基板处理装置及基板处理方法与流程

本发明涉及例如在对液晶显示装置等FPD(Flat Panel Display(平板显示器))用玻璃基板等基板进行显影处理之后进行水洗处理的基板处理装置及基板处理方法。

背景技术：

例如，专利文献1中记载了一种基板处理装置，其中，在显影处理槽内，向利用多个搬送辊而被水平地支承并且沿水平方向搬送的基板的上表面供给显影液。通过使显影液在基板的上表面进行积液，从而实施了所谓的旋覆浸没(puddle)式显影处理。作为用于使显影液积液的喷嘴，可使用例如专利文献2中记载的喷嘴。

在上述基板处理装置中，利用多个搬送辊而将基板从显影处理槽搬入水洗槽。在该水洗槽中，水洗用水被供给至所搬送的基板从而将残留于基板上的显影液冲掉。另外，在显影处理槽中，被供给至基板并从基板流下的显影液被回收。上述被回收的显影液被循环供给至喷嘴而得以再利用。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-64312号公报(例如图1)

专利文献2：日本特开2002-324751号公报(例如图4)

技术实现要素：

发明要解决的课题

当基板从显影处理槽进入水洗槽时，存在水洗用水沿着基板的上表面而向显影处理槽逆流的情况。上述逆流的水洗用水混入显影液中。结果，经回收而向喷嘴循环供给的显影液的浓度因水洗用水而变稀。若将像上述那样浓度变稀的显影液供给至基板，则会发生显影能力降低这样的问题。虽然针对处理液为显影液的情况进行了说明，但上述问题在处理液使用蚀刻液、剥离液等其他处理液的情况下也同样会发生。

鉴于上述方面，本发明的目的在于提供能够抑制向基板循环供给的处理液的浓度降低的基板处理装置及基板处理方法。

用于解决课题的手段

方案1涉及的第1发明(基板处理装置)具备：搬送部，其在水平地支承基板的同时将所述基板沿水平方向搬送；第1供给部，其向由搬送部搬送的基板供给第1处理液；第1回收部，其对由第1供给部供给并从基板流下的第1处理液进行回收；循环供给部，其将由第1回收部回收的第1处理液向第1供给部循环供给；除去部，其将附着于由第1供给部供给第1处理液并由搬送部搬送的基板上的第1处理液除去；第2供给部，其在比除去部更靠搬送部的搬送方向的下游侧，供给与第1处理液种类不同的第2处理液；第2回收部，其对由第2供给部供给并从基板流下的第2处理液进行回收；第1浓度测定部，其对第1回收部至循环供给部中的第1处理液的浓度进行测定；和回收范围变更部，其根据由第1浓度测定部得到的测定结果，对利用第1回收部进行的、所述搬送方向上的回收范围进行变更。

方案2涉及的第2发明如第1发明所述，其中还具备：第1处理槽，其形成利用搬送部进行搬送、并且利用第1供给部供给第1处理液的第1处理室；和第2处理槽，其形成利用搬送部进行搬送、并且利用第2供给部供给第2处理液的第2处理室，第1回收部包含第1处理槽的第1底面，并且第2回收部包含第2处理槽的第2底面，所述回收范围变更部具有：分隔部件，其将第1底面与第2底面分隔；和分隔部件移动机构，其根据由第1浓度测定部得到的测定结果而使分隔部件沿搬送方向移动。

方案3涉及的第3发明如第2发明所述，其中，利用分隔部件移动机构进行的、分隔部件的移动范围为从除去部的配置位置至第2供给部的配置位置的范围内。

方案4涉及的第4发明如第1发明所述，其中还具备：第1处理槽，其形成利用搬送部进行搬送、并且利用第1供给部供给第1处理液的第1处理室；和第2处理槽，其形成利用搬送部进行搬送、并且利用第2供给部供给第2处理液的第2处理室，第1回收部包含第1处理槽的第1底面，并且第2回收部包含第2处理槽的第2底面，所述回收范围变更部具有：多个分隔部件，其将第1底面与第2底面分隔并且沿搬送方向设置；预回收配管，其将配置于搬送方向下游侧的分隔部件的上游侧与循环供给部进行流路连接；和阀，其根据由第1浓度测定部得到的测定结果而将预回收配管的流路开闭。

