设备前端模块的制作方法

本发明涉及一种能向封闭后的输送室供给非活性气体而置换为非活性气体气氛的efem(equipmentfrontendmodule，设备前端模块)。

背景技术：

在专利文献1中记载了一种efem，该efem含有装载口和壳体，上述装载口供收纳有晶圆(半导体基板)的foup(front-openingunifiedpod，前开式晶圆传送盒)载置，通过使装载口与设于前表面壁的开口连接而将上述壳体封闭，上述壳体形成有进行晶圆的输送的输送室，该efem在foup与对晶圆实施预定的处理的处理装置之间进行晶圆的交接。

以往，输送室内的氧、水分等对在晶圆上制造的半导体电路的影响较少，但近年来，随着半导体电路的进一步微细化，上述影响变得明显起来。于是，专利文献1记载的efem构成为利用作为非活性气体的氮来填满输送室内。具体而言，efem具有循环流路、气体供给部件、风扇以及气体排出部件，上述循环流路供氮在壳体的内部循环，由输送室和气体回归通路构成，上述气体供给部件向气体回归通路的上部空间供给氮，上述风扇为多个，配置于气体回归通路的上部空间，将非活性气体送出到输送室，上述气体排出部件自气体回归通路的下部排出氮。根据循环流路内的氧浓度等的变动，适当地供给以及排出氮。由此，能将输送室内保持为氮气氛。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2015-146349号公报

技术实现要素：

发明要解决的问题

但是，在所述专利文献1记载的efem中，气体供给部件与气体回归通路的上部空间连接，自该连接部位即1个部位的供给口供给非活性气体，因此在上部空间内，风扇的吸入侧的压力对于每个风扇而言是不均的，自各风扇向输送室的供给量产生不均。也就是说，在自多个风扇的排列方向的一侧供给非活性气体的情况下，虽然向一风扇供给充分的量的非活性气体，但向另一风扇供给非活性气体的供给量变得比一风扇少。也就是说，在上部空间内，一风扇的吸入侧的压力变得大于另一风扇的吸入侧的压力，自各风扇向输送室供给非活性气体的供给量产生不均。结果，输送室内的非活性气体的气流产生紊乱，产生灰尘易于飞扬的问题。

于是，本发明的目的在于，提供一种能使非活性气体垂直地流到输送室内并且灰尘不易飞扬的efem。

用于解决问题的方案

本发明的efem包括：壳体，通过使装载口与设于分隔壁的开口连接而将所述壳体封闭，所述壳体在内部构成用于输送基板的输送室；基板输送装置，其配置在所述输送室内，进行所述基板的输送；分隔构件，其设在所述壳体内，用于在所述输送室的上方构成上部空间；非活性气体供给部件，其用于向所述上部空间供给非活性气体；连通口，其为多个，形成于所述分隔构件，使所述输送室与所述上部空间连通；鼓风器，其为多个，配置为分别覆盖所述连通口，用于经由所述连通口将所述上部空间的非活性气体输送到所述输送室；气体吸引口，其设在所述输送室的下部，吸引该输送室内的非活性气体；气体回归通路，其使自所述气体吸引口吸引的非活性气体向所述上部空间回归；以及气体排出部件，其用于排出所述输送室内的气体。并且，所述非活性气体供给部件具有在所述上部空间内分散地配置的用于供给非活性气体的多个供给口。

由此，能自多个供给口分散地供给自非活性气体供给部件向上部空间供给的非活性气体。因此，能向整个上部空间无遗漏地供给非活性气体，使上部空间内的多个鼓风器的吸入侧的压力的不均减小。因而，自各鼓风器向输送室供给非活性气体的供给量不易产生不均。结果，在输送室内，易于使非活性气体垂直地流动，灰尘不易飞扬。

在本发明中，优选是，所述供给口构成为，朝向用于分隔所述上部空间和外部空间的所述壳体的分隔壁和所述分隔构件中的任一者的距所述供给口的距离最近的区域供给非活性气体。由此，自供给口供给的非活性气体碰到分隔构件和分隔壁中的任一者，其势头减弱，并且非活性气体沿分隔构件和分隔壁中的任一者流动。因此，自气体回归通路向鼓风器流动的上部空间内的气流不易变紊乱，上部空间内的多个鼓风器的吸入侧的压力的不均进一步减小。因而，进一步抑制自各鼓风器向输送室供给非活性气体的供给量的不均。

另外，在本发明中，优选是，所述气体吸引口在所述输送室的下部设有多个，所述气体回归通路具有第1流路和第2流路，所述第1流路为多个，自多个所述气体吸引口的各个所述气体吸引口朝向上方延伸，所述第2流路与所述多个第1流路连接，所述efem还具有用于向所述上部空间送出所述第2流路内的气体的送出口。由此，使来自输送室的气体经由多个第1流路暂且流到第2流路，而后流到上部空间。通过这样使来自多个第1流路的气体暂且流到第2流路，能够吸收气体在多个第1流路间的流通量的不均。因此，与自各第1流路直接地向上部空间送出气体时相比，自送出口送出气体的送出量稳定，自各鼓风器向输送室供给非活性气体的供给量的不均进一步得到抑制。

