技术特征：
技术总结
提供了一种等离子体处理装置。所述等离子体处理装置包括：腔室；多个介电窗，覆盖腔室的顶部；盖框架，在同一平面上支撑所述多个介电窗；多个支撑杆，支撑盖框架的顶部；以及多个天线，位于所述多个介电窗上方，其中，所述多个天线包括位于由所述多个支撑杆限定的区域内部并具有环形形式的第一天线以及位于由所述多个支撑杆限定的区域外部并具有环形形式的第二天线，并且第一天线中的第一电流方向与第二天线中的第二电流方向彼此相同。
技术研发人员：赵秀范;柳海永;李珠熙;张容文;许明洙
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：2019.01.09
技术公布日：2019.07.16