方案5涉及的第5发明如第4发明所述，其中，多个分隔部件中的从配置于最上游侧的分隔部件至配置于最下游侧的分隔部件的范围为从除去部的配置位置至第2供给部的配置位置的范围内。

方案6涉及的第6发明(基板处理方法)包括下述工序：第1供给工序，从第1供给部向在被水平地支承的同时沿水平方向搬送的基板供给第1处理液；第1回收工序，对利用第1供给工序而被供给并从基板流下的第1处理液进行回收；循环供给工序，将利用第1回收工序而被回收的第1处理液向第1供给部循环供给；除去工序，在第1供给工序之后，将附着于在被水平地支承的同时沿水平方向搬送的基板上的第1处理液除去；第2供给工序，在除去工序之后，向在被水平地支承的同时沿水平方向搬送的基板供给与第1处理液种类不同的第2处理液；第2回收工序，对利用第2供给工序而被供给并从基板流下的第2处理液进行回收；第1浓度测定工序，对从第1回收工序至循环供给工序中的第1处理液的浓度进行测定；和回收范围变更工序，根据由第1浓度测定工序得到的测定结果，对利用第1回收部进行的、所述搬送方向上的回收范围进行变更。

发明效果

根据方案1至方案6中任一方案涉及的发明，能够抑制向基板循环供给的处理液的浓度降低。

附图说明

[图1]为示出作为本发明的第1实施方式的基板处理装置的概略侧视图。

[图2]为用于对分隔部件移动机构的动作进行说明的概略俯视图。

[图3]为示出第1实施方式的电连接关系的框图。

[图4]为示出第1实施方式的动作的流程图。

[图5]为示出作为第2实施方式的基板处理装置的概略侧视图。

[图6]为示出第2实施方式的电连接关系的框图。

[图7]为示出第2实施方式的动作的流程图。

[图8]为示出第2实施方式的变形例的概略侧视图。

附图标记说明

2 显影部

3 水洗部

6 搬送部

11、11a～11d 分隔板(分隔部件)

12 分隔板移动机构(分隔部件移动机构)

21 显影槽(第1处理槽)

22 显影喷嘴(第1供给部)

23 排液配管

24 循环罐

25 返回配管

27 气刀(除去部)

31 水洗槽(第2处理槽)

32 液刀(第2供给部)

100、100a 基板处理装置

S 基板

M1 第1浓度计

具体实施方式

以下，参照附图，对本发明的实施方式进行说明。图1为示出作为本发明的第1实施方式的基板处理装置100的概略侧视图。该基板处理装置100为下述装置，其中，针对利用搬送部6而在以水平姿态被支承的同时沿顺着其表面的Y方向(水平方向)搬送的基板S，利用显影部2、水洗部3及排液部4分别实施处理。另外，基板处理装置100具备用于统筹地对装置进行控制的控制部5。

基板S为例如俯视下呈矩形的液晶显示装置用玻璃基板。另外，基板S也可以是有机EL(Electro Luminescence(电致发光))显示装置用玻璃基板、太阳能电池用面板基板、PDP(Plasma Display Panel(等离子体显示面板))用玻璃基板或半导体制造装置用掩模基板等。

搬送部6具备彼此平行地沿Y方向排列的多个搬送辊61。多个搬送辊61被分别配设在显影部2的显影槽21、水洗部3的水洗槽31及排液部4的排液槽41内。另外，虽省略了图示，但在显影槽21的搬送方向上的上游侧(-Y侧)及排液槽41的下游侧(+Y侧)也分别设置有多个搬送辊61。利用未图示的驱动部使得多个搬送辊61分别被绕其轴心而旋转驱动。

显影部2对基板S实施显影处理。更具体而言，显影部2形成于基板S的上表面，针对经规定图案曝光的光致抗蚀剂膜来实施显影处理。显影部2在其内部具备用于形成显影处理空间(第1处理室R1)的、大致箱状的显影槽21(第1处理槽)。在显影槽21的基板S的搬送方向上游侧(-Y侧)，设置有用于将基板S搬入显影槽21内的搬入口FO。另外，显影槽21的基板S的搬送方向下游侧(+Y侧)的下游侧壁以能够将基板S从显影槽21内搬出的方式部分地打开。