另外，在本发明中，优选是，所述第2流路沿所述多个第1流路的排列方向延伸，所述送出口在该排列方向上分别配置在相邻的两个所述第1流路之间。由此，自送出口向上部空间送出气体的送出量更稳定，更进一步抑制自各鼓风器向输送室供给非活性气体的供给量的不均。

另外，在本发明中，优选是，所述送出口在与所述多个鼓风器的排列方向交叉的交叉方向上配置在与所述供给口之间隔着所述鼓风器的位置。由此，自气体回归通路向鼓风器流动的上部空间内的气流不易变紊乱，更进一步抑制自各鼓风器向输送室供给非活性气体的供给量的不均。

另外，本发明的efem在另一观点上，包括：壳体，通过使装载口与设于分隔壁的开口连接而将所述壳体封闭，所述壳体在内部构成用于输送基板的输送室；分隔构件，其设在所述壳体内，用于在所述输送室的上方构成上部空间；连通口，其为多个，形成于所述分隔构件，使所述输送室与所述上部空间连通；鼓风器，其为多个，设于所述连通口，用于将所述上部空间的气体输送到所述输送室；气体吸引口，其为多个，设在所述输送室的下部，吸引该输送室内的气体；以及气体回归通路，其使自各个所述气体吸引口吸引的气体向所述上部空间回归。并且，所述气体回归通路包括：第1流路，其为多个，自所述多个气体吸引口的各个所述气体吸引口延伸；以及第2流路，其与所述多个第1流路连接，使所述气体自所述第1流路流入，并且将所述气体送出到所述上部空间。

由此，使来自输送室的气体经由多个第1流路暂且流到第2流路，而后流到上部空间。通过这样使来自多个第1流路的气体暂且流到第2流路，能够吸收在多个第1流路间的气体的流通量的不均。因此，与自各第1流路直接地向上部空间送出气体时相比，自送出口送出气体的送出量稳定，自各鼓风器向输送室供给气体的供给量的不均得到抑制。

另外，在本发明中，优选是，所述第2流路沿与所述第1流路的延伸方向交叉的方向延伸，在所述气体回归通路内流动的所述气体在自所述第1流路通过所述第2流路时，其气流的朝向改变，并且在自所述第2流路流入所述上部空间时，该气流的朝向也改变。由此，能在第2流路内使第1流路的延伸方向上的气体的流动平稳。因而，与在从第1流路到上部空间不改变气流的朝向的前提下使气体直接流入上部空间的情况相比，能够不易使上部空间内的气流紊乱。

另外，在本发明中，也可以是，所述efem还包括基板输送装置，所述基板输送装置具有基台部和输送部，所述基台部的位置被固定，所述输送部配置在所述基台部的上方，用于输送所述基板，所述基板输送装置配置在所述输送室内，在所述输送室的比利用所述输送部输送基板的输送区域靠下方的位置配置有设置物，在从铅垂方向观察时，所述气体吸引口配置在与所述基台部和所述设置物都不重叠的位置。

发明的效果

采用本发明的efem，能向整个上部空间无遗漏地供给非活性气体，使上部空间内的多个鼓风器的吸入侧的压力的不均减小。因而，自各鼓风器向输送室供给非活性气体的供给量不易产生不均。结果，在输送室内，易于使非活性气体垂直地流动，灰尘不易飞扬。

附图说明

图1是表示本发明的一实施方式的efem及其周边的概略结构的俯视图。

图2是表示图1所示的efem的电气结构的图。

图3是从前方观察图1所示的壳体时的主视图。

图4是沿着图3所示的iv-iv线的剖视图。

图5是沿着图3所示的v-v线的剖视图。

图6是沿着图3所示的vi-vi线的剖视图。

图7是表示门关闭后的状态的装载口的侧剖视图。

图8是表示门打开后的状态的装载口的侧剖视图。

附图标记说明

1、efem；2、壳体；3、输送机器人(基板输送装置)；4、装载口；21a～24a、空间(第1流路)；27a、空间(第2流路)；27f～27h、送出口；28a、开口(气体吸引口)；33、分隔壁；33a1、开口；37、支承板；37a、连通口；37b、区域；41、输送室；42、ffu设置室(上部空间)；43、回归通路(气体回归通路)；44a、风扇(鼓风器)；47、供给管(非活性气体供给部件)；47a、供给口；49、排出管(气体排出部件)；w、晶圆(基板)。

