一种基片承载装置的制作方法

本实用新型涉及半导体生产领域，更具体地，涉及一种基片承载装置。

背景技术：

半导体制造领域中通常需要对基片(又称为衬底)进行各种处理。例如，太阳能电池生产工艺中通常包括基片的刻蚀工艺环节。当刻蚀工艺结束后，需要使用去离子水或其它溶剂将刻蚀溶液最大程度的清洗干净。具体地，承载有基片的载板安装在基片承载装置(例如基片承载花篮)中，机械手提起基片承载装置并将其置于水槽中。经过数分钟的浸泡后将废水排走，重复几次浸泡、排废水即完成清洗过程。

现有的清洗为浸泡清洗，载板与载板之间的缝隙很难清洗完全，残存在载板之间的刻蚀溶液会继续刻蚀载板上的基片，造成基片的过度刻蚀，最终影响产品片的性能。

因此，如何提供一种可充分有效地清洗基片的基片承载装置成为本领域亟需解决的技术难题。

技术实现要素：

本实用新型的一个目的是提供一种可充分有效地清洗基片的基片承载装置的新技术方案。

根据本实用新型的第一方面，提供了一种基片承载装置。

该基片承载装置包括底板、顶板、连接杆、载板定位杆、基片载板和清洗管；其中，

所述连接杆的两端分别与所述底板和所述顶板固定连接，以在所述底板和所述顶板之间形成用于承放所述基片载板的载板承放区；

所述载板定位杆的两端分别与所述底板和所述顶板固定连接；

所述基片载板上设有载板定位孔，且所述基片载板通过所述载板定位孔穿设在所述载板定位杆上，以将所述基片载板定位在所述载板承放区内；

所述清洗管与所述底板和/或所述顶板固定连接，所述清洗管上设有进液口和清洗口，所述清洗口与所述基片载板相对应，以使得自所述进液口进入的洗液通过所述清洗口导向所述基片载板。

可选的，所述底板和所述顶板均具有矩形形状，四根所述连接杆分别位于所述底板和所述顶板的四个角处。

可选的，所述载板定位杆与所述基片载板间隙配合。

可选的，所述基片载板上设有至少两个所述载板定位孔。

可选的，所述底板上设有清洗管过孔；

所述清洗管的一端与所述顶板固定连接，所述清洗管的另一端与所述清洗管过孔相配合。

可选的，所述进液口上设有用于与外部供液管相连接的连接法兰。

可选的，所述进液口位于所述清洗管的一端，所述清洗管的另一端具有封闭部。

可选的，所述清洗口与每两层所述基片载板之间的间隙相对应。

可选的，所述基片载板上设有清洗管豁口，所述清洗管豁口与所述清洗管相适配。

可选的，所述基片承载装置包括至少两列所述基片载板；

所述清洗管位于相邻的两列所述基片载板之间。

本公开的基片承载装置的清洗管可将洗液直接导向基片载板，从而将基片载板之间难以通过浸泡方式去除的刻蚀液去掉，有效避免刻蚀液对基片的过刻蚀。

通过以下参照附图对本实用新型的示例性实施例的详细描述，本实用新型的其它特征及其优点将会变得清楚。

附图说明

被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本实用新型的实施例，并且连同其说明一起用于解释本实用新型的原理。

图1为本公开的基片承载装置实施例的结构示意图。

图2为本公开的基片承载装置的清洗管实施例的剖示图。

图中标示如下：

底板-1，顶板-2，连接杆-3，载板定位杆-4，基片载板-5，载板定位孔-51，清洗管豁口-52，清洗管-6，进液口-61，清洗口-62，连接法兰-63。

具体实施方式

现在将参照附图来详细描述本实用新型的各种示例性实施例。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本实用新型的范围。

以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本实用新型及其应用或使用的任何限制。

对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。

在这里示出和讨论的所有例子中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

为了解刻蚀液清洗不完全的问题，本公开提供了一种基片承载装置。

如图1和图2所示，本公开的基片承载装置包括底板1、顶板2、连接杆3、载板定位杆4、基片载板5和清洗管6。

连接杆3的两端分别与底板1和顶板2固定连接，以在底板1和顶板2之间形成用于承放基片载板5的载板承放区。常用的基片可例如为硅片。连接杆3可通过螺栓连接或焊接的方式与底板和/或顶板2固定连接。载板承放区内可放置有预设数量的基片载板5，例如，载板承放区内放置有一列或数列基片载板5。

载板定位杆4的两端分别与底板1和顶板2固定连接。基片载板5上设有载板定位孔51，且基片载板5通过载板定位孔51穿设在载板定位杆4上，以将基片载板5定位在载板承放区内。通过基片载板5上的载板定位孔51与载板定位杆4之间的配合，基片载板5可固定在载板定位杆4上，从而保证了基片载板5在基片承载装置上的有效固定。

载板定位孔51的数量可根据实际需求灵活设置。具体实施时，为了防止基片载板5在载板承放区内随意窜动，基片载板5上可设置有多个载板定位孔51，相应的载板定位杆4也设置有多根。当多根载板定位杆4与基片载板5上的多个载板定位孔51分别配合时，基片载板5的自由度可被限制为一个，也即是基片载板5仅能沿着载板定位杆4的长度的延伸方向移动。

