104、第二栅绝缘层106及间绝缘层108，形成凹槽，并在所述凹槽内填充柔性材料以形成所述有机填充层112。

在一种实施例中，所述有机填充层具有一向显示区域a及绑定区(未画出)倾斜的坡度，进一步增加所述有机填充层的所占的比例，提高所述显示面板的柔性。

请参阅图1，所述显示面板100还包括保护层114。

所述保护层114包括位于所述显示区域的第一部分1141、以及位于所述弯曲区c的第二部分1142，所述第二部分1142位于所述金属走线113与所述弯曲区c内的有机填充层112之间。

在一种实施例中，所述第一部分1141与所述第二部分1142同层设置。

在一种实施例中，所述保护层114可以仅包括位于所述弯曲区c的所述第二部分1142，覆盖所述有机填充层112。或者，参阅图1，所述保护层114可以位于所述间绝缘层108与所述源漏极层110之间。

在一种实施例中，所述保护层114的材料为无机膜层。

在一种实施例中，所述保护层114的材料可以为氧化硅、氮化硅等中的至少一种。

在一种实施例中，所述保护层114的膜层厚度可以为90纳米至110纳米。

由于有机填充层112中的柔性材料为有机材料，因此形成所述保护层114的工艺温度不能高于该有机材料的临界值。

在一种实施例中，本申请采用低温成膜工艺形成所述保护层114，所述保护层114可以但不限定于覆盖整个所述显示面板100。

由于所述保护层114的存在，不仅避免了所述金属走线113刻蚀工艺中使用的氢氟酸对所述有机填充层112的腐蚀，而且避免了所述金属走线113成膜时释放的高温能量对有机填充层112的不可逆变化。因此，本实施例不仅解除了有机填充层对柔性材料的限制，而且进一步提高了所述金属走线113的成膜成功率，节省了成本。

请参阅图2，图2为本申请实施例二显示面板的膜层结构图。

本实施例与实施例一相同或相似，不同之处在于：

在一种实施例中，所述保护层214可以为所述多层绝缘层中靠近所述源漏极层210中的间绝缘层208。

在所述显示面板200的显示区域a中，所述显示面板200包括基板201、位于所述基板201上的多层绝缘层、及位于所述多层绝缘层上的源漏极层210。所述多层绝缘层包括第一栅绝缘层204、第二栅绝缘层206、及间绝缘层208。

请参阅图2，所述有机填充层212通过蚀刻工艺在所述弯曲区c内形成。在形成所述第二栅绝缘层206后，去除所述弯曲区c中的缓冲层202、第一栅绝缘层204、第二栅绝缘层206，形成凹槽，并在所述凹槽内填充柔性材料以形成所述有机填充层112。

最后，在所述第二栅绝缘层206上形成所述间绝缘层208，以所述间绝缘层208作为本实施例中的保护层214。

与实施例一类似，所述有机填充层212可以与所述第二栅绝缘层206形成重叠部分(未画出)，本实施例不进行具体介绍。

在一种实施例中，为了保证所述显示面板200的柔性，所述弯曲区c的有机填充层212的厚度尽可能大。因此，本实施例中的所述有机填充层212的厚度大于缓冲层202、第一栅绝缘层204及第二栅绝缘层206的厚度之和。所述有机填充层212与所述基板201的间距可以大于所述第二栅绝缘层206与所述基板201的间距。

与实施例一相似，由于所述有机填充层212中的柔性材料为有机材料，因此位于所述有机填充层212上的保护层214的工艺温度不能高于该有机材料的临界值。本申请采用低温成膜工艺形成所述保护层214(即所述间绝缘层208)；

与具体实施例一相比，实施例二节省了一道光罩，利用低温成膜工艺形成所述保护层214。由于所述保护层214的存在，不仅避免了所述金属走线213刻蚀工艺中使用的氢氟酸对所述有机填充层212的腐蚀，而且避免了所述金属走线213成膜时释放的高温能量对有机填充层212的不可逆变化。

根据本申请的另一个方面，还提供了一种显示模组，所述显示模组包括所述显示面板，还包括在所述显示面板上依次设置的触控层、偏光层和盖板层。

根据本申请的又一个方面，还提供了一种电子装置，所述电子装置包括所述显示模组；所述电子装置包括但不限定于手机、平板电脑、计算机显示器、游戏机、电视机、显示屏幕、可穿戴设备及其他具有显示功能的生活电器或家用电器等。

所述显示模组的工作原理、所述电子装置的工作原理与所述显示面板的工作原理相似，所述显示模组的工作原理以及所述电子装置的工作原理具体可以参考所述显示面板的工作原理。

本申请提供了一种显示面板及显示模组，所述显示面板包括位于所述弯曲区的金属走线及保护层；所述保护层位于所述金属走线与位于所述弯曲区内的有机填充层之间。本申请通过在弯曲区的有机填充层与位于有机填充层上的金属走线之间设置保护层，避免了所述有机填充层上的金属走线成型时所产生的高温，使所述有机填充层中的柔性材料发生不可逆的变化。另外，保护层防止清洗过程中酸液与柔性材料的接触，保护了弯曲区的柔性材料，提高了显示面板的良率。

综上所述，虽然本申请已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。