具体实施方式

以下，参照图1～图8说明本发明的一实施方式的efem1。另外，为了方便说明，将图1所示的方向设为前后左右方向。即，在本实施方式中，将efem(equipmentfrontendmodule)1与基板处理装置6排列的方向设为前后方向，将efem1侧设为前方，将基板处理装置6侧设为后方。另外，将与前后方向正交的多个装载口4排列的方向设为左右方向。另外，将与前后方向和左右方向都正交的方向设为上下方向。

(efem及其周边的概略结构)

首先，使用图1和图2说明efem1及其周边的概略结构。图1是表示本实施方式的efem1及其周边的概略结构的俯视图。图2是表示efem1的电气结构的图。如图1所示，efem1含有壳体2、输送机器人3(基板输送装置)、控制装置5以及3个装载口4。在efem1的后方配置有对晶圆w(基板)实施预定的处理的基板处理装置6。efem1利用配置在壳体2内的输送机器人3在基板处理装置6与载置于装载口4的foup(front-openingunifiedpod)100之间进行晶圆w的交接。foup100是能沿上下方向排列地收纳多个晶圆w的容器，在后端部(前后方向上的靠壳体2侧的端部)设有能够开闭的盖101。例如利用公知的oht(空中行走式无人输送车：未图示)输送foup100。在oht与装载口4之间进行foup100的交接。

壳体2用于连接基板处理装置6与3个装载口4。在壳体2的内部形成有输送室41，该输送室41相对于外部空间大致密闭，用于在不使晶圆w暴露于外部空气的前提下输送晶圆w。当efem1运转着时，输送室41被氮填满。另外，在本实施方式中，利用氮填满输送室41，但只要是非活性气体即可，也可以是氮以外的气体(例如氩等)。壳体2构成为使氮在含有输送室41的内部空间循环(详见后述)。另外，在壳体2的后端部设有能够开闭的门2a，输送室41隔着门2a与基板处理装置6连接。

输送机器人3配置在输送室41内，进行晶圆w的输送。输送机器人3具有基台部90(参照图3)、臂机构70(输送部。参照图3)以及机器人控制部11(参照图2)，上述基台部90的位置被固定，上述臂机构70配置在基台部90的上方，保持并输送晶圆w。输送机器人3主要进行将foup100内的晶圆w取出而交付给基板处理装置6的动作、接受由基板处理装置6进行了处理的晶圆w而使晶圆w返回到foup100的动作。

装载口4用于载置foup100(参照图7)。如图1和图5所示，多个装载口4沿壳体2的前侧的分隔壁33在左右方向上排列配置。各装载口4利用位于后端的基座51(参照图7)将形成于壳体2的分隔壁33的3个开口33a1(参照图4)分别封闭。由此，在壳体2内，输送室41构成为大致密闭空间。另外，装载口4构成为能将foup100内的气氛置换为氮。在装载口4的后端部设有作为后述的开闭机构54的一部分的门4a。利用门驱动机构55(开闭机构54的一部分)开闭门4a。门4a构成为能够解除foup100的盖101的锁定，并且能够保持盖101。在门4a保持着被解除了锁定的盖101的状态下，通过使门驱动机构55打开门4a而打开盖101。由此，能够利用输送机器人3取出foup100内的晶圆w。另外，能够利用输送机器人3将晶圆w收纳在foup100内。

如图2所示，控制装置5与输送机器人3的机器人控制部11、装载口4的装载口控制部12以及基板处理装置6的控制部(未图示)电连接，进行与这些控制部的通信。另外，控制装置5与设置在壳体2内的氧浓度计85、压力计86以及湿度计87等电连接，接收这些测量设备的测量结果而把握与壳体2内的气氛相关的信息。另外，控制装置5与供给阀112和排出阀113(后述)电连接，通过调节这些阀的开度而适当地调节壳体2内的氮气氛。

如图1所示，基板处理装置6例如具有装载锁定室6a和处理室6b。装载锁定室6a是隔着壳体2的门2a与输送室41连接的用于使晶圆w暂时性地待机的房间。处理室6b隔着门6c与装载锁定室6a连接。在处理室6b中，利用未图示的处理机构对晶圆w实施预定的处理。

(壳体及其内部的结构)

接下来，使用图3～图6说明壳体2及其内部的结构。图3是从前方观察壳体2时的主视图。图4是沿着图3所示的iv-iv线的剖视图。图5是沿着图3所示的v-v线的剖视图。图6是沿着图3所示的vi-vi线的剖视图。另外，在图3和图6中，省略了分隔壁的图示。另外，在图5中，省略输送机器人3等的图示，用双点划线表示装载口4。

壳体2整体具有大致长方体形状。如图3～图5所示，壳体2具有柱21～柱26、连结管27以及分隔壁31～分隔壁36。在沿上下方向延伸的柱21～柱26安装有分隔壁31～分隔壁36，壳体2的内部空间(输送室41和ffu设置室42)构成为相对于外部空间大致密闭。