在显影槽21内的搬送辊61的上侧(+Z侧)、且接近搬入口FO的位置上，配置有第1供给部即显影喷嘴22。显影喷嘴22具有用于在图示中倾斜地朝向右下方喷出显影液的、在X方向上延伸的狭缝状的喷出口。该喷出口具有与基板S的宽度尺寸(X方向尺寸)相对应的长度。

通过从显影喷嘴22向由搬送部6朝向下游侧(+Y侧)搬送的基板S的上表面喷出显影液，从而使得显影液以积液状态(旋覆浸没状态)被供给至所述上表面(第1供给工序)。关于该显影液的供给动作等，记载于上述专利文献2(日本特开2002-324751号公报)。

显影部2具备向显影喷嘴22循环供给显影液的循环供给部90。循环供给部90具有一端在显影槽21的底面2B开口的排液配管23。排液配管23的另一端与循环罐24进行了流路连接。循环罐24为暂时贮存显影液DL的罐。返回配管25将循环罐24与显影喷嘴22进行流路连接。在返回配管25上介于其间而插入有泵26。

从基板S的上表面向显影槽21的底面2B流下的显影液DL经由排液配管23而被回收至循环罐24(第1回收工序)。循环罐24内的显影液DL被泵26驱动，由此，向显影喷嘴22送液，并从喷出口喷出(循环供给工序)。以上述方式被从显影喷嘴22供给至基板S等的显影液经由循环供给部90而再次从显影喷嘴22喷出。

供给配管93将显影液供给源DG与循环罐24进行流路连接。在供给配管93上设置有将流路开闭的阀94。若阀94被打开，则从显影液供给源DG向循环罐24补充显影液的新液。该补充动作在下述情况下执行：显影液的浓度降低至所期望的显影处理无法实施的程度的情况；将显影液全部更换为新液的情况；等等。

在显影槽21内的搬送辊61的上侧(+Z侧)、且接近下游侧壁的位置上，配置有作为除去部的气刀27。气刀27具有用于在图示中朝向正下方喷出层状的空气(气体)的、在X方向上延伸的狭缝状的喷出口。该喷出口具有与基板S的宽度尺寸(X方向尺寸)相对应的长度。气刀27经由供给配管28而与气体供给源GG进行流路连接。在供给配管28上介于其间而插入有用于将流路开闭的阀29。

若显影液DL在上表面积液、且由搬送部6朝向下游侧(+Y侧)搬送的基板S通过气刀27的下方，则在基板S上积液而附着于基板S的上表面的显影液DL被从基板S除去(除去工序)。具体而言，从气刀27喷出的空气的层流冲撞基板S的上表面。若将基板S以该状态向下游侧搬送，则可利用空气层流来阻止基板S上的显影液DL与基板S一同向下游侧移动。结果，随着基板S的搬送，基板S上的显影液DL从基板S的两侧向侧、上游侧流下，被从基板S上除去。

在显影槽21的底面2B上配置有第1浓度计M1。第1浓度计M1对显影液的浓度进行测定，例如为电导率计。对于第1浓度计M1而言，显影液的浓度越高则显示出越高的电导率，显影液的浓度越低则显示出越低的电导率。第1浓度计M1优选配置于显影槽21内的下游侧、即存在后述水洗用水(纯水)混入显影液的可能性的水洗部3侧。在循环罐24的内部还配置有第2浓度计M2。该第2浓度计M2对贮存于循环罐24内的显影液DL的浓度进行测定，例如为电导率计。

水洗部3对基板S实施水洗处理。水洗部3具备用于在其内部形成水洗处理空间(第2处理室R2)的大致箱状的水洗槽31(第2处理槽)。水洗槽31的基板S的搬送方向上游侧(-Y侧)的上游壁以能够将基板S搬入水洗槽31内的方式部分地打开。另外，在水洗槽31的基板S的搬送方向下游侧(+Y侧)，设置有用于将基板S从水洗槽31内搬出的搬出口PO。

