技术特征：
技术总结
处理平台具有带机器人的中央传送站和具有大于或等于约0.1重量％水蒸气的环境，连接到传送站的一侧面的预清洁腔室和连接到传送站的一侧面的批量处理腔室。处理平台经构造以预清洁基板，以从第一表面移除原生氧化物，使用烷基硅烷形成阻挡层并选择性地沉积膜。亦描述了使用处理平台和处理多个晶片的方法。
技术研发人员：李宁;米哈拉·鲍尔西努;夏立群;杨冬青;朱拉拉;马尔科姆·J·贝文;特蕾莎·克莱默·瓜里尼;闫文波
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2018.01.24
技术公布日：2019.09.10