更具体而言，如图4所示，在壳体2的前端部，柱21～柱24从左侧朝向右侧相互分开且依次配置。也就是说，4根柱21～柱24沿左右方向排列。另外，如图3所示，柱21～柱24以沿着上下方向的方式竖立设置。柱21由配置在下侧的第1部分21b和配置在上侧的第2部分21c构成，柱24由配置在下侧的第1部分24b和配置在上侧的第2部分24c构成。第1部分21b、24b竖立设置在分隔壁31上，第1部分21b、24b的上端与连结管27连接。另外，柱22、23也竖立设置在分隔壁31上，柱22、23的上端与连结管27连接。上述第1部分21b、24b和柱22、23的上下方向的长度为大致相同的长度。第2部分21c竖立设置在连结管27上且是与第1部分21b沿上下方向重叠的位置，第2部分24c竖立设置在连结管27上且是与第1部分24b沿上下方向重叠的位置。两根柱25、26沿上下方向竖立设置配置于壳体2的后端部的左右两侧。连结管27沿左右方向(4根柱21～柱24的排列方向)延伸，与4根柱21～柱24相互连接。

如图3所示，在壳体2的底部配置有分隔壁31，在顶部配置有分隔壁32。如图4所示，在前端部配置有分隔壁33，在后端部配置有分隔壁34，在左端部配置有分隔壁35，在右端部配置有分隔壁36。在分隔壁33形成有上述3个开口33a1。这3个开口33a1在左右方向上配置在4个柱21～24之间，并由装载口4的基座51封闭。在壳体2的右端部设有载置有后述的对准器84的载置部83(参照图3)。对准器84和载置部83也收纳于壳体2的内侧(参照图4)。

如图5所示，在壳体2内的上侧部分且连结管27的后端侧配置有沿水平方向延伸的支承板37(分隔构件)。由此，将壳体2的内部分为上述的输送室41和形成在输送室41的上方的ffu设置室42。也就是说，在壳体2的内部空间，利用支承板37在输送室41的上方构成作为上部空间的ffu设置室42。

在ffu设置室42内配置有后述的3个ffu(风扇式过滤单元)44。在支承板37的前后方向上的中央部且与ffu44沿上下方向相对的位置，形成有使输送室41与ffu设置室42连通的3个连通口37a。如图6所示，这3个连通口37a沿左右方向排列配置。另外，3个连通口37a在左右方向上配置在4根柱21～柱24之间。另外，壳体2的分隔壁33～分隔壁36分为输送室41用的下部壁和ffu设置室42用的上部壁(例如，参照图5中的前端部的分隔壁33a、33b和后端部的分隔壁34a、34b)。各ffu44以在后述的输送区域200内的气流速度达到期望的值的方式预先确定转速。输送区域200内的气流速度小于1m/s，优选为0.1m/s～0.7m/s，更优选为0.2m/s～0.6m/s，根据目标的值确定各ffu的转速。

接着，说明壳体2的内部的结构。具体而言，说明在壳体2内使氮循环的结构及其周边结构以及配置在输送室41内的设备等。

使用图3～图6说明在壳体2内使氮循环的结构及其周边结构。如图5所示，在壳体2的内部形成有使氮循环的循环通路40。循环通路40由输送室41、ffu设置室42以及回归通路43(气体回归通路)构成。在循环通路40中，自ffu设置室42经过各连通口37a向下方送出洁净的氮，该氮在到达了输送室41的下端部后，经过回归通路43上升而返回到ffu设置室42(参照图5的箭头)。以下，详细地进行说明。

如图5和图6所示，在ffu设置室42设有配置在支承板37上的3个ffu44以及配置在ffu44上的3个化学过滤器45。如图5所示，各ffu44具有风扇44a(鼓风器)和过滤器44b，以覆盖连通口37a的方式配置在支承板37上。如图6中箭头所示，ffu44利用风扇44a从ffu44的周围吸入ffu设置室42内的氮而向下方送出该氮，并且利用过滤器44b去除氮中含有的颗粒(未图示)。化学过滤器45用于去除例如自基板处理装置6被带入循环通路40内的活性气体等。利用ffu44和化学过滤器45净化后的氮自ffu设置室42经由形成于支承板37的连通口37a被送出到输送室41。被送出到输送室41的氮形成层流而流向下方。

回归通路43形成于连结管27和配置在壳体2的前端部的柱21～柱24(在图5中是柱23)。柱21的第1部分21b、柱24的第1部分24b、柱22、23以及连结管27的内部为中空，分别形成能相互供氮流通的空间21a～空间24a、27a(参照图4)。如图4所示，柱21的第1部分21b和柱24的第1部分24b的左右方向的宽度大于柱22、23。也就是说，空间21a、24a(第1流路)的平面尺寸(即，第1部分21b、24b的开口面积)大于空间22a、23a(柱22、23的开口面积)。另外，空间21a～空间24a(第1流路)沿上下方向延伸地形成，并且均自柱21～柱24的下端延伸至连结管27的位置。