在位于水洗槽31内的搬送辊61的上侧(+Z侧)、且位于上游侧的位置上，配置有液刀32。液刀32在图示中倾斜地朝向右下方而以层状喷出纯水作为水洗用水(即与显影液不同的处理液)。另外，液刀32具有用于将纯水以层状喷出的、在X方向上延伸的狭缝状的喷出口。该喷出口具有与基板S的宽度尺寸(X方向尺寸)相对应的长度。从液刀32向基板S的上表面喷出的纯水一边在比该喷出位置更靠下游侧的基板S的上表面形成纯水的液膜，一边从基板S的两侧向侧或下游端侧流下(第2供给工序)。由液刀32喷出的纯水的喷出方向之所以朝向下游侧，是为了抑制基板S上的纯水CL沿着基板S的上表面而向上游侧逆流。

在液刀32的下游侧，沿Y方向而排列有多个喷雾喷嘴34。在喷雾喷嘴34上，未图示的多个喷出口沿基板S的宽度方向即X方向(其与基板S的搬送方向即Y方向垂直)而设置有多个。喷雾喷嘴34将纯水等水洗液以喷雾状从多个喷出口朝向由多个搬送辊61搬送的基板S的上表面(表面)喷出。另外，为了对基板S的下表面(背面)进行水洗，也可以在水洗槽31内的搬送辊61的下侧(-Z侧)沿Y方向而排列多个喷雾喷嘴。

供给配管36的一端与纯水供给源CG进行了流路连接。在供给配管36上介于其间而插入有阀37，在该介入其间而插入的位置的下游侧，供给配管36分支为多个配管。该多个分支配管的另一端分别与液刀32、多个喷雾喷嘴34进行了流路连接。若阀37打开，则从纯水供给源CG经由供给配管36而从液刀32及多个喷雾喷嘴34喷出纯水。

废液配管33的一端在水洗槽31的底面3B开口，另一端与废液部DR进行了流路连接。对于从液刀32及多个喷雾喷嘴34喷出而向基板S供给后从基板S流下并到达底面3B的纯水、未经由基板S而到达底面3B的纯水而言，其经由废液配管33而朝向废液部DR排出成为废液(第2回收工序)。

在水洗槽31的底面3B上配置有第3浓度计M3。第3浓度计M3对混入至位于底面3B上的纯水CL中的显影液的浓度进行测定，例如为电导率计。第3浓度计M3的配置位置优选配置于水洗槽31内的上游侧、即存在向纯水CL中混入显影液的可能性的显影部2侧。

分隔板11(分隔部件)例如如在图1中以实线示出的那样，为立设于水洗槽31的底面3B上的板状部件。分隔板11以在包含以实线示出的下游侧的位置与以单点划线示出的上游侧的位置之间的范围内自由移动的方式配置。分隔板11跨越宽度方向(X方向)而将显影槽21的底面2B与水洗槽31的底面3B分隔，其作为用于使得不将回收至底面2B上的显影液DL、与回收至底面3B上的纯水CL相互混合的堤而发挥功能。当像这样作为堤而发挥功能时，也可以将并非板状的分隔板11而是其他形状的部件用作分隔部件。分隔板11的上端被设定在比由多个搬送辊61搬送的基板S的下表面的高度位置低的位置。

分隔板11利用分隔板移动机构12而沿Y方向移动，配置于所期望的位置。如上所述，分隔板11的移动范围优选设定于存在显影液DL与纯水CL相互混合的可能性的范围内。例如，优选将从基板S的搬送方向即Y方向上的气刀27的配置位置至液刀32的配置位置之间设定为分隔板11的移动范围。针对分隔板移动机构12，在后文中进行说明。

排液部4实施下述排液处理，即，将作为附着于基板S的表面上的水洗用水的纯水从表面除去，并且将附着于基板S的背面上的纯水从背面除去。排液部4具备用于在其内部形成排液处理空间的大致箱状的排液槽41。在排液槽41的-Y侧，设置有与水洗槽31的搬出口PO连通、且用于将基板S搬入排液槽41内的搬入口PO。另外，在排液槽41的+Y侧，设置有用于将基板S从排液槽41内搬出的搬出口EO。

在排液槽41的内部，配设有上下一对的上气刀44及下气刀45。上气刀44被配置于由多个搬送辊61搬送的基板S的上方。另外，上气刀44具有与基板S的上表面相对、且在X方向上延伸的狭缝状的喷出口，从该喷出口以跨越基板S的X方向的方式供给朝向下方并且朝向上游侧的气体流。同样地，下气刀45具有与基板S的下表面相对、且在X方向上延伸的狭缝状的喷出口，从该喷出口以跨越基板S的X方向的方式供给朝向上方且朝向上游侧的气体流。结果，利用气体流而将附着于基板S的上下两面的纯水吹散而将其除去，进行排液。

