一种衬底基板的清洗方法与流程

技术总结
本发明公开了一种衬底基板的清洗方法，步骤如下：在衬底基板上形成剥离膜层，所述剥离膜层可与所述衬底基板上的脏污杂质结合；将所述剥离膜层连同与所述剥离膜层结合的脏污杂质从所述衬底基板上去除；对所述衬底基板进行清洗。该清洗方法征对衬底基板上通过常规清洗方法难以除掉的污染物有较好的清洁效果。

技术研发人员：罗志猛;赵云;张为苍
受保护的技术使用者：信利半导体有限公司
技术研发日：2019.05.21
技术公布日：2019.09.20