连结管27配置在壳体2的前端部。连结管27的空间27a(第2流路)沿左右方向延伸。另外，如图5和图6所示，在连结管27的下表面形成有用于使空间21a～空间24a与空间27a相互连通的连通口27b～连通口27e。另外，如图6所示，在连结管27的上表面形成有朝向ffu设置室42(即，朝向上方)开口的3个送出口27f～27h。这3个送出口27f～27h在左右方向上配置在4根柱21～柱24之间，并且相互具有沿左右方向为长条的矩形俯视形状。另外，3个送出口27f～27h配置在壳体2的前端部。这样，连结管27构成为，在使自4个空间21a～24a流进来的氮暂且合流后，自3个送出口27f～27h向ffu设置室42送出该氮。在氮自空间21a～空间24a向空间27a流动时，其气流的朝向从上方改变为左右方向，并且在自空间27a经由送出口27f～送出口27h流入ffu设置室42时，其气流的朝向从左右方向向上方改变。利用上述这样的空间21a～空间24a、27a构成回归通路43。另外，3个送出口27f～27h配置在与ffu44沿前后方向重叠的位置。也就是说，沿前后方向相邻的送出口27f～送出口27h与ffu44分别对应。并且，3个送出口27f～27h沿左右方向形成为长条，并且具有比较大的开口面积。因此，自各送出口27f～27h向ffu设置室42送出的气体的流动变得平稳，3个ffu44的吸入侧(上侧)的压力的不均减小。另外，如图5所示，自送出口27f～送出口27h向ffu设置室42送出的气体经过分隔壁33与ffu44之间向上方流动。

参照图5进一步具体地说明回归通路43。另外，在图5中表示了柱23，但其他的柱21的第1部分21b、柱24的第1部分24b以及柱22也同样。在柱23的下端部安装有用于使输送室41内的氮易于流入回归通路43(空间23a)的导入管道28。其他的柱21、22、24也同样地安装有导入管道28。另外，柱21、24沿左右方向形成为比柱23宽，所以在所安装的导入管道28处也形成为较宽，但除此部位之外为同样的结构。在导入管道28形成有开口28a，到达了输送室41的下端部的氮能够流入回归通路43。也就是说，开口28a是向回归通路43吸引输送室41内的氮的气体吸引口。另外，开口28a朝向下方地构成。因此，能够不打乱来自上方的气体的流动地顺利吸入自上方到达了分隔壁31的气体。此外，能使在开口28a吸入的气体在气流方向不改变的前提下向上方流动。

在导入管道28的上部形成有越向下方去而越向后方扩宽的扩大部28b。在导入管道28内且在扩大部28b的下方配置有风扇46。风扇46由未图示的电动机驱动，将到达了输送室41的下端部的氮吸入到回归通路43(在图5中是空间23a)并向上方送出，使氮返回到ffu设置室42。返回到ffu设置室42的氮自化学过滤器45的上表面被吸入到ffu44侧，由这些ffu44、化学过滤器45净化，再次经由连通口37a向输送室41被送出。能像以上这样地使氮在循环通路40内循环。

另外，如图3所示，在ffu设置室42的后端上部(即，壳体2的后端部)配置有用于向ffu设置室42(循环通路40)内供给氮的供给管47。供给管47与连接于氮的供给源111的外部配管48连接。在外部配管48的中途部位设有能够改变氮的每单位时间内的供给量的供给阀112。利用上述供给管47、外部配管48、供给阀112以及供给源111构成非活性气体供给部件。另外，在工厂等中设有非活性气体供给线的情况下，将该供给线与供给管47连接即可。因此，非活性气体供给部件也可以只由供给管47构成。

如图3和图6所示，供给管47沿左右方向延伸，形成有3个供给口47a。3个供给口47a沿左右方向相互分开地配置，自供给管47向ffu设置室42内供给氮。如图5和图6所示，这3个供给口47a形成在供给管47的下端，构成为朝向支承板37的与供给管47沿上下方向相对的区域37b(即，支承板37的距供给口47a的距离最近的区域)供给氮。另外，3个供给口47a在左右方向上以与ffu44保持中心相同的位置关系配置。由此，3个供给口47a在前后方向上配置在与送出口27f～送出口27h之间隔着风扇44a的位置。

在自上述这样的供给管47的3个供给口47a向ffu设置室42供给氮时，由于3个供给口47a在ffu设置室42内分散地配置，因此向整个ffu设置室42无遗漏地供给氮。例如在自与壳体2的右端部连接的外部配管48的1个供给口向ffu设置室42内直接供给了氮的情况下，ffu设置室42的右侧部分的压力上升。即，配置在最右侧的ffu44的吸入侧的压力变得大于其他两个ffu44的吸入侧的压力。当这样使ffu44的吸入侧的压力产生较大的不均时，自3个ffu44向输送室41供给氮的供给量易于产生不均。但是，在本实施方式中，由于自沿左右方向相互分开地配置的3个供给口47a供给氮，因此3个ffu44的吸入侧的压力的不均减小。因而，自3个ffu44向输送室41供给氮的供给量稳定，被送出到输送室41的氮形成层流而流向下方。