接下来，使用图2对分隔板移动机构12进行说明。图2为用于对分隔部件移动机构的动作进行说明的概略俯视图。图2(a)示出在图1中以实线表示的位置配置有分隔板11的状态。图2(b)示出在图1中以单点划线表示的位置配置有分隔板11的状态。

分隔板移动机构12利用滚珠丝杠机构，如图2所示，具有作为螺母的移动部件71。在移动部件71螺合有螺杆轴72。螺杆轴72的一端与马达73的旋转轴联动连结，另一端由轴承74以旋转自由的方式支承。另外，在移动部件71中内置有第1磁石75。

分隔板移动机构12在从显影槽21的底面2B至水洗槽31的底面3B的范围内具有沿Y方向延伸设置的一对导轨77。一对导轨77以滑动自由的方式支承分隔板11的下端。分隔板11设置于从由显影槽21的左侧壁及水洗槽31的左侧壁形成的左侧壁LS的内表面、至由显影槽21的右侧壁及水洗槽31的右侧壁形成的右侧壁RS的内表面的范围内。上述滚珠丝杠机构安装于右侧壁的外表面。

在分隔板11的右侧内表面侧，以隔着右侧壁RS而与第1磁石75相对的方式内置有第2磁石76。第2磁石76具有与第1磁石75相反的磁极，因此，第1磁石75与第2磁石76隔着右侧壁RS而相互吸引。结果，移动部件71与分隔板11将一体地移动。如上所述，由于利用磁力而能够在不在侧壁等中设置孔等的情况下传导驱动力，因此，能够防止显影液、纯水向槽外泄露。

若从图2(a)所示的状态起利用马达73而对螺杆轴72进行旋转驱动，则移动部件71向上游侧(-Y方向)移动。伴随该移动部件71的移动而使得分隔板11向上游侧移动。此后，停止利用马达73进行的驱动，使分隔板11停止在所期望的位置、例如图2(b)所示的位置(回收范围变更工序)。利用分隔板移动机构12的分隔板11的可动范围为从比图2(a)所示的位置(图1中以实线示出的位置)更靠下游侧的位置到比图2(b)所示的位置(图1中以单点划线示出的位置)更靠上游侧的位置为止的范围。另外，构成为可利用分隔板移动机构12使分隔板11停止在该范围内的任意位置。

这里，对显影液进行回收的第1回收部由底面2B、3B、分隔板11的上游侧面、左侧壁LS的内表面、右侧壁RS的内表面、以及显影槽21的上游侧壁的内表面形成。另外，对水洗用水(纯水)进行回收的第2回收部由底面3B、分隔板11的下游侧面、左侧壁LS的内表面、右侧壁RS的内表面、以及水洗槽31的下游侧壁的内表面形成。

通过以上述方式使分隔板11向上游侧移动，从而使得与图2(a)所示的利用对显影液进行回收的第1回收部的回收范围AR1相比，图2(b)所示的回收范围AR2在俯视下变小。如上所述，分隔板11及分隔板移动机构12等作为使利用第1回收部进行的、搬送方向上的回收范围变更的回收范围变更部而发挥功能。

图3为示出上述基板处理装置100的电连接关系的框图。控制部5具备：存储有对于装置的控制而言所必需的动作程序的ROM(Read Only Memory(只读存储器))、在控制时暂时存储数据等的RAM(Random Access Memory(随机存取存储器))、和执行逻辑运算并且统筹地对各部进行控制的CPU(Central Processing Unit(中央处理器))等。另外，在控制部5上电连接有搬送部6、泵26、第1浓度计M1、第2浓度计M2、第3浓度计M3、各阀29、37、94以及马达73等。

接下来，针对第1实施方式的基板处理装置100的动作进行说明。基板处理装置100在利用搬送部6而水平地支承基板S的同时将基板S朝向下游侧搬送。在该基板S的搬送途中，如上所述，在显影部2中，在显影槽21内从显影喷嘴22供给的显影液在基板S的上表面积液而被供给。之后，在利用气刀27而将显影液除去后，将基板S搬入水洗部3。

