技术总结
基板处理装置包含：基板保持单元，包含具有上表面的旋转基座以及立设于所述上表面的多个销，用以通过所述多个销保持基板；阻隔构件，具有：基板对向面，与被所述基板保持单元保持的基板的上表面对向；以及内周面，与被所述基板保持单元保持的基板的外周端以及所述旋转基座的外周端双方对向；旋转单元，使所述旋转基座以及所述阻隔构件绕着预定的旋转轴线旋转；以及正压生成构件，在被所述旋转基座的所述上表面、所述基板对向面以及所述内周面划分的空间中，以能伴随所述阻隔构件以及所述旋转基座中的至少一者的旋转而旋转的方式设置于比所述销还远离所述旋转轴线的位置，且随着所述阻隔构件以及所述旋转基座中的至少一者的旋转将所述正压生成构件的旋转方向后方设定成正压区域。
技术研发人员：岩尾通矩;村元僚
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：2018.08.17
技术公布日：2020.04.24