另外，如图5所示，在装载口4的下端连接有用于排出循环通路40内的气体的排出管49。另外，装载口4与像后述那样收纳有门驱动机构55的收纳室60经由形成于基座51的狭缝51b而连通(参照图7)。并且，排出管49与收纳室60连接。排出管49与例如未图示的排气口相连，在排出管49的中途部位设有能够改变循环通路40内的气体的每单位时间内的排出量的排出阀113。利用上述排出管49和排出阀113构成气体排出部件。

供给阀112和排出阀113与控制装置5电连接(参照图2)。由此，能够相对于循环通路40适当地供给以及排出氮。例如在启动efem1时(包含例如在维护了efme1后进行启动时等)循环通路40内的氧浓度上升的情况下，通过自供给源111经由外部配管48和供给管47向循环通路40供给氮，并经由排出管49排出循环通路40和收纳室60内的气体(气体：含有氮和氧等)，能够降低氧浓度。也就是说，能将循环通路40和收纳室60内置换为氮气氛。另外，当在使efem1运转着时循环通路40内的氧浓度上升了的情况下，也能通过向循环通路40暂时性地供给较多的氮，并经由排出管49与氮一并排出氧，来降低氧浓度。例如在使氮循环的类型的efem1中，为了抑制氮自循环通路40向外部的漏出，并且可靠地抑制大气自外部向循环通路40的进入，需要将循环通路40内的压力保持为比外部的压力稍高。具体而言在1pa(g)～3000pa(g)的范围内，优选为3pa(g)～500pa(g)，更优选为5pa(g)～100pa(g)。因此，当循环通路40内的压力不在预定的范围内时，控制装置5通过改变排出阀113的开度而改变氮的排出流量，将压力调节为达到预定的目标压力。这样，基于氧浓度调整氮的供给流量，基于压力调节氮的排出流量，从而控制氧浓度和压力。在本实施方式中，调整为达到10pa(g)的压力差。

接着，使用图3和图4说明配置在输送室41内的设备等。如图3和图4所示，在输送室41内配置有上述的输送机器人3、控制部收纳箱81、测量设备收纳箱82以及对准器84。控制部收纳箱81例如设置在输送机器人3的基台部90(参照图3)的左侧，并且比利用臂机构70(参照图3)输送晶圆w的输送区域200靠下方地配置。在控制部收纳箱81收纳有上述的机器人控制部11、装载口控制部12。测量设备收纳箱82例如配置在基台部90的右侧，并且比臂机构70的输送区域200靠下方地配置。能将上述的氧浓度计85、压力计86以及湿度计87等测量设备(参照图2)收纳于测量设备收纳箱82。控制部收纳箱81和测量设备收纳箱82相当于本发明的设置物。上述的导入管道28(参照图4)配置在基台部90、控制部收纳箱81以及测量设备收纳箱82的前方。也就是说，在从上下方向(铅垂方向)观察时，开口28a配置在与基台部90、控制部收纳箱81以及测量设备收纳箱82均不重叠的位置(参照图4和图5)。

对准器84用于检测被输送机器人3的臂机构70(参照图3)保持的晶圆w的保持位置自目标保持位置偏离了多少。例如，在利用上述的oht(未图示)输送的foup100(参照图1)的内部，晶圆w可能轻微地移动。于是，输送机器人3将自foup100取出的处理前的晶圆w暂且载置于对准器84。对准器84测量晶圆w由输送机器人3保持在自目标保持位置偏离了多少的位置，将测量结果发送给机器人控制部11。机器人控制部11基于所述测量结果校正臂机构70的保持位置，控制臂机构70，将晶圆w保持在目标保持位置并输送至基板处理装置6的装载锁定室6a。由此，能够正常地进行基板处理装置6对晶圆w的处理。

(装载口的结构)

接着，使用图7和图8说明装载口的结构。图7是表示门关闭后的状态的装载口的侧剖视图。图8是表示门打开后的状态的装载口的侧剖视图。另外，图7和图8是在卸下了位于载置台53下方的外部盖4b(参照图5)的状态下绘制的。

如图7所示，装载口4具有基座51和水平基部52，上述基座51为板状，沿上下方向竖立设置，上述水平基部52自该基座51的上下方向的中央部分朝向前方突出地形成。在水平基部52的上部设有用于载置foup100的载置台53。载置台53在载置有foup100的状态下，能够利用载置台驱动部(未图示)沿前后方向移动。