在水洗部3中，在水洗槽31内利用液刀32而以层状将纯水供给至基板S的上表面。之后，在利用喷雾喷嘴34将纯水喷雾供给至基板S后，将基板S搬入排液部4。在排液部4中，在排液槽41内利用上气刀44及下气刀45而将附着于基板S的上下两面的纯水排液后，将基板S从排液槽41内搬出。

这里，为了提高基于显影部2的显影液的循环效率，优选提高显影液的回收效率。为了提高显影液的回收效率，优选预先如图2(a)所示地将分隔板11的配置位置配置于下游侧从而扩大回收区域。例如，存在下述情况：在从气刀27的配置位置至液刀32的配置位置的范围内通过的基板S的上表面上，残留有未利用气刀27完全除去的微量显影液。有时上述残留的显影液在上述范围内流下。另外，还存在下述情况：从位于比气刀27的配置位置更靠上游侧的基板S的上表面流下的显影液的一部分朝向下游侧而流下。

为了对如上所述从位于比气刀27更靠下游侧的上述范围内等的基板S的上表面流下的显影液进行回收，优选将分隔板11配置于比气刀27更靠下游侧。另外，若将分隔板11配置于比液刀32更靠下游侧，则向在分隔板11的上游侧被回收的显影液中混入纯水的可能性提高。因此，优选的是，即使为了提高显影液的回收效率而将分隔板11配置于下游侧，也要到液刀32的配置位置即将其停下。

另一方面，若在图1的以实线示出的位置(图2(a)所示的位置)配置分隔板11，则有时所回收的显影液的浓度基于如下理由而降低。即，在图1所示的基板S的位置上，有时会在从气刀27的配置位置至液刀32的配置位置的范围内的基板S的上表面上附着纯水。认为该纯水的附着的起因如下：在基板S的上表面，微量的纯水向上游侧逆流，或在水洗槽31内飞散的纯水附着于上表面。

若如上所述地附着于基板S的上表面上的纯水流下至比分隔板11更靠上游侧，则将在通过显影部2被回收的显影液中混入纯水。另外，考虑还有在水洗槽31内飞散的纯水不经由基板S、而直接到达比分隔板11更靠上游侧的情况，在该情况下，也将在通过显影部2被回收的显影液中混入纯水。

若在显影液中混入纯水，则显影液的浓度降低。为了抑制该显影液浓度的降低，执行图4所示的动作。该动作可以在装置的运转过程中进行，也可以在装置的设置(setup)之时执行。

在图4所示的步骤S10(第1浓度测定工序)中，利用相当于本发明的第1浓度测定部的例如第1浓度计M1来主要测定滞留在显影槽21的底面2B上的显影液DL的浓度。换言之，对滞留在图2(a)所示的回收范围AR1内的显影液DL的浓度进行测定。

接下来，在步骤S20中，控制部5对由第1浓度计M1测定的显影液的浓度值是否为设定值以上进行判断。在步骤S20中判断为设定值以上的情况下(“是”的情况下)，持续进行基板处理装置100的动作，或者认定为设置完成而结束该动作。

在步骤S20中判断为小于设定值的情况下(“否”的情况下)，认定为显影液的浓度低、无法利用显影部2执行所期望的显影处理，进入下一步骤S30。步骤S30为使分隔板11移动的工序，例如，利用分隔板移动机构12而将分隔板11从图2(a)所示的下游侧的位置移动至图2(b)所示的上游侧的位置。结果，分隔板11被配置于图1的以单点划线示出的位置(图2(b)所示的位置)，回收显影液的区域变为比回收范围AR1小的回收范围AR2(回收范围变更工序)。

若如上所述地将分隔板11配置于图1的以单点划线示出的位置(图2(b)所示的位置)，则即使在从气刀27的配置位置至液刀32的配置位置的范围内的基板S的上表面上附着的纯水流下，该流下的纯水也不会到达基于显影部2的回收区域，而是在基于水洗部3的回收区域被回收。另外，在水洗槽31内飞散的纯水越过分隔板11而浸入显影槽21内的可能性也降低。需要说明的是，基于水洗部3的回收区域由分隔板11的下游侧面、水洗槽31的内侧面及下游侧内表面形成。