清洗管6与底板1和/或顶板2固定连接。清洗管6的一端可与底板1或顶板2固定连接，或者，清洗管6的两端分别与底板1和顶板2固定连接。上述固定连接可通过螺栓连接或焊接等方式实现。

清洗管6上设有进液口61和清洗口62。清洗口62与基片载板5相对应，以使得自进液口61进入的洗液通过清洗口62导向基片载板5。清洗管6可沿着基片载板5的排布方向延伸，以更有效地将洗液导向基片载板5。为了保证清洗效果，可提高洗液自清洗口62导出时的压力。具体实施时，可通过增大自进液口61进入清洗管6的洗液的压强，或者封堵清洗管6的端部的方式来提高洗液的导出压力。清洗口62的数量和排布方式可根据需求设置，例如，多个清洗口62沿着清洗管6的长度方向顺次入排布，并且相邻的基片载板5之间的间隙与清洗口62相对应。

为了保证基片承载装置的结构的稳定性，连接杆3、载板定位杆4和清洗管6可平行设置，底板1、顶板2和基片载板5可平行设置，且载板定位杆4和基片载板5可垂直设置。

刻蚀工艺完成后，基片承载装置被移动至空的水槽中。洗液自清洗管6的进液口61进入，并自清洗口62排出。排出的洗液与基片载板5充分接触，有效冲洗基片载板5的间隙之间的刻蚀液。以上冲洗过程可根据需求重复数次。洗液可例如为超纯水。

本公开的基片承载装置的清洗管6可将洗液直接导向基片载板5，从而将基片载板5之间难以通过浸泡方式去除的刻蚀液去掉，有效避免刻蚀液对基片的过刻蚀。

在本公开的基片承载装置的一个实施例中，底板1和顶板2均具有矩形形状，四根连接杆3分别位于底板1和顶板2的四个角处。这种基片承载装置的载板承放区的有效承放面积较大，有利于承放更多的基片载板5。

在本公开的基片承载装置的一个实施例中，为了方便基片载板5沿着载板定位杆4移动，载板定位杆4与基片载板5间隙配合。

在本公开的基片承载装置的一个实施例中，基片载板5上设有至少两个载板定位孔51，以更方便有效地将基片载板5定位在载板定位杆4上。载板定位杆4的数量可与基片载板5上的载板定位孔51的数量相对应。或者，单一的载板定位杆4可根据定位需求选择基片载板5上的某一个载板定位孔51配合。通常，载板定位孔51可分布在基片载板5的不同边沿处，以在多根载板定位杆4分别与不同的载板定位孔51相配合时，限制基片载板5的自由度。例如，当基片载板5为矩形时，两个载板定位孔5可分别设置在基片载板5的相对的两条边上。

在本公开的基片承载装置的一个实施例中，底板1上设有清洗管过孔(图中未示出)。清洗管6的一端与顶板2固定连接，清洗管6的另一端与清洗管过孔相配合。也即是，清洗管6的另一端自清洗管过孔中穿过。这种设置有利于简化基片承载装置的结构，避免清洗管6与周边部件相干涉。

在本公开的基片承载装置的一个实施例中，进液口61上设有用于与外部供液管相连接的连接法兰63。通过连接法兰63与外部供液管上的法兰之间的连接，洗液稳定可靠地自供液管进入清洗管6。

在本公开的基片承载装置的一个实施例中，进液口61位于清洗管6的一端，清洗管6的另一端具有封闭部。封闭部可例如为管塞或焊接在清洗管6的端部上的封闭板。清洗管6上的封闭部可使得清洗管6的一端被封堵，从而提高自清洗口62排出的洗液的压力，以更彻底地清洗掉基片载板5的间隙之间的刻蚀液。

在本公开的基片承载装置的一个实施例中，为了更彻底地清洗掉基片载板5的间隙之间的洗液，清洗口62与每两层基片载板5之间的间隙相对应。这样，相邻基片载板5的间隙均可快速有效地与洗液相接触，从而充分地去除基片载板5的间隙之间的刻蚀液。

在本公开的基片承载装置的一个实施例中，基片载板5上设有清洗管豁口52，清洗管豁口52与清洗管6相适配。清洗管豁口52的设置可使得清洗管6的清洗口62中排出的洗液更高效地进入基片载板5之间的间隙。清洗管豁口52可例如为半圆形的豁口或大半个圆形的豁口。当清洗管豁口52为半圆形豁口时，两列基片载板5上的清洗管豁口52可拼接形成一个与清洗管6相适配的圆形，从而使得载板承放区内的基片载板5排布更加紧凑。

进一步的，为了提高清洗效率，基片承载装置包括至少两列基片载板5，清洗管6位于相邻的两列基片载板5之间。

虽然已经通过例子对本实用新型的一些特定实施例进行了详细说明，但是本领域的技术人员应该理解，以上例子仅是为了进行说明，而不是为了限制本实用新型的范围。本领域的技术人员应该理解，可在不脱离本实用新型的范围和精神的情况下，对以上实施例进行修改。本实用新型的范围由所附权利要求来限定。