基座51构成使输送室41与外部空间分隔开的分隔壁33的一部分。从前方观察，基座51具有沿上下方向为长条的大致矩形平面形状。另外，基座51在能与所载置的foup100沿前后方向相对的位置形成有窗部51a。另外，基座51在沿上下方向比水平基部52靠下方的位置形成有能供后述的支承框架56移动的沿上下方向延伸的狭缝51b。狭缝51b只形成在能使支承框架56在贯穿了基座51的状态下上下移动的范围内，并且左右方向的开口宽度减小。因此，收纳室60的颗粒不易自狭缝51b进入输送室41。

装载口4具有能够开闭foup100的盖101的开闭机构54。开闭机构54具有能够封闭窗部51a的门4a以及用于驱动门4a的门驱动机构55。门4a构成为能够封闭窗部51a。另外，门4a构成为能够解除foup100的盖101的锁定，并且能够保持盖101。门驱动机构55含有支承框架56、可动块体58以及滑轨59，上述支承框架56用于支承门4a，上述可动块体58借助滑动支承部件57将支承框架56支承为能沿前后方向移动，上述滑轨59将该可动块体58支承为能相对于基座51沿上下方向移动。

支承框架56支承门4a的后部下方，是在朝向下方延伸了后通过设于基座51的狭缝51b而朝向基座51的前方伸出的大致曲柄状的板状构件。并且，用于支承该支承框架56的滑动支承部件57、可动块体58以及滑轨59设在基座51的前方。即，用于使门4a移动的驱动部位收纳于设在壳体2的外侧且水平基部52的下方的收纳室60。收纳室60由水平基部52、盖61以及基座51包围构成，处于大致密闭状态，盖61为大致箱状，自水平基部52朝向下方延伸。

在盖61的底壁61a连接有上述的排出管49。也就是说，收纳室60与排出管49连接。在本实施方式中，在3个装载口4中的任一者，收纳室60与排出管49都连接。由此，能自排出管49经由收纳室60排出循环通路40的气体。在自排出管49排出气体时，存在于收纳室60内的颗粒也能同气体一起排出。另外，在收纳室60内且在底壁61a上设有与排出管49相对的风扇62。通过这样将风扇62设在收纳室60内，易于抑制颗粒的飞扬，并且易于自收纳室60向排出管49排出气体。在假设设有朝向收纳室60送出输送室41内的气体的风扇的情况下，输送室41内的气流易于产生紊乱，输送室41内的颗粒易于飞扬，但在本实施方式中，由于在收纳室60内配置有风扇62，因此能够抑制输送室41内的颗粒的飞扬。

接着，在以下说明foup100的盖101和门4a的开闭动作。首先，如图7所示，使载置台53朝向后方移动，从而使以与基座51分开的状态载置在载置台53上的foup100与盖101和门4a抵接。此时，利用开闭机构54的门4a解除foup100的盖101的锁定，并且保持盖101。

接着，如图8所示，使支承框架56朝向后方移动。由此，门4a和盖101向后方移动。通过这样，使foup100的盖101打开并且使门4a打开，使壳体2的输送室41与foup100连通。

接着，如图8所示，使支承框架56向下方移动。由此，门4a和盖101向下方移动。通过这样，能使foup100作为搬出搬入口较大程度地开放，在foup100与efem1之间进行晶圆w的移动。另外，在关闭盖101和门4a的情况下，进行与上述相反的动作即可。另外，装载口4的一连串的动作由装载口控制部12控制。

如上所述，采用本实施方式的efem1，由于3个供给口47a在ffu设置室42内分散地配置，因此能向整个ffu设置室42无遗漏地供给氮。因此，ffu设置室42内的3个ffu44的风扇44a(鼓风器)的吸入侧的压力的不均减小。因而，自各风扇44a向输送室41供给氮的供给量稳定，在输送室41内，易于使氮垂直地流动(氮形成层流)，使灰尘不易飞扬。

另外，排出管49与各装载口4的收纳室60连接，经由多个排出管49和多个收纳室60向循环通路40的外部排出气体。因此，与只设有1个排出管49的情况相比，能够无遗漏地排出在输送室41内流向下方的气体。由此，对输送室41内由氮形成的层流的影响减小。另外，输送室41内由氮形成的层流只要至少形成在晶圆w的输送区域200及其上方即可。

另外，在输送室41的比输送区域200靠下方的位置配置有控制部收纳箱81和测量设备收纳箱82(设置物)，在从铅垂方向观察时，开口28a也可以设在与基台部90和设置物都不重叠的位置。