在通过步骤S30而使分隔板11向上游侧移动后，返回至步骤S10并测定显影液的浓度，进入步骤S20。在步骤S20中判断为显影液浓度为设定值以上的情况下(“是”的情况下)，持续进行基板处理装置100的动作，或者认定为设置完成而结束该动作。需要说明的是，在步骤S20中，在显影液浓度尚低于设定值的情况下(“否”的情况下)，再次进入步骤S30，执行使分隔板11进一步向上游侧仅移动规定距离的处理。如上所述，分隔板11的移动动作重复执行，直至在步骤S20中变为设定值以上(直至变为“是”)。

在步骤S10中，作为本发明的第1浓度测定部而使用了第1浓度计M1，但也可以使用第2浓度计M2。第2浓度计M2对贮存在循环罐24内的显影液DL的浓度进行测定，但若如上所述地在所回收的显影液中混入纯水，则由第2浓度计M2测定的显影液的浓度也将降低。

需要说明的是，在由设置于水洗槽31的第3浓度计M3得到的浓度值上升的情况下，显影液的一部分在水洗槽31中被回收并成为废液。在该情况下，基于显影部2的显影液的循环效率降低。因此，优选利用分隔板移动机构12使分隔板11向下游侧移动，从而提高基于显影部2的显影液的回收效率。

在上述第1实施方式中，利用分隔板移动机构12而使分隔板11移动，但也可以是操作者以手动的方式使分隔板11沿搬送方向移动。另外，也可以是操作者更换分隔板11从而对搬送方向上的位置进行变更。

接下来，对本发明的第2实施方式进行说明。图5为示出作为本发明的第2实施方式的基板处理装置100a的概略侧视图。需要说明的是，对于在用于说明第2实施方式的图5、图6、图7中也标注了与第1实施方式相同的标记的部件，由于与第1实施方式相同，因此，在以下的说明中将其省略。

在第1实施方式中，作为回收范围变更部而使用了分隔板11及分隔板移动机构12等，但在第2实施方式中使用了不同的构成。基于第2实施方式的回收范围变更部如图5所示，具备2个分隔板11a、分隔板11b、阀81及预备配管83等。

配置于上游侧的分隔板11a例如以立设于气刀27的下游侧的、显影槽21与水洗槽31的边界部分的底面上的方式被固定。分隔板11b配置于比分隔板11a更靠下游侧，例如，以立设于比液刀32的配置位置更靠上游侧的底面3B上的方式被固定。如上所述，在多个分隔板之中，从配置于最上游侧的分隔板11a至配置于最下游侧的分隔板11b的范围为从气刀27(除去部)的配置位置至液刀32(第2供给部)的配置位置的范围内，这从为了抑制由纯水向显影液中的混入所导致的显影液浓度降低而变更回收范围的方面考虑是优选的。

首先，配管82的一端在位于分隔板11a与分隔板11b之间的底面3B上开口，另一端与阀81进行了流路连接。阀81为三通阀，其在将配管82和预备配管83进行流路连接的位置、与将配管82和配管84进行流路连接的位置之间对阀位置进行切换。预备配管83的一端与阀81进行了流路连接，另一端与排液配管23进行了流路连接。预备配管83的另一端也可以直接与循环罐24进行流路连接。配管84的一端与阀81进行了流路连接，另一端与废液配管33进行了流路连接。配管84的另一端也可以直接与废液部DR进行流路连接。

图6为示出第2实施方式的电连接关系的框图。图6中，代替图3所示的第1实施方式的马达73而示出了阀81。

接下来，对利用基板处理装置100a的动作进行说明。利用显影部2、水洗部3以及排液部4针对基板S进行的处理动作与第1实施方式相同。与第1实施方式同样地，若在回收的显影液中混入纯水，则显影液的浓度降低。为了抑制该显影液浓度的降低，在第2实施方式中执行图7所示的动作。该动作可以在装置的运转过程中执行，也可以在装置的设置之时执行。

此处，作为初始设定，为了扩大显影液的回收区域，图5所示的阀81处于将配管82与预备配管83进行流路连接的阀位置。结果，在分隔板11a与分隔板11b之间流下的显影液等经由配管82、阀81以及预备配管83等而向循环罐送液。