另外，本申请发明人通过层流可视化的实验，在输送机器人3的上方、控制部收纳箱81的上方以及测量设备收纳箱82的上方这3个部位(参照图3的点201、202、203)测量了气流速度，确认了层流的形成状态。在本实施方式中，预先将各ffu的转速确定为使输送区域内的气流速度达到0.3m/s。结果确认到，不会发生因气体与输送机器人3等碰撞而引发的气体向输送区域200的逆流。另外确认到，即使改变来自供给源111(参照图3)供给氮的供给量、风扇46(参照图5)的转速，在上述的3个部位间，气体的流量差也小于30％。也就是确认到，即使在输送区域200内设有设置物，也至少在输送区域200及其上方形成有稳定的层流。

另外，供给口47a构成为朝向支承板37的距供给口47a的距离最近的区域37b供给氮。由此，自供给口47a供给的氮首先碰到支承板37的区域37b，其势头减弱，并且沿支承板37流动。因此，自送出口27f～送出口27h向ffu44流动的ffu设置室42内的气流不易产生紊乱，ffu设置室42内的ffu44的吸入侧的压力的不均减小。因而，进一步抑制自各ffu44的风扇44a向输送室41供给氮的供给量的不均。

作为变形例，供给口47a也可以构成为朝向壳体2的顶部的分隔壁32或后端部的分隔壁34供给氮。在该情况下，与上述同样，自供给口47a供给的氮也减弱势头地流动，进一步抑制自各ffu44的风扇44a向输送室41供给氮的供给量的不均。

回归通路43具有与4个空间21a～24a(第1流路)连接的空间27a(第2流路)，在具有空间27a的连结管27形成有送出口27f～送出口27h，从而使来自输送室41的气体经由4个空间21a～24a暂且流到空间27a，而后流到ffu设置室42。更详细而言，如图6所示，来自空间21a的气体经过空间27a朝向送出口27f流动，来自空间22a的气体经过空间27a朝向左右的送出口27f、27g流动，来自空间23a的气体经过空间27a朝向左右的送出口27g、27h流动，来自空间24a的气体经过空间27a朝向送出口27h流动。通过这样使来自4个空间21a～24a的气体暂且向空间27a流动，能够吸收在4个空间21a～24a之间的气体的流通量的不均。在本实施方式中，空间21a、24a的开口面积大于空间22a、23a，空间21a、24a内的气体的流通量增多，在空间27a使来自各空间21a～24a的气体合流，自各送出口27f～27h向ffu设置室42送出该气体。因此，与自各空间21a～24a直接地向ffu设置室42送出气体时相比，自送出口27f～送出口27h送出气体的送出量稳定，各风扇44a的吸入侧的压力的不均也得到抑制，自各风扇44a向输送室41供给氮的供给量的不均进一步得到抑制。

各送出口27f～27h沿左右方向分别配置在相邻的两个空间21a～24a之间，因此即使在来自该相邻的两个空间21a～24a的气体的流通量存在不均，也能使自送出口27f～送出口27h送出气体的送出量更稳定。因此，更进一步抑制自风扇44a向输送室41供给氮的供给量的不均。

另外，各送出口27f～27h沿前后方向配置在与供给口47a之间隔着风扇44a的位置。由此，自回归通路43向风扇44a流动的ffu设置室42内的气流不易变紊乱，更进一步抑制自各风扇44a向输送室41供给氮的供给量的不均。

以上，说明了本发明的较佳的实施方式，但本发明并不限定于上述的实施方式，只要在权利要求书记载的范围内，就能进行各种各样的改变。在上述的实施方式中，形成于供给管47的3个供给口47a在ffu设置室42内分散地配置，但供给管47也可以在ffu设置室42内分散地配置两个或4个以上的供给口47a。另外，也可以在ffu设置室42配置多孔质管(例如气泡石等)来代替供给管47。在该情况下，多孔质管的多个供给口也在ffu设置室42内分散地配置，能够获得与上述的实施方式同样的效果。

另外，多个供给口47a可以配置在ffu设置室42的任意部位。也就是说，也可以配置在壳体2的前端部侧。另外，作为气体吸引口的开口28a也可以配置于比输送室41的下部靠上方的位置。另外，回归通路43也可以只由作为第1流路的空间21a～空间24a构成，自各空间21a～24a向ffu设置室42直接地送出气体。在该情况下，作为第1流路的空间可以为1个～3个或者5个以上。另外，在回归通路43具有作为第2流路的空间27a的情况下，作为第1流路的空间可以为2个、3个或者5个以上。

另外，各送出口27f～27h也可以不沿左右方向配置在空间21a～空间24a中的相邻的两个空间之间。风扇44a(ffu44)也可以设置2个或者4个以上。在该情况下，连通口37a也与风扇44a对应地在支承板37形成即可。

另外，也可以代替送出口27f～送出口27h地例如在连结管27的整个上表面设置形成有许多孔的金属冲孔网(未图示)等方法，来改变气体的流动。

另外，使形成在柱21～柱24以及连结管27的内部的空间21a～空间24a、27a为回归通路43，但本发明不限定于此。即，回归通路43也可以由其他构件形成。