图7为示出第2实施方式的动作的流程图。在图7所示的步骤S10中，利用相当于本发明的第1浓度测定部的例如第2浓度计M2来对贮存于循环罐24内的显影液DL的浓度进行测定。

接下来，在步骤S20中，控制部5对在步骤S10中测定的显影液的浓度值是否为设定值以上进行判断。在步骤S20中判断为设定值以上的情况下(“是”的情况下)，持续进行基板处理装置100a的动作，或者认定为设置完成而结束该动作。

在步骤S20中判断为小于设定值的情况下(“否”的情况下)，认定为显影液的浓度低、无法利用显影部2执行所期望的显影处理，进入下一步骤S30a。步骤S30a为对阀81的流路进行切换的动作。例如，将阀81的阀芯位置切换至配管84侧。结果，在分隔板11a与分隔板11b之间流下的纯水等经由配管82、阀81及配管84等而向废液部DR送液(回收范围变更工序)。

通过以上述方式将阀81切换至废液部DR侧，从而即使在从气刀27的配置位置至液刀32的配置位置的范围内的基板S的上表面上附着的纯水流下，该流下的纯水也不会到达基于显影部2的回收区域(比分隔板11a更靠上游侧的区域)，而是在基于水洗部3的回收区域(比分隔板11a更靠下游侧的区域)中被回收。通过以上述方式对阀81进行切换，从而由回收区域为分隔板11a的上游侧区域及分隔板11a与分隔板11b之间的区域的状态、变更为回收区域仅为分隔板11a的上游侧区域。

在通过步骤S30a而将阀81切换后，返回至步骤S10并测定显影液的浓度，进入步骤S20。在步骤S20中，在显影液浓度变为设定值以上的情况下(“是”的情况下)，结束动作。

接下来，对第2实施方式的变形例进行说明。图8为示出第2实施方式的变形例的概略侧视图。在上述第2实施方式中，作为回收范围变更部而使用了2个分隔板11a及分隔板11b，但在本变形例中，在搬送方向即Y方向上排列有4个分隔板11a、分隔板11b、分隔板11c及分隔板11d。

配置于最上游侧的分隔板11a例如以立设于气刀27的下游侧的、显影槽21与水洗槽31的边界部分的底面上的方式被固定。另外，配置于最下游侧的分隔板11d例如以立设于比液刀32的配置位置更靠上游侧的底面3B上的方式被固定。如上所述，在多个分隔板之中，从配置于最上游侧的分隔板11a至配置于最下游侧的分隔板11d的范围为从气刀27(除去部)的配置位置至液刀32(第2供给部)的配置位置的范围内，这从为了抑制由纯水向显影液中的混入所导致的显影液浓度降低而变更回收范围的方面考虑是优选的。

另外，回收范围变更部具备包括3个阀8a、阀8b及阀8c、分别与上述阀进行流路连接的预备配管9a、预备配管9b及预备配管9c的配管系统。当阀8a被切换至预备配管9a侧时，分隔板11a与分隔板11b之间的区域成为显影液的回收范围。同样地，当阀8b被切换至预备配管9b侧时，分隔板11b与分隔板11c之间的区域成为显影液的回收范围，同样地，当阀8c被切换至预备配管9c侧时，分隔板11c与分隔板11d之间的区域成为显影液的回收范围。

通过以上述方式对3个阀8a、阀8b及阀8c进行切换，从而能够对显影液的回收范围进行变更。回收范围最大的是阀8a、阀8b及阀8c全部被切换至预备配管9a、预备配管9b及预备配管9c侧之时。回收范围最小的是阀8a、阀8b及阀8c全部被切换至废液部DR之时。在本变形例中，通过从最上游侧的阀8a起依次切换至预备配管9a侧(循环罐24侧)，从而能够以4个阶段对回收范围进行变更。

在上述实施方式等中，使用显影液作为第1处理液来进行了说明，但第1处理液也可以是用于对基板上的金属膜等进行选择性蚀刻的蚀刻液、用于将形成于基板上的抗蚀剂膜进行剥离的剥离液等其他处理液。同样地，第2处理液也不限于纯水，只要为能够将第1处理液冲掉的处理液即可。

作为第1浓度计M1等，示例了电导率计，但也可根据第1处理液等的种类而使用其他浓度计、例如电阻率计等。